Nd薄膜靶表面氧化过程研究
RESEARCH ON SURFACE OXIDIZING PROCESS OF Nd THIN FILM TARGET出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)
年 卷 期：1997年第9卷第2期
页 面：289-292页
核心收录：
学科分类：070207[理学-光学] 07[理学] 0702[理学-物理学]
基 金：国家863激光技术领域资助
摘 要：用Ａｕｇｅｒ电子能谱（ＡＥＳ）对Ｘ光激光实验使用的Ｎｄ薄膜靶的表面氧化进行了分析，结合Ａｒ离子束刻蚀进行元素的深度分布剖析，得到了表面氧化层厚度，所得结果与Ｒｕｔｈｅｒ－ｆｏｒｄ背散射（ＲＢＳ）方法测量的结果相吻合。实验表明，样品暴露在空气中２０至３０ｍｉｎ，氧化即基本达到饱和，相应的氧化层厚度约为２０ｎｍ。
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