磁控溅射法制备的PZT非晶薄膜光学性质研究

作     者：胡志高 赖珍荃 黄志明 王根水 石富文 褚君浩 

作者机构：中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室上海200083 

出 版 物：《红外与毫米波学报》 (Journal of Infrared and Millimeter Waves)

年 卷 期：2004年第23卷第3期

页      面：181-184,188页

核心收录：

学科分类：08[工学] 0803[工学-光学工程] 

基　　金：国家重点基础研究 (G0 0 1CB3 0 95 ) 

主　　题：磁控溅射法 PZT非晶薄膜 禁带宽度 折射率 透射率 消光系数 

摘      要：采用磁控溅射方法在石英玻璃上制备了PbZrxTi1-xO3 (PZT) (x =0 .5 2 )非晶薄膜 ,并测量了 2 0 0～ 110 0nm的紫外 可见 近红外透射光谱 .基于薄膜的结构和多层结构的透射关系 ,发展了仅有 6个拟合参数的光学常数计算模型 .利用该模型 ,可以同时获得薄膜在宽波段范围内的光学常数和厚度 ,得到折射率的最大值为 2 .6 8,消光系数的最大值为 0 .5 6 2 ,拟合薄膜厚度为 318.1nm .根据Tauc′s法则 ,得到PZT非晶薄膜的直接禁带宽度为 3.75eV .最后 。