激光预处理中薄膜损伤形貌对预处理效果的影响

作     者：代福 杨李茗 Dai Fu;Yang Liming

作者机构：成都精密光学工程研究中心四川成都610041 

出 版 物：《红外与激光工程》 (Infrared and Laser Engineering)

年 卷 期：2013年第42卷第1期

页      面：190-194页

核心收录：

学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程] 

基　　金：国家高技术激光技术支持项目 

主　　题：激光预处理 缺陷 损伤形貌 高反射膜 

摘      要：采用亚阈值激光能量对光学元件进行激光预处理后,其损伤阈值可以提高两三倍。在激光预处理过程中,不可避免地会使光学元件产生损伤,若产生的损伤不影响光学元件的使用性能,则原则上可以接受。首先介绍了HfO2/SiO2多层高反膜S-on-1损伤阈值测试方法,实验研究了激光预处理过程中光学薄膜元件的损伤过程,分析了预处理过程中薄膜损伤形貌对其光学性能及抗激光损伤阈值的影响。结果表明,对膜系为G/(HL)11H2L/A的HfO2/SiO2多层高反膜进行激光预处理,最外层SiO2层的破坏不影响薄膜整个反射率曲线。相反,由于消除了HfO2层的节瘤缺陷,薄膜的损伤阈值得到大幅度的提高。