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负偏压对电弧离子镀CrAlN涂层组织和性能的影响

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东北大学学报（自然科学版） 2018年第7期39卷 981-984,989页

作者：蔺增陈彬乔宏赵晓波东北大学机械工程与自动化学院辽宁沈阳110819 重庆新恒基真空镀膜有限公司重庆402760

采用电弧离子镀技术在高速钢基底上沉积Cr Al N涂层.对Cr Al N涂层的表面形貌、微观组织、显微硬度、结合强度、摩擦学性能进行了分析,研究了负偏压对Cr Al N涂层组织和性能的影响.结果表明:在一定范围内随着负偏压的增加,涂层表面大颗... 详细信息

采用电弧离子镀技术在高速钢基底上沉积Cr Al N涂层.对Cr Al N涂层的表面形貌、微观组织、显微硬度、结合强度、摩擦学性能进行了分析,研究了负偏压对Cr Al N涂层组织和性能的影响.结果表明:在一定范围内随着负偏压的增加,涂层表面大颗粒数量逐渐减少,涂层变得更加致密;但过大的负偏压导致离子轰击作用过强,使涂层表面再次出现缺陷.当负偏压为-200 V时,涂层的晶粒尺寸最小,并具有良好的结晶度.涂层的显微硬度和结合强度均随负偏压的增加呈现出先增加后减小的趋势.当负偏压为-200 V时,显微硬度达到最大值,为28.6 GPa,同时具有最好的摩擦学性能.

关键词：负偏压表面形貌微观结构机械性能摩擦学性能

负偏压下Ag@AgBr/CNT/Ni等离子体膜电极的光电催化性能和反应机理

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中国有色金属学报 2020年第2期30卷 401-410页

作者：李爱昌卢艳红李青曹冉赵娣廊坊师范学院化学与材料科学学院廊坊065000

为了制备高效和稳定的表面等离子体薄膜催化剂和探索其光催化和光电催化降解有机污染物的规律,用恒电流复合电沉积方法制备了Ag@AgBr/CNT/Ni薄膜。在负偏压和可见光作用下,以罗丹明B(RhB)为模拟污染物测定了薄膜的光电催化性能和稳定性... 详细信息

为了制备高效和稳定的表面等离子体薄膜催化剂和探索其光催化和光电催化降解有机污染物的规律,用恒电流复合电沉积方法制备了Ag@AgBr/CNT/Ni薄膜。在负偏压和可见光作用下,以罗丹明B(RhB)为模拟污染物测定了薄膜的光电催化性能和稳定性。采用电化学技术和向反应体系加入活性物种捕获剂的方法对薄膜光电催化机理进行了探索。结果表明:最佳工艺下制备的Ag@AgBr/CNT/Ni薄膜具有极高的光电催化活性、极为显著的光电协同效应和良好的催化稳定性。催化反应3.0 min,Ag@AgBr/CNT/Ni膜电极光电催化RhB(c=5 mg/L)的降解率为93.8%,是相同时间Ag@AgBr/Ni薄膜降解率的5.4倍,是P25 TiO2/ITO多孔薄膜的23.4倍。相对于不加偏压的光催化,降解率提高了9.7倍。在保持薄膜催化活性基本不变的前提下,可重复使用5次。薄膜中具有突出SPR效应的纳米Ag和碳纳米管对溶解氧的催化还原作用是光电催化活性和稳定性提高的主要原因。在负偏压和可见光作用下,超氧负离子自由基、羟基自由基与染料正离子自由基对染料的光电催化降解有决定性作用。

关键词： Ag@AgBr/CNT/Ni薄膜表面等离子体共振负偏压光电催化反应机理

负偏压和本底真空度对Al膜表面形貌和耐蚀性能的影响

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中国表面工程 2020年第4期33卷 128-135页

作者：胡方勤曹振亚张青科杨丽景宋振纶中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江省海洋材料与防护技术重点实验室宁波315201 中国科学技术大学纳米科学技术学院合肥230026

采用电弧离子镀技术在烧结钕铁硼表面沉积Al薄膜。利用表面轮廓仪、扫描电镜、激光共聚焦、电化学工作站和盐雾试验箱分析了负偏压和本底真空度对镀层形貌、性能和沉积速率的影响。结果表明,镀层表面的液滴数量和粒径随负偏压和本底真... 详细信息

采用电弧离子镀技术在烧结钕铁硼表面沉积Al薄膜。利用表面轮廓仪、扫描电镜、激光共聚焦、电化学工作站和盐雾试验箱分析了负偏压和本底真空度对镀层形貌、性能和沉积速率的影响。结果表明,镀层表面的液滴数量和粒径随负偏压和本底真空度的增加而减小;沉积速率与负偏压成反比,而与本底真空度成正比。在负偏压为-100 V时沉积速率最大,达到4.85μm/h。随着负偏压和本底真空度的增加,腐蚀电流密度减小,耐盐雾时长增加,负偏压为-200 V时Al/NdFeB样品具有较好的耐蚀性。

关键词： Al薄膜电弧离子镀负偏压本底真空度耐蚀性

负偏压下(Ni-Mo)/TiO_2膜电极光电催化降解罗丹明B的性能和机理

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化学学报 2013年第5期71卷 815-821页

作者：李爱昌李健飞刘亚录张建平赵丽平卢艳红廊坊师范学院化学与材料科学学院河北廊坊065000 石家庄学院石家庄050035

用复合电沉积方法制备了(Ni-Mo)/TiO2薄膜电极,以扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman Spectra)和紫外-可见漫反射光谱(DRS)对薄膜的表面形貌、晶相结构和光谱特性进行了表征,在负偏压和可见光作用下,以罗丹明B为模拟... 详细信息

用复合电沉积方法制备了(Ni-Mo)/TiO2薄膜电极,以扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman Spectra)和紫外-可见漫反射光谱(DRS)对薄膜的表面形貌、晶相结构和光谱特性进行了表征,在负偏压和可见光作用下,以罗丹明B为模拟污染物研究了薄膜的光电催化性能.采用电化学技术和向溶液中加入活性物种捕获剂的方法对薄膜光电催化降解机理进行了探索.结果表明:(Ni-Mo)/TiO2薄膜是由粒径为50～100 nm的TiO2纳米粒子相和纳米晶Ni-Mo固溶体相构成的复合薄膜.薄膜具有较高的光电催化活性,在-0.4 V偏压和可见光照射下反应60 min,复合薄膜光电催化罗丹明B(c=5 mg/L)的降解率是多孔TiO2(P25)/ITO纳米薄膜的1.56倍.复合薄膜电极中Ni-Mo纳米晶合金对溶解氧和激发电子还原反应的催化作用是光电催化降解活性提高的重要原因.通过调节外加偏压,可以控制电极溶液界面间染料与活性氧化物种的存在形式及其相互作用,是研究可见光催化降解反应历程的有效方法.在负偏压和可见光作用下,羟基自由基和染料正离子自由基对染料的光电催化降解有决定性作用.

关键词： (Ni-Mo) TiO2薄膜光电催化负偏压罗丹明B 机理

负偏压对磁控溅射TaN薄膜微观结构和性能的影响

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中国有色金属学报 2013年第7期23卷 1923-1930页

作者：薛雅平曹峻喻利花许俊华江苏科技大学江苏省先进焊接技术重点实验室镇江212003

采用磁控溅射技术制备一系列不同负偏压的TaN薄膜。分别采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、原子力显微镜、纳米压痕仪和高温摩擦磨损仪研究不同负偏压对单层TaN薄膜的微观结构、表面形貌、力学性能和摩擦性能的影响。结果表明：TaN薄膜... 详细信息

采用磁控溅射技术制备一系列不同负偏压的TaN薄膜。分别采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、原子力显微镜、纳米压痕仪和高温摩擦磨损仪研究不同负偏压对单层TaN薄膜的微观结构、表面形貌、力学性能和摩擦性能的影响。结果表明：TaN薄膜主要为面心δ-TaN和斜方Ta 4 N晶体结构，择优取向随着负偏压的不同而不同；当负偏压为80 V时，TaN薄膜的硬度和弹性模量均达到最大值，分别为30.103和317.048 GPa，并且此时薄膜的膜？基结合最强；常温下单层TaN薄膜的摩擦因数与负偏压关系不大，基本保持在0.64~0.68之间；高温下，随着温度的升高，摩擦因数逐渐降低。

关键词： TaN薄膜负偏压微观结构摩擦性能

负偏压对磁控溅射Ti膜沉积速率和表面形貌的影响

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强激光与粒子束 2008年第3期20卷 505-508页

作者：段玲珑吴卫东何智兵许华唐永建徐金城兰州大学物理科学与技术学院材料物理与化学实验室兰州730000 中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900

采用直流磁控溅射加负偏压的方法制备了Ti膜,研究了不同偏压条件对Ti膜沉积速率、密度、生长方式及表面形貌的影响。随着偏压逐渐增大,Ti膜沉积速率分三个阶段变化:0^-40 V之间沉积速率基本不变;-40^-80 V之间沉积速率迅速降低;超过-80 ... 详细信息

采用直流磁控溅射加负偏压的方法制备了Ti膜,研究了不同偏压条件对Ti膜沉积速率、密度、生长方式及表面形貌的影响。随着偏压逐渐增大,Ti膜沉积速率分三个阶段变化:0^-40 V之间沉积速率基本不变;-40^-80 V之间沉积速率迅速降低;超过-80 V后沉积速率随偏压的下降速度又放缓。Ti膜密度随偏压增加而增大,负偏压为-119.1 V时开始饱和并趋于块体Ti材密度。加负偏压能够抑制Ti膜的柱状生长方式;偏压可以改善Ti膜的表面形貌,对于40 W和100 W的溅射功率,负偏压分别在-100 V和-80 V左右时制备出表面光洁性能较佳的Ti膜。

关键词： Ti薄膜磁控溅射负偏压沉积速率表面形貌

负偏压在电弧离子镀沉积TiN/TiCN多层薄膜中的作用

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金属热处理 2001年第7期26卷 17-20页

作者：黄美东林国强董闯孙超蒋长荣黄荣芳闻立时大连理工大学三束材料改性国家重点实验室中国科学院金属研究所沈阳110016 中国科学院金属研究所

用电弧离子镀方法在高速钢、不锈钢与铜基体上沉积合成TiN/TiCN多层薄膜 ,在其他参数不变的情况下只改变负偏压 ,着重考察不同负偏压下薄膜的沉积温度、膜基结合强度、显微硬度以及表面形貌等 ,研究基体负偏压在沉积多层薄膜中所起的作... 详细信息

用电弧离子镀方法在高速钢、不锈钢与铜基体上沉积合成TiN/TiCN多层薄膜 ,在其他参数不变的情况下只改变负偏压 ,着重考察不同负偏压下薄膜的沉积温度、膜基结合强度、显微硬度以及表面形貌等 ,研究基体负偏压在沉积多层薄膜中所起的作用。结果表明 ,负偏压影响沉积温度 ,负偏压值越大 ,温度越高 ;负偏压值增大 ,表面形貌中的大颗粒数量减少 ,薄膜质量得到改善 ;负偏压在 - 30 0V左右时 ,膜基结合强度与硬度出现对应最佳性能点的峰值。

关键词：电弧离子镀负偏压多层薄膜氮化钛碳氮化钛

负偏压对多弧离子镀制备的(Ti,Cr)N膜的影响

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稀有金属材料与工程 2010年第A1期39卷 316-319页

作者：付志强王成彪李金丽于翔彭志坚中国地质大学(北京) 北京100083

利用扫描电子显微镜、原子力显微镜等手段研究负偏压对多弧离子镀制备的(Ti,Cr)N薄膜表面缺陷、表面粗糙度、化学成分、沉积速率及硬度的影响。结果发现:随着负偏压的增加,(Ti,Cr)N薄膜的液滴受到抑制,表面粗糙度下降,沉积速率降低,硬... 详细信息

利用扫描电子显微镜、原子力显微镜等手段研究负偏压对多弧离子镀制备的(Ti,Cr)N薄膜表面缺陷、表面粗糙度、化学成分、沉积速率及硬度的影响。结果发现:随着负偏压的增加,(Ti,Cr)N薄膜的液滴受到抑制,表面粗糙度下降,沉积速率降低,硬度增加,但负偏压对薄膜的Cr含量影响较小。

关键词： (Ti,Cr)N薄膜多弧离子镀负偏压表面缺陷

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负偏压与磁场对微弧氧化涂层表面结构的影响

真空科学与技术学报 2020年第11期40卷 1022-1028页

作者：平静崔学军宁闯明莫格赵桂波四川轻化工大学材料科学与工程学院材料腐蚀与防护四川省重点实验室自贡643000

为了揭示真空条件下氩离子、氩离子/负偏压、靶材/负偏压三种清洗工艺,以及负偏压与磁场协同作用对微弧氧化(MAO)涂层表面结构、厚度、硬度及粗糙度的影响规律,采用MAO和多弧离子镀技术在镁合金AZ31B表面制备镀层,利用扫描电子显微镜考... 详细信息

为了揭示真空条件下氩离子、氩离子/负偏压、靶材/负偏压三种清洗工艺,以及负偏压与磁场协同作用对微弧氧化(MAO)涂层表面结构、厚度、硬度及粗糙度的影响规律,采用MAO和多弧离子镀技术在镁合金AZ31B表面制备镀层,利用扫描电子显微镜考察镀层的微观形貌;纳米压痕仪、测厚仪、粗糙度仪等手段考察镀层的厚度、硬度以及粗糙度随处理工艺变化的规律。当靶基距离为380 mm时,氩离子清洗的MAO涂层表面无明显变化;氩离子与负偏压协同作用时,MAO涂层表面的突起物随负偏压增加而减少,清洗效果变好;但负偏压超过500 V时,二者协同作用形成深孔而破坏了MAO涂层,失去MAO涂层对镁合金基体的保护作用。当Al靶与负偏压协同清洗时,负偏压超过200 V也致使MAO涂层呈现深孔特征。引入磁场沉积MAO/Al镀层时,由于磁场的磁过滤作用使得镀层表面沉积物分布均匀,无明显大颗粒熔滴。施加负偏压清洗容易破坏MAO涂层的表面结构,其与氩离子协同清洗时不应高于500 V,与铝靶协同清洗时应不高于200 V。与单一的负偏压或磁场沉积镀层相比,二者协同作用能获得致密均匀的厚MAO/Al镀层。

关键词：微弧氧化多弧离子镀负偏压磁场 MAO/Al镀层