负偏压对电弧离子镀CrAlN涂层组织和性能的影响

作     者：蔺增 陈彬 乔宏 赵晓波 LIN Zeng;CHEN Bin;QIAO Hong;ZHAO Xiao-bo

作者机构：东北大学机械工程与自动化学院辽宁沈阳110819 重庆新恒基真空镀膜有限公司重庆402760 

出 版 物：《东北大学学报（自然科学版）》 (Journal of Northeastern University(Natural Science))

年 卷 期：2018年第39卷第7期

页      面：981-984,989页

核心收录：

学科分类：0810[工学-信息与通信工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0701[理学-数学] 0812[工学-计算机科学与技术（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(51775096) 中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(N141008001/2) 沈阳市科学技术计划项目(Y17-0-003 F16-080-8-00) 

主　　题：负偏压 表面形貌 微观结构 机械性能 摩擦学性能 

摘      要：采用电弧离子镀技术在高速钢基底上沉积Cr Al N涂层.对Cr Al N涂层的表面形貌、微观组织、显微硬度、结合强度、摩擦学性能进行了分析,研究了负偏压对Cr Al N涂层组织和性能的影响.结果表明:在一定范围内随着负偏压的增加,涂层表面大颗粒数量逐渐减少,涂层变得更加致密;但过大的负偏压导致离子轰击作用过强,使涂层表面再次出现缺陷.当负偏压为-200 V时,涂层的晶粒尺寸最小,并具有良好的结晶度.涂层的显微硬度和结合强度均随负偏压的增加呈现出先增加后减小的趋势.当负偏压为-200 V时,显微硬度达到最大值,为28.6 GPa,同时具有最好的摩擦学性能.