扩展微透镜数值孔径范围的阶梯光刻热熔法研究
Step HeatForming Photoresist Method for Expanding the ***of Refractive Microlens作者机构：成都精密光学工程研究中心 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室
出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)
年 卷 期：1998年第18卷第8期
页 面：1128-1133页
核心收录：
基 金：国家科委高技术项目资助
摘 要：在微透镜阵列的光刻热熔制作法中，临界角效应严重影响了微透镜的制作范围和面形质量。在对临界角效应定性研究的基础上，提出了用阶梯光刻热熔法来扩展热熔型微透镜阵列的数值孔径范围。实验结果表明，采用这一方法制作的微透镜，其单元孔径范围扩展为５０～９００μｍ，相对口径范围扩大到为Ｆ／１～Ｆ／１０，并有效地改善了临界角效应对大孔径微透镜面形质量的影响。
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