用于X射线成像的铽离子掺杂硅酸盐微晶玻璃
作者机构:昆明理工大学材料科学与工程学院云南省新材料制备与加工重点实验室 昆明理工大学国土资源工程学院
出 版 物:《硅酸盐学报》 (Journal of the Chinese Ceramic Society)
年 卷 期:2024年
核心收录:
学科分类:07[理学] 08[工学] 070302[理学-分析化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0703[理学-化学]
基 金:云南省科技厅面上项目(202301AT070149) 云南省科技厅昆明理工大学“双一流”创建联合专项面上项目(202201BE070001-029) 云南省科技重大专项(202202AG050016-4,202202AG050004)
摘 要:X射线成像在工业、医疗和科学研究中得到广泛应用。与直接式X射线探测相比,间接式X射线探测是一种更便宜、更稳定的选择。但如今商用闪烁体大都存在制备成本高、稳定性差等问题,因此寻找制备简单、低成本、高化学稳定性和环境友好的新型闪烁体材料是必要的。通过高温熔融法和热处理工艺,成功地在硅酸盐玻璃基体内原位生长出ZnGa2O4纳米晶,通过掺杂Tb3+、调整退火温度,使材料既具有高透明度又具有高闪烁性能(光产额优于商业闪烁体BGO)。在X射线下表现出良好的成像性能,实现了16 lp/mm的成像分辨率。同时还表现出长时间的环境稳定性和长时间的辐射发光稳定性。这些优异的性能使得ZnGa2O4: Tb3+闪烁体玻璃在玻璃闪烁体间接成像领域具有很大的应用潜力。