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水性丙烯酸保护膜胶的制备及残胶的智能检测

水性丙烯酸保护膜胶的制备及残胶的智能检测

作者：卢泽权江西科技师范大学

学位级别：硕士

近年来,表面保护膜胶的需求量和使用量不断增加,保护膜胶表面保护膜胶是一类应用于保护材料表面不受损伤的压敏胶,主要作用是防止基材的表面在运输、加工、使用以及储存过程中被机械划伤或外界腐蚀。本文利用了多种丙烯酸单体,合成了水... 详细信息

近年来,表面保护膜胶的需求量和使用量不断增加,保护膜胶表面保护膜胶是一类应用于保护材料表面不受损伤的压敏胶,主要作用是防止基材的表面在运输、加工、使用以及储存过程中被机械划伤或外界腐蚀。本文利用了多种丙烯酸单体,合成了水性丙烯酸保护膜胶乳液,讨论了各类因素对乳液及成品保护膜胶的影响,并对乳液及成品保护膜胶进行了相关的表征和测试;进而,通过不同的交联单体进行改性,考察了反应性乳化剂和不同交联单体对乳液及成品保护膜胶性能的影响,最终,筛选了性能优异的乳液,配制成品保护膜胶。研究表明,采用核壳种子预乳化半连续法聚合工艺,乳液配方体系中复合乳化剂和引发剂用量分别为单体总量的2wt%和0.6wt%,树脂理论Tg设计为-40℃;,MAA为极性单体且其用量为单体总量的3wt%;链转移剂用量为单体总量的0.5wt%,并在反应过程中分批加入时,乳液聚合过程稳定,所制备的乳液凝胶量少、成膜性好,且成品保护膜胶的耐水、粘结性能较好,符合保护膜胶性能的基本需求。然后分别以甲基丙烯酰胺乙基乙撑脲(MAEEU)、不同种类有机硅单体为交联单体,改善保护膜胶的耐水性能并减少残胶。然后研究了反应型乳化剂乳液及成品保护膜胶的性能的影响。结果表明:乳液配方体系中,以聚合型乳化剂X-128为乳化体系,用量为总单体量的2.5wt%,同时以甲基丙烯酰胺乙基乙撑脲(MAEEU)为交联改性单体且用量为单体总量的0.6wt%,使用0.5wt%硅烷偶联剂C在反应结束前0.5h加入时时可以明显提高压敏胶的耐水白性,乳液聚合过程稳定,所制备的成品保护膜胶,不仅粘结性能适中、且耐水性、耐候性突出,且残胶较少。由于保护膜胶在实际应用中最常见的问题就是残胶,且传统的残胶检测方法存在许多不足之处,本文通过将一种含螺噁嗪基团的光致变色物质与保护膜胶乳液共混,提供了一种保护膜胶残的智能胶检测法,结果表明,光致变色物质的加入量在0.05%时,对保护膜胶性能影响较小,并且使成品胶具有光致变色的特性,这样在保护膜从基材表面揭去后,使用紫外光照射,则有残胶的区域会发生变色现象,以此方法可以对残胶进行方便快捷的检测。

关键词：丙烯酸乳胶保护膜胶耐水性残胶光致变色

一种采用铜牺牲层去除负性光刻胶残胶的工艺方法

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机电工程技术 2021年第7期50卷 101-104页

作者：丁飞杨志峰张帅邹赫麟大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室辽宁大连116024

提出一种采用铜薄膜作牺牲层去除负性光刻胶残胶的方法,利用铜薄膜在湿法腐蚀过程中的侧蚀现象,将基底的平均残胶量从13.4个/mm^(2)减小到0.2个/mm^(2)。分别测试了金、铬和铜薄膜湿法腐蚀的侧蚀,实验表明铜最适合作牺牲层材料。测试了... 详细信息

提出一种采用铜薄膜作牺牲层去除负性光刻胶残胶的方法,利用铜薄膜在湿法腐蚀过程中的侧蚀现象,将基底的平均残胶量从13.4个/mm^(2)减小到0.2个/mm^(2)。分别测试了金、铬和铜薄膜湿法腐蚀的侧蚀,实验表明铜最适合作牺牲层材料。测试了不同厚度铜薄膜的侧蚀速率,实验表明在腐蚀初期,厚度越薄侧蚀速率越快,但侧蚀的不均匀性越严重,当铜薄膜厚度为200 nm时,去除残胶效果最好。

关键词：残胶铜薄膜牺牲层湿法腐蚀金属侧蚀

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利用双层胶方法去除负性光刻胶残胶效果研究

机电技术 2018年第3期41卷 78-82页

作者：黎晨王秋森王兴王上飞邹赫麟大连理工大学机械工程学院辽宁大连116024

提出了一种双层胶工艺去除表面残胶的新方法,即以正性光刻胶为底层胶膜、负性光刻胶为顶层胶膜,能有效地去除基底残胶。研究了正性光刻胶粘度和厚度对平均残胶量的影响,实验表明:转速为3000 r/min、厚度为1.36μm旋涂的低粘度正胶AZ703... 详细信息

提出了一种双层胶工艺去除表面残胶的新方法,即以正性光刻胶为底层胶膜、负性光刻胶为顶层胶膜,能有效地去除基底残胶。研究了正性光刻胶粘度和厚度对平均残胶量的影响,实验表明:转速为3000 r/min、厚度为1.36μm旋涂的低粘度正胶AZ703对去胶有明显效果;研究了底层胶膜缩进距离d和图形完整性的关系,实验表明:当底层胶膜缩进距离d达到8μm时,图案完整,且使顶层胶膜与基底接触面积最小化,达到进一步减少残胶的效果。

关键词：残胶 AZ703 粘度厚度缩进距离

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中香糖残胶——城市脸上的雀斑

健康 2009年第2期 27-29页

作者：许广浩

残酷的现状口香糖是一种供人们咀嚼,带有甜味的树胶食品,又称为胶姆糖。1848年,作为商品出售的口香糖在美国诞生。随后越来越多的人开始咀嚼这种东西,二战后风靡世界。口香糖不仅可以清洁口腔残渣、清除口腔异味,而且能放松心情、锻炼... 详细信息

残酷的现状口香糖是一种供人们咀嚼,带有甜味的树胶食品,又称为胶姆糖。1848年,作为商品出售的口香糖在美国诞生。随后越来越多的人开始咀嚼这种东西,二战后风靡世界。口香糖不仅可以清洁口腔残渣、清除口腔异味,而且能放松心情、锻炼咀嚼肌,所以很多人喜欢吃。

关键词：口香糖残胶纳米涂料天安门广场城市环境雀斑国际化大都市清理地面污染

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表面保护膜形成残胶的机理和对策

粘接 2007年第1期28卷 63-64页

作者：曾志平王艳薇襄樊航天化学动力总公司湖北襄樊441003 西安向阳航天材料股份公司襄樊分公司湖北襄樊441003

对丙烯酸酯压敏胶表面保护膜的内聚破坏、粘基破坏、迁移残留等3种残胶现象进行了分类说明,提出了剥离强度经时变化、老化、与被保护表面相容、拉伸效应、黏弹性效应等5种残胶的机理,并提出了相应的解决方案。

关键词：表面保护膜残胶机理对策

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浅谈印制板压合凹点凹陷的分析改善与研究

印制电路资讯 2024年第1期 104-107页

作者：鲁永兴惠州市骏亚精密电路有限公司广东惠州516083

随着电子产品的精密化、小型化,压合层数越来越高,板面线路越来越密集,报废率越来越高。本文主要从凹点凹陷的产生机理,以及通过现象PP粉纤维丝凹点凹陷,铜粉凹点凹陷,异物类凹点凹陷,流胶屑凹点凹陷,牛皮纸屑凹点凹陷,铁屑、油污异物... 详细信息

随着电子产品的精密化、小型化,压合层数越来越高,板面线路越来越密集,报废率越来越高。本文主要从凹点凹陷的产生机理,以及通过现象PP粉纤维丝凹点凹陷,铜粉凹点凹陷,异物类凹点凹陷,流胶屑凹点凹陷,牛皮纸屑凹点凹陷,铁屑、油污异物凹点凹陷,不明异物等各个方面来研究探讨凹点凹陷是如何产生的,具体有什么表现,可以制定什么方法来改善,进而提高品质,减少不良报废。

关键词：残胶介质层凹陷纤维丝

PMMA/PVA双支撑膜辅助铜刻蚀法:一种改进的石墨烯转移技术

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材料导报 2019年第2期33卷 230-233页

作者：王胜涛卢维尔王桐夏洋中国科学院微电子研究所微电子仪器设备研究中心北京100029 北京交通大学理学院北京100044 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室北京100029 中国科学院大学北京101407

石墨烯具有高载流子迁移率、高热导率、高力学强度等独特性能,可应用于微电子器件、生物传感器、燃料电池、储能器件等,在许多领域拥有广阔的发展前景。如何转移得到少残胶、无破损的石墨烯是其在电子器件中应用必须解决的问题。常规的... 详细信息

石墨烯具有高载流子迁移率、高热导率、高力学强度等独特性能,可应用于微电子器件、生物传感器、燃料电池、储能器件等,在许多领域拥有广阔的发展前景。如何转移得到少残胶、无破损的石墨烯是其在电子器件中应用必须解决的问题。常规的基于铜刻蚀法的石墨烯转移技术存在因聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)溶解不彻底、残留在石墨烯表面而造成污染的不足。鉴于此,本工作提出了PMMA/PVA双支撑膜辅助铜刻蚀法,即在铜刻蚀法中引入高水溶性的聚乙烯醇(PVA,醇解度98%)作为高强度PMMA和石墨烯之间的阻隔层,构成双支撑膜。光学显微镜(OM)、拉曼(Raman)光谱及电学性能测试的结果表明,该方法转移得到的石墨烯残胶少、表面洁净,具有高的结晶特性,并且其背栅场效应晶体管(BGFET)表现出良好的载流子迁移率。此外,该方法操作简便,同时还是一种潜在的用于多种二维材料转移的普适技术。

关键词：石墨烯转移聚乙烯醇(PVA) 残胶铜刻蚀法聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA) 支撑膜

耐热型超低剥离力保护膜压敏胶的制备及性能研究

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信息记录材料 2022年第5期23卷 8-11页

作者：李娜王茜马慧君骆小红姜伟中国乐凯集团有限公司河北保定071054

溶剂型丙烯酸酯压敏胶具有光学性能好、润湿性佳、干燥速度快、易于加工等特点。实验采用丙烯酸异辛酯、丙烯酸丁酯、丙烯酰胺、丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸甲酯等单体,通过自由基共聚的方法,制备了耐热型超低剥离力保护膜压敏胶,并利用... 详细信息

溶剂型丙烯酸酯压敏胶具有光学性能好、润湿性佳、干燥速度快、易于加工等特点。实验采用丙烯酸异辛酯、丙烯酸丁酯、丙烯酰胺、丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸甲酯等单体,通过自由基共聚的方法,制备了耐热型超低剥离力保护膜压敏胶,并利用红外、核磁、拉力机、持粘力测试仪对产品进行了表征,发现丙烯酰胺加入量1%、甲基丙烯酸甲酯加入量1.5%,得到的产品剥离力小于15 g/25 mm,耐温180℃无残胶。

关键词：压敏胶耐高温剥离力残胶

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基于灰色关联的AR保护膜涂胶制程参数优化

塑料 2019年第6期48卷 91-95页

作者：梅阳寒舒盛荣樊开夫杨卫平陈永刚东莞职业技术学院机电工程学院广东东莞523808 华东交通大学江西南昌330013 东莞市质量监督检测中心广东东莞523808 江西省农业机械化技术推广监测站江西南昌330013

针对触摸屏保护膜脱胶、残胶和剥离强度差等工艺问题,总结传统涂胶工艺特点,采用正交实验L16(2^4)分析了压合温度、滚轮压力、预热时间和保压时间等,四种工艺参数对保护膜粘结性能的影响,基于灰色关联和响应曲面分析方法对AR保护膜粘结... 详细信息

针对触摸屏保护膜脱胶、残胶和剥离强度差等工艺问题,总结传统涂胶工艺特点,采用正交实验L16(2^4)分析了压合温度、滚轮压力、预热时间和保压时间等,四种工艺参数对保护膜粘结性能的影响,基于灰色关联和响应曲面分析方法对AR保护膜粘结力学性能进行了多目标优化,得知影响粘结性能的主要因素为滚轮压力和压合温度,其次为保压时间,最后为预热时间。得出最佳的性能条件为:温度160℃、压力120 kg/cm^2、预热时间15 s、保压时间140 s;对优化组合工艺和传统经验法结果进行180°剥离测试和显微观察,优化工艺参数组合获得的表面形态发生了明显的相分离,微孔面积增长了4倍,粘结性能提升20%,验证了方案的有效性,对涂胶工艺的改进具有指导意义。

关键词：灰色关联响应曲面田口法 AR保护膜剥离强度残胶