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研究扩散屏障层对mo/si多层膜软X射线反射率影响的模拟

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光子学报 2007年第2期36卷 300-303页

作者：秦俊岭邵建达易葵范正修中国科学院上海光学精密机械研究所

在特定波长下,用四层结构模型模拟了mo/si多层膜的软X射线反射率.研究了扩散屏障层dmo-on-si和dsi-on-mo对mo/si多层膜软X射线反射率的影响.研究发现,扩散屏障层并不总是损害mo/si多层膜的光学性能,通过合理设计dmo-on-si和dsi-on-mo厚... 详细信息

在特定波长下,用四层结构模型模拟了mo/si多层膜的软X射线反射率.研究了扩散屏障层dmo-on-si和dsi-on-mo对mo/si多层膜软X射线反射率的影响.研究发现,扩散屏障层并不总是损害mo/si多层膜的光学性能,通过合理设计dmo-on-si和dsi-on-mo厚度,增加dmo-on-si与dsi-on-mo的比值,也能提高多层膜的软X射线反射率.

关键词：软X射线多层膜扩散屏障层 mo/si 反射率模拟

Stability of mo/si Multilayer Structure Used in Bragg-Fresnel Optics

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Chinese Physics Letters 1998年第7期15卷 522-524页

作者：乐孜纯曹健林梁静秋裴舒姚劲松崔承甲李兴林 Changchun Institute of Optics and Fine Mechanics Chinese Academy of SciencesChangchun 130022 Institute of Atomic and molecular Physics Jilin UniversityChangchun 130023 Changchun Institute of Applied Chemistry Chinese Academy of SciencesChangchun 130022

The thermal and chemical stabilities of mo/si multilayer structure used in Bragg-Fresnel optics were studied to get optimal technological parameters of pattern ***/si multilayers were annealed at temperature ranging from 360 to 770 K,treated with acetone and 5‰NaOH solution,and characterized by small-angle x-ray diffraction technique as well as x-ray photoelectron spectroscopy and Olympus microscopy.

关键词： mo/si Fresnel optics

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软X射线mo/si多层膜的时效实验研究

软X射线Mo/Si多层膜的时效实验研究

mo原子溅射能量对mo/si薄膜微结构的影响

第六届全国激光科学技术青年学术交流会

作者：易葵邵建达冯仕猛祝国龙范正修中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜中心中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜中心中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜中心中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜中心中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜中心

本文通过对久置的mo/si多层膜的低角X射线衍射特性以及其光学特性进行了前后实验测量,并对测量结果进行了分析,表明mo和si是制备软X射线多层膜的一对比较好的材料。

关键词： mo/si 久置多层膜稳定

来源： cnki会议评论

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cnki会议

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功能材料与器件学报 2006年第2期12卷 81-85页

作者：秦俊岭易葵邵建达中国科学院上海光学精密机械研究所

用磁控溅射法制备了mo/si薄膜,用AFM和XRD分别研究了mo原子的溅射能量不同时,mo/si薄膜表面形貌和晶相的变化。通过比较发现,随着mo原子溅射能量的增大,mo/si薄膜表面粗糙度增加,mo和si的特征X射线衍射峰也越来越强,并且mo膜层和si膜层... 详细信息

用磁控溅射法制备了mo/si薄膜,用AFM和XRD分别研究了mo原子的溅射能量不同时,mo/si薄膜表面形貌和晶相的变化。通过比较发现,随着mo原子溅射能量的增大,mo/si薄膜表面粗糙度增加,mo和si的特征X射线衍射峰也越来越强,并且mo膜层和si膜层之间生成了mo-si2。mo原子的溅射能量是诱导非晶si结晶和mosi2生成的主要原因。

关键词： mo/si mosi2 溅射能量

用于软X光反射镜的Ni/C、mo/si多层膜的制备

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真空科学与技术学报 1990年第4期21卷 269-274页

作者：郑天水金庆原邢中菁沈元华章志鸣王之江复旦大学物理系上海光学精密机械研究所

本文介绍了用石英晶体振荡膜厚速率监控法,制备用于软X光反射镜的Ni/C、mo/si多层膜的工艺过程。制备了一系列周期厚度45—75(?),层数多至50层的多层膜样品,并利用X光小角衍射(Cu kα线:1.54(?))、俄歇电子能谱(AES)、透射电子显微镜(TE... 详细信息

本文介绍了用石英晶体振荡膜厚速率监控法,制备用于软X光反射镜的Ni/C、mo/si多层膜的工艺过程。制备了一系列周期厚度45—75(?),层数多至50层的多层膜样品,并利用X光小角衍射(Cu kα线:1.54(?))、俄歇电子能谱(AES)、透射电子显微镜(TEM),测试和分析它们的周期结构、界面状况、膜层内各元素包括杂质的成分分布,最后对所设计的mo/si膜系做了软X光反射特性的理论模拟计算。

关键词：透射电子显微镜光反射 mo/si Ni/C 石英晶体膜系小角衍射谱周期结构调制周期

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mo／si多层膜的XUV特性比较

光机情报 1992年第4期9卷 59-64页

作者： Windt,DL 徐长林

Multilayer optics for the EUV and soft X-rays

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光学精密工程 2005年第4期13卷 421-429页

作者： Torsten Feigl Sergiy Yulin Nicolas Benoit Norbert Kaiser Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik Albert-Einstein-Str. 7 D-07745 Jena GermanyFraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik Albert-Einstein-Str. 7 D-07745 Jena GermanyFraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik Albert-Einstein-Str. 7 D-07745 Jena GermanyFraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik Albert-Einstein-Str. 7 D-07745 Jena Germany

The demand to enhance the optical resolution, to structure and observe ever smaller details, has pushed the way towards the EUV and soft X-rays. Induced mainly by the production of more powerful electronic circuits with the aid of projection lithography, optics developments in recent years can be characterized by the use of electromagnetic radiation with smaller wavelength. The good prospects of the EUV and soft X-rays for next generation lithography systems (λ=13.5 nm), microscopy in the “water window” (λ=2.3～4.4 nm), astronomy (λ=5～31 nm), spectroscopy, plasma diagnostics and EUV/soft X-ray laser research have led to considerable progress in the development of different multilayer optics. since optical systems in the EUV/soft X-ray spectral region consist of several mirror elements a maximum reflectivity of each multilayer is essential for a high throughput. This paper covers recent results of the enhanced spectral behavior of mo/si, Cr/Sc and Sc/si multilayer optics.

关键词： EUV X射线多层膜光学涂覆技术 mo/si Cr/Sc Sc/si 光电子技术

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13nm窄带si／mo／C多层膜反射镜

强激光与粒子束 2016年第12期28卷 14-19页

作者：易强黄秋实王香梅杨洋张众王占山徐荣昆彭太平周洪军霍同林中国工程物理研究院核物理与化学研究所四川绵阳621900 同济大学物理科学与工程学院精密光学光程研究所先进微结构材料教育部重点实验室上海200092 中国科学技术大学国家同步辐射实验室合肥230029

基于多层膜准单色覆盖50-1500eV能谱的多能点发射光谱测量系统可获得“聚龙一号”装置Z-pinch等离子体X射线源的能谱结构和总能量等信息。考虑装置的条件,在13nm处的多层膜需要工作在掠入射角60°。常规的mo/si多层膜尽管反射率最高,但... 详细信息

基于多层膜准单色覆盖50-1500eV能谱的多能点发射光谱测量系统可获得“聚龙一号”装置Z-pinch等离子体X射线源的能谱结构和总能量等信息。考虑装置的条件,在13nm处的多层膜需要工作在掠入射角60°。常规的mo/si多层膜尽管反射率最高,但其带宽较大,不能满足多层膜准单色的要求。因此提出将mo和C共同作为多层膜的吸收层材料与si组成si/mo/C多层膜,可使反射率降低较小而带宽明显减小。采用磁控溅射方法制备了si/mo/C多层膜,其掠入射X射线反射测量表面多层膜的结构清晰完整,同步辐射工作条件下反射率测量,得到si/mo/C多层膜在13nm处和掠入射角60°时的反射率为56.5%,带宽为0.49nm（3.7eV）。

关键词：多层膜 mo/si si/mo/C Z-pinch 光谱诊断反射率带宽