检索结果-南通市图书馆

溅射沉积功率对PZT薄膜的组分、结构和性能的影响

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红外与毫米波学报 2004年第4期23卷 313-316页

作者：李新曦赖珍荃王根水孙璟兰赵强褚君浩南昌大学物理系江西南昌330047 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室上海200083

用射频 (RF)溅射法在镀LaNiO3 (LNO)底电极的Si片上沉积PbZr0 .52 Ti0 .48O3 (PZT)铁电薄膜 ,沉积过程中基底温度为 370℃ ,然后在大气环境中对沉积的PZT薄膜样品进行快速热退火处理 (6 5 0℃ ,5min) .用电感耦合等离子体发射光谱 (ICP ... 详细信息

用射频 (RF)溅射法在镀LaNiO3 (LNO)底电极的Si片上沉积PbZr0 .52 Ti0 .48O3 (PZT)铁电薄膜 ,沉积过程中基底温度为 370℃ ,然后在大气环境中对沉积的PZT薄膜样品进行快速热退火处理 (6 5 0℃ ,5min) .用电感耦合等离子体发射光谱 (ICP AES)测量其组分 ,X射线衍射 (XRD)分析PZT薄膜的结晶结构和取向 ,扫描电子显微镜 (SEM)分析薄膜的表面形貌和微结果 ,RT6 6A标准铁电综合测试系统分析Pt/PZT/LNO电容器的铁电与介电特性 .结果表明 ,PZT薄膜的组分。

关键词：射频溅射沉积功率钙钛矿结构铁电薄膜 PZT 扫描电子显微镜分析

磁控溅射法制备的PZT非晶薄膜光学性质研究

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红外与毫米波学报 2004年第3期23卷 181-184,188页

作者：胡志高赖珍荃黄志明王根水石富文褚君浩中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室上海200083

采用磁控溅射方法在石英玻璃上制备了PbZrxTi1-xO3 (PZT) (x =0 .5 2 )非晶薄膜 ,并测量了 2 0 0～ 110 0nm的紫外可见近红外透射光谱 .基于薄膜的结构和多层结构的透射关系 ,发展了仅有 6个拟合参数的光学常数计算模型 .利用该模... 详细信息

采用磁控溅射方法在石英玻璃上制备了PbZrxTi1-xO3 (PZT) (x =0 .5 2 )非晶薄膜 ,并测量了 2 0 0～ 110 0nm的紫外可见近红外透射光谱 .基于薄膜的结构和多层结构的透射关系 ,发展了仅有 6个拟合参数的光学常数计算模型 .利用该模型 ,可以同时获得薄膜在宽波段范围内的光学常数和厚度 ,得到折射率的最大值为 2 .6 8,消光系数的最大值为 0 .5 6 2 ,拟合薄膜厚度为 318.1nm .根据Tauc′s法则 ,得到PZT非晶薄膜的直接禁带宽度为 3.75eV .最后。

关键词：磁控溅射法 PZT非晶薄膜禁带宽度折射率透射率消光系数

DC磁控溅射制备的TiN_x薄膜组分及性能分析

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红外与毫米波学报 2010年第4期29卷 245-247页

作者：李海翼赖珍荃朱秀榕胡敏南昌大学物理系江西南昌330031

利用DC磁控溅射法在p-Si(111)衬底上制备了TiNx薄膜.利用X射线能谱仪(EDX)、X射线衍射(XRD)、紫外/可见分光光度计、四探针电阻率测试仪等分析了薄膜的组分、结构和光电特性.结果表明,薄膜中N/Ti原子比接近于1;衬底温度对薄膜的择优取... 详细信息

利用DC磁控溅射法在p-Si(111)衬底上制备了TiNx薄膜.利用X射线能谱仪(EDX)、X射线衍射(XRD)、紫外/可见分光光度计、四探针电阻率测试仪等分析了薄膜的组分、结构和光电特性.结果表明,薄膜中N/Ti原子比接近于1;衬底温度对薄膜的择优取向影响显著,240℃附近是TiNx薄膜结晶择优取向由(111)向(200)转变的临界点;薄膜在近红外波段平均反射率随衬底温度的升高,先增大后减小;薄膜的电阻率随着衬底温度的升高而显著降低.

关键词：氮化钛薄膜磁控溅射反射率电阻率

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Nd薄膜靶表面氧化过程研究

强激光与粒子束 1997年第2期9卷 289-292页

作者：赖珍荃陈建荣杜保旗陈玲燕王珏同济大学物理系南昌大学物理系

用Ａｕｇｅｒ电子能谱（ＡＥＳ）对Ｘ光激光实验使用的Ｎｄ薄膜靶的表面氧化进行了分析，结合Ａｒ离子束刻蚀进行元素的深度分布剖析，得到了表面氧化层厚度，所得结果与Ｒｕｔｈｅｒ－ｆｏｒｄ背散射（ＲＢＳ）方法测量的结果相吻合。... 详细信息

用Ａｕｇｅｒ电子能谱（ＡＥＳ）对Ｘ光激光实验使用的Ｎｄ薄膜靶的表面氧化进行了分析，结合Ａｒ离子束刻蚀进行元素的深度分布剖析，得到了表面氧化层厚度，所得结果与Ｒｕｔｈｅｒ－ｆｏｒｄ背散射（ＲＢＳ）方法测量的结果相吻合。实验表明，样品暴露在空气中２０至３０ｍｉｎ，氧化即基本达到饱和，相应的氧化层厚度约为２０ｎｍ。

关键词： X光激光 AES 钕薄膜靶表面氧化激光

IBM PC/XT与多8031单片机的异步通讯

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微电子学与计算机 1992年第7期9卷 32-35页

作者：龚向东赖珍荃周聪江西大学物理系南昌330047

本文介绍一种IBM PC/XT和多8031单片机所组成的串行通讯系统,文中给出了该系统的硬件结构以及多机通讯软件的设计。

关键词：微机异步通讯

不同氧气流量对直流磁控溅射TiO2薄膜的影响

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光子学报 2012年第10期41卷 1247-1250页

作者：樊晓娟赖珍荃李睿南昌大学物理系

采用直流反应磁控溅射法,以高纯Ti为靶材,高纯O2为反应气体,制备了TiO2薄膜.研究了氧气流量对薄膜结晶取向、表面形貌和光学性能的影响.研究发现,TiO2薄膜主要呈锐钛矿TiO2(101)择优取向,当氧气流量较小时,薄膜中还含有金属Ti(100),氧... 详细信息

采用直流反应磁控溅射法,以高纯Ti为靶材,高纯O2为反应气体,制备了TiO2薄膜.研究了氧气流量对薄膜结晶取向、表面形貌和光学性能的影响.研究发现,TiO2薄膜主要呈锐钛矿TiO2(101)择优取向,当氧气流量较小时,薄膜中还含有金属Ti(100),氧气流量较大时,薄膜含TiO2(101)和TiO2(004),成多晶态;薄膜的粗糙度和颗粒大小都随氧气流量的增大而增大;薄膜在400～1 100nm可见-近红外波段有较高的透射率并且其吸收峰随着氧气流量的增大而红移,当氧气流量为5sccm时,平均透射率最高.

关键词： TiO2薄膜直流磁控溅射氧气流量透射率

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磁控溅射TiN薄膜的工艺及电学性能研究

功能材料 2009年第2期40卷 222-225页

作者：胡敏刘莹赖珍荃刘倩朱秀榕南昌大学机电工程学院江西南昌330031 南昌大学物理系江西南昌330031

采用反应直流磁控溅射法，在Si基底上制备TiN薄膜。研究了溅射沉积过程申溅射气压和Ar／N2气体流量比对TiN薄膜结构及其电学性能的影响，并对试验结果进行了分析。研究发现，在Ar／N2气体流量比为15：1时，TiN薄膜的表面均方根粗糙度和... 详细信息

采用反应直流磁控溅射法，在Si基底上制备TiN薄膜。研究了溅射沉积过程申溅射气压和Ar／N2气体流量比对TiN薄膜结构及其电学性能的影响，并对试验结果进行了分析。研究发现，在Ar／N2气体流量比为15：1时，TiN薄膜的表面均方根粗糙度和电阻率都为最小。当溅射气压增大时，薄膜厚度减小。当溅射气压为0．3～0．5Pa时，薄膜表面较光滑，电阻率较小。

关键词： TiN薄膜磁控溅射氩气/氮气流量比溅射气压电学性能

化学溶液法制备的Ba_(0.9)Sr_(0.1)TiO_3薄膜的结构及光学特性研究

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红外与毫米波学报 2002年第1期21卷 37-40页

作者：王根水赖珍荃于剑孟祥建孙憬兰郭少令褚君浩金承钰李刚路庆华中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室上海200083 上海交通大学分析测试中心上海200030

采用高度稀释的前驱体溶液在LaNiO3 (LNO)薄膜上沉积了Ba0 .9Sr0 .1TiO3 (BST)薄膜 .X 射线衍射分析表明BST薄膜呈高度的 (10 0 )择优取向 .原子力显微镜测量发现制备的BST薄膜具有大的晶粒尺寸 80～ 2 0 0nm .用椭偏光谱仪测量了光子... 详细信息

采用高度稀释的前驱体溶液在LaNiO3 (LNO)薄膜上沉积了Ba0 .9Sr0 .1TiO3 (BST)薄膜 .X 射线衍射分析表明BST薄膜呈高度的 (10 0 )择优取向 .原子力显微镜测量发现制备的BST薄膜具有大的晶粒尺寸 80～ 2 0 0nm .用椭偏光谱仪测量了光子能量为 0 .7～ 3.4eV范围内BST薄膜的椭偏光谱 ,用Cauchy模型描述BST薄膜的光学性质 ,获得了BST薄膜的光学常数谱和禁带宽度Eg=3.36eV .

关键词：化学溶液法 BST薄膜椭偏光谱光学常数谱制备结构光学特性钛酸锶钡化合物钛电薄膜 Ba0.9Sr0.1TiO3

直流磁控溅射制备AlN薄膜的结构和表面粗糙度

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光子学报 2011年第1期40卷 9-12页

作者：邹文祥赖珍荃刘文兴南昌大学物理系南昌330031

采用直流磁控反应溅射法,在Si(111)基底上成功制备了多晶六方相AlN薄膜.研究了溅射过程中溅射气压对薄膜结构和表面粗糙度的影响.结果表明:当溅射气压低于0.6 Pa时,薄膜为非晶态,在傅里叶变换红外光谱中,没有明显的吸收峰;当溅射气压不... 详细信息

采用直流磁控反应溅射法,在Si(111)基底上成功制备了多晶六方相AlN薄膜.研究了溅射过程中溅射气压对薄膜结构和表面粗糙度的影响.结果表明:当溅射气压低于0.6 Pa时,薄膜为非晶态,在傅里叶变换红外光谱中,没有明显的吸收峰;当溅射气压不低于0.6 Pa时,薄膜的X射线衍射图中均出现了六方相的AlN(100)、(110)和弱的(002)衍射峰,说明所制备的AlN薄膜为多晶态,在傅里叶变换红外光谱中,在波数为677 cm-1处有明显的吸收峰;随着溅射气压的增大,薄膜表面粗糙度先减小后增大,而薄膜的沉积速率先增大后减少,且沉积速率较大有利于减小薄膜的表面粗糙度;在溅射气压为0.6 Pa时,薄膜具有最小的表面粗糙度和最大的沉积速率.

关键词： AlN薄膜溅射气压结构表面粗糙度