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文献类型

  • 8 篇 期刊文献
  • 3 篇 学位论文

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  • 11 篇 电子文献
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  • 1 篇 管理学
    • 1 篇 管理科学与工程(可...

主题

  • 11 篇 质量分离
  • 2 篇 飞行时间
  • 2 篇 药物发现
  • 2 篇 研究人员
  • 2 篇 生命科学
  • 2 篇 平台
  • 1 篇 硅单晶
  • 1 篇 低能离子束沉积
  • 1 篇 离化
  • 1 篇 电子激发温度
  • 1 篇 电荷分离
  • 1 篇 系统
  • 1 篇 关联白噪声
  • 1 篇 聚焦重叠
  • 1 篇 电子密度
  • 1 篇 薄膜
  • 1 篇 沉积温度
  • 1 篇 气体离子团束
  • 1 篇 电流输运
  • 1 篇 沉积

机构

  • 2 篇 中国科学院半导体...
  • 1 篇 中国科学院半导体...
  • 1 篇 上海交通大学
  • 1 篇 日本京都大学
  • 1 篇 陕西师范大学
  • 1 篇 大连理工大学
  • 1 篇 清华大学
  • 1 篇 哈尔滨工业大学

作者

  • 3 篇 刘志凯
  • 2 篇 廖梅勇
  • 2 篇 柴春林
  • 2 篇 姚振钰
  • 2 篇 秦复光
  • 2 篇 杨少延
  • 2 篇 王占国
  • 1 篇 金隼
  • 1 篇 huck. h
  • 1 篇 张乐
  • 1 篇 来新民
  • 1 篇 陈诺夫
  • 1 篇 王向明
  • 1 篇 壬治璋
  • 1 篇 袁舒
  • 1 篇 黄大定
  • 1 篇 陈少云
  • 1 篇 李闵一
  • 1 篇 王杰
  • 1 篇 山田公

语言

  • 11 篇 中文
检索条件"主题词=质量分离"
11 条 记 录,以下是1-10 订阅
排序:
质量分离低能离子束外延超薄硅单晶的初步研究
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Journal of Semiconductors 1993年 第8期14卷 509-512页
作者: 黄大定 姚振钰 壬治璋 王向明 刘志凯 秦复光 中国科学院半导体研究所 半导体材料科学实验室北京100083
采用质量分离的低能离子束外延(MALE-IBE)技术进行超薄硅外延生长,在600C下获得单晶硅外延层,厚度2000A,过渡区宽度小于500A。有较好的电学性质。
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CO_2团束的离化、加速及质量分离
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真空 1996年 第6期33卷 17-22页
作者: 田民波 山田公 清华大学材料科学与工程系 日本京都大学离子工学实验室
设计并制造了CO2离化装置——由电子轰击对团束进行离化,由电极电位进行加速,由阻止势进行质量分离。通过实验确定了最佳参数,其中包括:离化电子电流和电压、加速电压、阻止电势、供气压力等。
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噪声激励下欠阻尼粒子的电流输运与质量分离
噪声激励下欠阻尼粒子的电流输运与质量分离
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作者: 王杰 陕西师范大学
学位级别:硕士
非线性系统的定向输运现象在物理,生物,化学等不同方面已成为一个十分具有吸引力的研究领域,受到学者的广泛关注.棘齿系统能够有效的利用系统的棘齿效应将非定向外部驱动力和噪声的能量部分转换为系统定向输运的能量,并且已有研究表明... 详细信息
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不同电磁场位形下离子射流质量分离的特性研究
不同电磁场位形下离子射流质量分离的特性研究
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作者: 张乐 哈尔滨工业大学
学位级别:硕士
离子束流的电磁场控制技术在航天、医学、原子能及科学研究等各个领域俱有体现,是目前的研究热点。本课题在传统电磁分离法的基础上深入研究了不同位形电磁场情况下质量分离的可行性,通过模拟不同质量离子在不同位形电磁场中的运动轨... 详细信息
来源: 同方学位论文库 同方学位论文库 评论
质量分离的双离子束沉积法生长CeO_2(111)/Si薄膜
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稀有金属 2001年 第6期25卷 401-403,410页
作者: 柴春林 杨少延 刘志凯 廖梅勇 陈诺夫 王占国 中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室 北京100083
利用一种全新的薄膜生长技术—质量分离的双离子束沉积技术 ,在较低温度 ( 40 0℃ )下对CeO2 ( 111) /Si( 10 0 )薄膜的生长进行了研究。两束离子的比例以及离子束的能量对薄膜的成分和晶体质量有很大影响 ,较高能量 ( 3 0 0eV)的离子... 详细信息
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类金刚石薄膜的质量分离离子束沉积
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国外核聚变与等离子体应用 1994年 第6期 66-69页
作者: Huck.,H 李闵一
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离子能量和沉积温度对离子束沉积碳膜表面形貌的影响
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物理学报 2001年 第7期50卷 1324-1327页
作者: 廖梅勇 秦复光 柴春林 刘志凯 杨少延 姚振钰 王占国 中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室 北京100083
利用质量分离的低能离子束沉积技术 ,得到了非晶碳膜 .所用离子能量为 5 0— 2 0 0eV ,衬底温度从室温到80 0℃ .在沉积的能量范围内 ,衬底为室温时薄膜为类金刚石 ,表面非常光滑 ;而 6 0 0℃下薄膜主要是石墨成分 ,表面粗糙 .沉积能量... 详细信息
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真空下激光烧蚀碳化钨铜多组分等离子体发射光谱的时空演化研究
真空下激光烧蚀碳化钨铜多组分等离子体发射光谱的时空演化研究
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作者: 袁舒 大连理工大学
学位级别:硕士
托卡马克聚变装置在运行过程中,面对等离子体材料(Plasma-Facing Material,PFM)第一壁和偏滤器会受到来自芯部等离子体热流和粒子流的冲击,发生一系列等离子体与壁相互作用(Plasma Wall Interaction PWI),导致壁表面侵蚀与结构损伤,并... 详细信息
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白车身在线检测数据分析方法研究
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机械制造 2005年 第3期43卷 69-71页
作者: 张扬明 金隼 陈少云 来新民 上海交通大学机械工程学院车身制造技术中心 邮政编码200030
介绍了工序质量的概念,把在线检测得到的综合质量数据分离成单工序质量,为进一步的装配故障诊断提供了实用数据。
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沃特世公司推出新一代可升级的SYNAPT平台,扩大质谱仪界限
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环境化学 2008年 第2期27卷 148-148页
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