检索结果-南通市图书馆

物理学报 2017年第18期66卷 225-234页

作者：任峰阴生毅卢志鹏李阳王宇张申金杨峰卫东中国科学院电子学研究所高功率微波源与技术实验室北京100190 中国科学院大学北京100039 中国科学院理化技术研究所功能晶体与激光技术重点实验室北京100190 北京中科科仪股份有限公司北京100190

对热扩散阴极表面微区发射状态进行原位观察和分析一直是热阴极研究的重要课题.本文着重介绍深紫外激光光发射电子/热发射电子显微镜的基本原理及其在热扩散阴极研究中的典型实例.系统配备了高温激活所用的加热装置,样品可被加热至1400... 详细信息

对热扩散阴极表面微区发射状态进行原位观察和分析一直是热阴极研究的重要课题.本文着重介绍深紫外激光光发射电子/热发射电子显微镜的基本原理及其在热扩散阴极研究中的典型实例.系统配备了高温激活所用的加热装置,样品可被加热至1400℃.系统具有光发射电子、阴极热发射电子、光发射电子和阴极热发射电子联合三种电子成像模式.应用表明,对于热扩散阴极而言,深紫外激光光发射电子像适于呈现阴极表面的微观结构形貌;热发射电子像适于反映阴极表面的本征热电子发射及均匀性;光电子和热电子联合成像适于对阴极表面的有效发射点做出精确定位.

关键词：深紫外激光光发射电子显微镜热发射电子显微镜扩散阴极

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粒度调控对钡-钨阴极表面发射微区的影响

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稀有金属材料与工程 2022年第1期51卷 280-285页

作者：何学良周增林李艳陈文帅惠志林有研工程技术研究院有限公司北京101407 有研科技集团有限公司智能传感功能材料国家重点实验室北京100088 北京有色金属研究总院北京100088

为了在微米尺度探究未分级钨粉、分级钨粉制备的钨基体在阴极热电子发射性能上的差异,深入了解阴极表面微区电子发射过程和阴极发射机理,采用新型深紫外激光发射电子显微镜/热发射电子显微镜系统(DUV-PEEM/TEEM)对2种钨粉制备的阴极表... 详细信息

为了在微米尺度探究未分级钨粉、分级钨粉制备的钨基体在阴极热电子发射性能上的差异,深入了解阴极表面微区电子发射过程和阴极发射机理,采用新型深紫外激光发射电子显微镜/热发射电子显微镜系统(DUV-PEEM/TEEM)对2种钨粉制备的阴极表面进行了光电子、热电子成像分析。结果显示,与未分级钨粉相比,分级钨粉制备的钨基体的显微组织更加均匀,且闭孔率由1.44%降至0.47%;光电子+热电子联合成像精确得出2种阴极的发射均主要集中于孔隙及孔隙中的活性物质上;通过热电子图像对比及分析表明,分级钨粉制备的阴极的热电子发射微区面积更大、分布更均匀;且在1050℃工作条件下,分级钨粉制备的阴极的脉冲电流密度为30.79 A/cm^(2),发射斜率为1.38;综合分析显示,其具备更理想的本征热电子发射能力和发射均匀性。

关键词：热阴极深紫外激光光发射电子显微镜热发射电子显微镜电子发射

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热扩散阴极微区热电子发射特征研究

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真空电子技术 2019年第3期32卷 33-37页

作者：任峰阴生毅卢志鹏李阳高向阳金鹤中国科学院电子学研究所高功率微波源与技术实验室北京100190 中国科学院大学北京100039

在微米尺度开展热扩散阴极热电子发射特征研究,对了解阴极电子发射过程和理解阴极发射机理有一定的参考价值。本文利用深紫外激光光发射/热发射电子显微镜系统,对浸渍钡钨阴极、覆膜浸渍扩散阴极、浸渍钪酸盐阴极以及新型浸渍钪型阴极,... 详细信息

在微米尺度开展热扩散阴极热电子发射特征研究,对了解阴极电子发射过程和理解阴极发射机理有一定的参考价值。本文利用深紫外激光光发射/热发射电子显微镜系统,对浸渍钡钨阴极、覆膜浸渍扩散阴极、浸渍钪酸盐阴极以及新型浸渍钪型阴极,开展了光电子、热电子显微成像分析。结果显示,浸渍钡钨阴极的热电子发射区域主要位于表面局部孔隙中;覆膜浸渍扩散阴极的电子发射区域沿孔隙向覆膜的钨颗粒表面延伸,阴极发射面积明显增加;浸渍钪酸盐阴极与新型浸渍钪型阴极表面拥有一定数量的高发射点,浸渍钪酸盐阴极的高发射点几乎都分布在阴极表面的钨颗粒边缘,而新型浸渍钪型阴极的高发射点不仅存在于钨颗粒边缘,同时也出现在部分钨颗粒表面。

关键词：热扩散阴极光发射电子显微镜热发射电子显微镜

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热扩散阴极微区热电子发射特征研究

热扩散阴极微区热电子发射特征研究

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中国电子学会真空电子学分会第二十一届学术年会

作者：任峰阴生毅卢志鹏李阳高向阳金鹤中国科学院电子学研究所高功率微波源与技术实验室中国科学院大学

在微米尺度开展热扩散阴极表面热电子发射特征研究,对了解阴极表面微区电子发射过程和理解阴极发射机理有一定的参考价值。本文采用新型深紫外激光发射电子显微镜/热发射电子显微镜系统(DUV-PEEM/TEEM),对浸渍钡钨阴极、覆膜浸渍扩散阴... 详细信息

在微米尺度开展热扩散阴极表面热电子发射特征研究,对了解阴极表面微区电子发射过程和理解阴极发射机理有一定的参考价值。本文采用新型深紫外激光发射电子显微镜/热发射电子显微镜系统(DUV-PEEM/TEEM),对浸渍钡钨阴极、覆膜浸渍扩散阴极、浸渍钪酸盐阴极及新型浸渍钪型阴极,开展了光电子、热电子成像分析,获得各类阴极的微区热电子发射特征。结果显示,浸渍钡钨阴极的发射集中于孔隙及孔隙内的活性物质之上;覆膜浸渍扩散阴极的发射是在浸渍钡钨阴极基础上,沿孔隙向覆膜的钨颗粒表面延伸,阴极发射面积得以增加,阴极发射均匀性得到显著改善。浸渍钪酸盐阴极的高发射点几乎完全分布在阴极表面的钨颗粒边缘;而新型浸渍钪型阴极高发射点不仅出现在钨颗粒边缘,也存在于部分钨颗粒表面;另外,在新型浸渍钪型阴极表面微米级区域内采集到了独特的河流状条纹束发射形貌。

关键词：热扩散阴极光发射电子显微镜热发射电子显微镜电子发射

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