检索结果-南通市图书馆

Accuracy and analysis of long-radius measurement with long trace profiler

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Chinese Optics Letters 2011年第10期9卷 76-78页

作者：叶海仙杨李茗 Chengdu Fine Optical Engineering Research Center

The long trace profiler （LTP） is proposed to measure radius of curvature （R） and surface figure of a longradius spherical surface in an optical shop. Equipped with a motorized rotary stage and a two-dimensional tilt stage, the LTP scans the full aperture and calculates the absolute radius of curvature of each scanning line based on the least square method. Nonlinear error and manufacture error difference between center and the edge are obtained by comparing R results. The R-limit is validated and expressed as D/R, where D is the aperture of the mirror under test. A full-aperture three-dimensional figure is also reconstructed based on triangle interpolation.

关键词： Least squares approximations Optical testing Trace analysis

HfO_2/SiO_2多层高反膜激光预处理技术

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强激光与粒子束 2013年第4期4卷 929-934页

作者：代福杨李茗成都精密光学工程研究中心成都610041

采用不同的光斑移动距离,对电子束蒸发制备的HfO2/SiO2多层高反膜进行了单步及多步预处理。结果表明:为了使薄膜不产生损伤,预处理最高能量密度最好不超过薄膜零几率损伤阈值的90%;相同预处理效率下进行的单步预处理对提高光学薄膜抗激... 详细信息

采用不同的光斑移动距离,对电子束蒸发制备的HfO2/SiO2多层高反膜进行了单步及多步预处理。结果表明:为了使薄膜不产生损伤,预处理最高能量密度最好不超过薄膜零几率损伤阈值的90%;相同预处理效率下进行的单步预处理对提高光学薄膜抗激光损伤阈值的效果比多步预处理好;对HfO2/SiO2高反膜进行98.4%能量覆盖的两步预处理后薄膜损伤阈值提高81%;控制薄膜的缺陷源,初始物质应采用金属Hf。

关键词：激光预处理缺陷能量覆盖高反射膜

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激光预处理中缺陷上的激光能量覆盖

强激光与粒子束 2012年第6期24卷 1385-1390页

作者：代福杨李茗成都精密光学工程研究中心成都610041

分析了不同预处理方式下缺陷上的激光能量的覆盖特点。理论分析表明,相同预处理效率下,单步预处理缺陷上激光能量覆盖率优于多步预处理。实验研究了电子束蒸发制备的HfO2/SiO2多层高反膜的激光预处理,结果发现单步预处理后薄膜的单脉冲... 详细信息

分析了不同预处理方式下缺陷上的激光能量的覆盖特点。理论分析表明,相同预处理效率下,单步预处理缺陷上激光能量覆盖率优于多步预处理。实验研究了电子束蒸发制备的HfO2/SiO2多层高反膜的激光预处理,结果发现单步预处理后薄膜的单脉冲激光损伤阈值比相同效率的4步预处理后薄膜的单脉冲激光损伤阈值要好。采用最高能量密度为112%激光损伤阈值的5步预处理后,光学薄膜的激光损伤阈值提高了83.5%。

关键词：激光预处理缺陷能量覆盖高反射膜

激光预处理中薄膜损伤形貌对预处理效果的影响

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红外与激光工程 2013年第1期42卷 190-194页

作者：代福杨李茗成都精密光学工程研究中心四川成都610041

采用亚阈值激光能量对光学元件进行激光预处理后,其损伤阈值可以提高两三倍。在激光预处理过程中,不可避免地会使光学元件产生损伤,若产生的损伤不影响光学元件的使用性能,则原则上可以接受。首先介绍了HfO2/SiO2多层高反膜S-on-1损伤... 详细信息

采用亚阈值激光能量对光学元件进行激光预处理后,其损伤阈值可以提高两三倍。在激光预处理过程中,不可避免地会使光学元件产生损伤,若产生的损伤不影响光学元件的使用性能,则原则上可以接受。首先介绍了HfO2/SiO2多层高反膜S-on-1损伤阈值测试方法,实验研究了激光预处理过程中光学薄膜元件的损伤过程,分析了预处理过程中薄膜损伤形貌对其光学性能及抗激光损伤阈值的影响。结果表明,对膜系为G/(HL)11H2L/A的HfO2/SiO2多层高反膜进行激光预处理,最外层SiO2层的破坏不影响薄膜整个反射率曲线。相反,由于消除了HfO2层的节瘤缺陷,薄膜的损伤阈值得到大幅度的提高。

关键词：激光预处理缺陷损伤形貌高反射膜

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大口径大曲率半径光学元件的高精度检测

光学精密工程 2011年第6期19卷 1207-1212页

作者：杨李茗叶海仙成都精密光学工程研究中心四川成都610041

针对目前已有的光学检测设备无法实现大口径大曲率半径光学元件高精度检测的问题,提出利用长程轮廓仪(LTP)来进行大口径大曲率半径(正、负)光学元件的精确测量,并通过实验证明了LTP检测大曲率半径光学元件的优势。分析计算了LTP测量曲... 详细信息

针对目前已有的光学检测设备无法实现大口径大曲率半径光学元件高精度检测的问题,提出利用长程轮廓仪(LTP)来进行大口径大曲率半径(正、负)光学元件的精确测量,并通过实验证明了LTP检测大曲率半径光学元件的优势。分析计算了LTP测量曲率半径的算法精度,设计了合理的机械结构进行旋转测量,得到了全口径的曲率半径分布。最后与球径仪、刀口仪的测量结果进行了对比。对R=37.108m和R=41.065m的球面镜测量结果显示,LTP的测量重复性在0.05%以内,与球径仪、刀口仪的测量值相差均在0.05%以内。研究结果表明,LTP可以用来解决目前几十米的大R曲率半径光学元件难以高精度测量的难题。

关键词：长程轮廓仪曲率半径测量算法精度旋转测量

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任意点阵衍射图形的DOE优化设计

光子学报 1998年第8期27卷 739-743页

作者：杨李茗虞淑环浙江大学现代光学仪器国家重点实验室

本文利用模拟退火算法对任意点阵衍射图形的纯相位衍射元件进行了优化设计，针对收敛性和收敛速率对算法进行了适当修正。

关键词：衍射光学元件模拟退火算法 DOE 优化设计

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小周期二元光学元件的矢量分析

光学学报 1999年第1期19卷 106-112页

作者：杨李茗杨国光叶钧浙江大学现代光学仪器国家重点实验室东方通讯股份有限公司

详细地介绍了一种可用于分析大口径大视场二元光学系统的光栅矢量分析法ＢＫＫ方法。这种方法适用于光栅周期处于波长量级、任意光栅轮廓及倾斜入射时的精确衍射效率计算。给出了计算结果，并与标量近似计算结果进行比较。

关键词：光栅二元光学矢量分析光学元件

ICF系统中全息透镜聚焦特性及衍射效率分析

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强激光与粒子束 2003年第3期15卷 234-236页

作者：杨春林张蓉竹杨李茗许乔成都精密光学工程研究中心四川成都610041 四川大学光电系四川成都610064

　根据全息透镜的工作原理,利用光线追迹法对其聚焦特性进行了理论分析。使用标量衍射法分析了全息透镜的衍射效率,讨论了不同的光栅槽型对其衍射效率的影响。对分析过程中所涉及到的有关近似处理方法的使用和影响进行了说明,讨论了全... 详细信息

　根据全息透镜的工作原理,利用光线追迹法对其聚焦特性进行了理论分析。使用标量衍射法分析了全息透镜的衍射效率,讨论了不同的光栅槽型对其衍射效率的影响。对分析过程中所涉及到的有关近似处理方法的使用和影响进行了说明,讨论了全息透镜用作取样光栅的优点。

关键词： ICF系统聚焦特性全息透镜驱动系统光线追迹衍射效率全息图

扩展微透镜数值孔径范围的阶梯光刻热熔法研究

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光学学报 1998年第8期18卷 1128-1133页

作者：许乔杨李茗舒晓武杨国光成都精密光学工程研究中心浙江大学现代光学仪器国家重点实验室

在微透镜阵列的光刻热熔制作法中，临界角效应严重影响了微透镜的制作范围和面形质量。在对临界角效应定性研究的基础上，提出了用阶梯光刻热熔法来扩展热熔型微透镜阵列的数值孔径范围。实验结果表明，采用这一方法制作的微透镜，其单... 详细信息

在微透镜阵列的光刻热熔制作法中，临界角效应严重影响了微透镜的制作范围和面形质量。在对临界角效应定性研究的基础上，提出了用阶梯光刻热熔法来扩展热熔型微透镜阵列的数值孔径范围。实验结果表明，采用这一方法制作的微透镜，其单元孔径范围扩展为５０～９００μｍ，相对口径范围扩大到为Ｆ／１～Ｆ／１０，并有效地改善了临界角效应对大孔径微透镜面形质量的影响。

关键词：微透镜阵列微光学光刻胶制作与测试