13nm窄带Si／Mo／C多层膜反射镜

作     者：易强 黄秋实 王香梅 杨洋 张众 王占山 徐荣昆 彭太平 周洪军 霍同林 Yi Qiang;Huang Qiushi;Wang Xiangmei;Yang Yang;Zhang Zhong;Wang Zhanshan;Xu Rongkun;Peng Taiping;Zhou Hongjun;Huo Tonglin

作者机构：中国工程物理研究院核物理与化学研究所四川绵阳621900 同济大学物理科学与工程学院精密光学光程研究所先进微结构材料教育部重点实验室上海200092 中国科学技术大学国家同步辐射实验室合肥230029 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2016年第28卷第12期

页      面：14-19页

核心收录：

学科分类：0808[工学-电气工程] 070207[理学-光学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金项目(11443007,11505129,U1430131) 国家重大科学仪器设备开发项目(2012YQ13012505,2012YQ24026402) 上海市浦江人才计划(15PJ1408000) 

主　　题：多层膜 Mo/Si Si/Mo/C Z-pinch 光谱诊断 反射率 带宽 

摘      要：基于多层膜准单色覆盖50-1500eV能谱的多能点发射光谱测量系统可获得“聚龙一号装置Z-pinch等离子体X射线源的能谱结构和总能量等信息。考虑装置的条件,在13nm处的多层膜需要工作在掠入射角60°。常规的Mo/Si多层膜尽管反射率最高,但其带宽较大,不能满足多层膜准单色的要求。因此提出将Mo和C共同作为多层膜的吸收层材料与Si组成Si/Mo/C多层膜,可使反射率降低较小而带宽明显减小。采用磁控溅射方法制备了Si/Mo/C多层膜,其掠入射X射线反射测量表面多层膜的结构清晰完整,同步辐射工作条件下反射率测量,得到Si/Mo/C多层膜在13nm处和掠入射角60°时的反射率为56.5%,带宽为0.49nm（3.7eV）。