热扩散阴极微区热电子发射特征研究
作者单位：中国科学院电子学研究所高功率微波源与技术实验室 中国科学院大学
会议名称：《中国电子学会真空电子学分会第二十一届学术年会》
会议日期：2018年
学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学]
基 金：国家重大科学仪器设备开发专项“新型深紫外全固态激光源及前沿装备开发(1)”(2012YQ120048)的支持
关 键 词：热扩散阴极 光发射电子显微镜 热发射电子显微镜 电子发射
摘 要：在微米尺度开展热扩散阴极表面热电子发射特征研究,对了解阴极表面微区电子发射过程和理解阴极发射机理有一定的参考价值。本文采用新型深紫外激光发射电子显微镜/热发射电子显微镜系统(DUV-PEEM/TEEM),对浸渍钡钨阴极、覆膜浸渍扩散阴极、浸渍钪酸盐阴极及新型浸渍钪型阴极,开展了光电子、热电子成像分析,获得各类阴极的微区热电子发射特征。结果显示,浸渍钡钨阴极的发射集中于孔隙及孔隙内的活性物质之上;覆膜浸渍扩散阴极的发射是在浸渍钡钨阴极基础上,沿孔隙向覆膜的钨颗粒表面延伸,阴极发射面积得以增加,阴极发射均匀性得到显著改善。浸渍钪酸盐阴极的高发射点几乎完全分布在阴极表面的钨颗粒边缘;而新型浸渍钪型阴极高发射点不仅出现在钨颗粒边缘,也存在于部分钨颗粒表面;另外,在新型浸渍钪型阴极表面微米级区域内采集到了独特的河流状条纹束发射形貌。