负偏压和本底真空度对Al膜表面形貌和耐蚀性能的影响

作     者：胡方勤 曹振亚 张青科 杨丽景 宋振纶 HU Fangqin;CAO Zhenya;ZHANG Qingke;YANG Lijing;SONG Zhenlun

作者机构：中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江省海洋材料与防护技术重点实验室宁波315201 中国科学技术大学纳米科学技术学院合肥230026 

出 版 物：《中国表面工程》 (China Surface Engineering)

年 卷 期：2020年第33卷第4期

页      面：128-135页

核心收录：

学科分类：080503[工学-材料加工工程] 0817[工学-化学工程与技术] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：宁波市“科技创新2025”重大专项项目(2019B10100、2019B10094、2020Z045) 

主　　题：Al薄膜 电弧离子镀 负偏压 本底真空度 耐蚀性 

摘      要：采用电弧离子镀技术在烧结钕铁硼表面沉积Al薄膜。利用表面轮廓仪、扫描电镜、激光共聚焦、电化学工作站和盐雾试验箱分析了负偏压和本底真空度对镀层形貌、性能和沉积速率的影响。结果表明,镀层表面的液滴数量和粒径随负偏压和本底真空度的增加而减小;沉积速率与负偏压成反比,而与本底真空度成正比。在负偏压为-100 V时沉积速率最大,达到4.85μm/h。随着负偏压和本底真空度的增加,腐蚀电流密度减小,耐盐雾时长增加,负偏压为-200 V时Al/NdFeB样品具有较好的耐蚀性。