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沉积时间对聚醚醚酮表面类金刚石薄膜的结构和性能的影响

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材料研究学报 2022年第11期36卷 801-810页

作者：崔丽孙丽丽郭鹏马鑫王舒远汪爱英中国科学院宁波材料技术与工程研究所、中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室、浙江省海洋材料与防护技术重点实验室宁波315201 中国科学院大学材料与光电研究中心北京100049 西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室西安710049

采用直流磁控溅射技术在聚醚醚酮(PEEK)表面制备不同厚度的类金刚石(DLC)薄膜,研究了沉积时间对其表/界面结构、组分、疏水、力学和光透过性能的影响。结果表明,在平均沉积速率为5.71 nm/min的条件下,随着沉积时间的延长DLC薄膜的厚度... 详细信息

采用直流磁控溅射技术在聚醚醚酮(PEEK)表面制备不同厚度的类金刚石(DLC)薄膜,研究了沉积时间对其表/界面结构、组分、疏水、力学和光透过性能的影响。结果表明,在平均沉积速率为5.71 nm/min的条件下,随着沉积时间的延长DLC薄膜的厚度线性增大、碳原子的致密性提高、界面互锁结构增强,而界面结合强度逐渐降低。沉积时间≤15 min时,基体结构的影响使拟合计算出的I_(D)/I_(G)值为0.23~0.25和sp^(2)/sp^(3)比值较小(0.58~0.74);沉积时间>15 min时基体的影响较小,I_(D)/I_(G)值突增大至0.81,sp^(2)/sp^(3)值也比较大(0.96~1.12)。沉积时间的延长使PEEK基体的温度逐渐升高,使膜内的sp^(2)/sp^(3)值逐渐增大。薄膜表面的氧含量先降低然后趋于平缓,部分C=O转化为C-O。随着沉积时间的延长,PEEK/DLC复合薄膜的硬度、弹性模量及防紫外线和阻隔红外线性能都逐渐提高,其表面粗糙度和疏水性的变化趋势是先提高后降低。沉积时间为32 min的薄膜,其表面粗糙度和水接触角达到最大值,分别为495 nm和108.29°。

关键词：材料表面与界面聚醚醚酮类金刚石薄膜表面改性沉积时间界面结合

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沉积时间和电流对多孔表面沸腾特性的影响

化学工程 2023年第3期51卷 1-6页

作者：谢鸿玺王炳忠谢宝刚付炜周坤合肥通用机械研究院有限公司合肥通用机电产品检测院有限公司安徽合肥230031 海军航空大学青岛校区山东青岛266041

多孔表面是提高沸腾传热性能的有效表面改性技术。为探究多孔表面的制备参数对沸腾传热性能的影响,应用电化学沉积法在不同的沉积时间和电流下制备了多孔表面,并在常压下对去离子水进行了池沸腾实验。与普通表面相比,多孔表面显著提高... 详细信息

多孔表面是提高沸腾传热性能的有效表面改性技术。为探究多孔表面的制备参数对沸腾传热性能的影响,应用电化学沉积法在不同的沉积时间和电流下制备了多孔表面,并在常压下对去离子水进行了池沸腾实验。与普通表面相比,多孔表面显著提高了沸腾传热性能。最大临界热流密度(CHF)和最高传热系数(HTC)分别达到3.00 MW/m^(2)和136 kW/(m^(2)·K),比光滑表面分别提升了145%和156%。CHF和HTC对多孔表面的增强归因于气化核心数量增加、传热面积的增加和毛细芯吸力的增强。

关键词：相变传热表面沉积时间沉积电流

沉积时间对旋转喷涂法制备的NiZn铁氧体薄膜的影响

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磁性材料及器件 2022年第1期53卷 1-6页

作者：王宏杨仕机冉茂君青豪余忠孙科兰中文江西尚朋电子科技有限公司江西宜春336202 电子科技大学材料与能源学院四川成都610054

采用旋转喷涂法低温沉积制备NiZn铁氧体薄膜,研究了沉积时间对薄膜相结构、显微形貌和磁性能的影响。结果表明,随着沉积时间延长,平均晶粒尺寸逐渐增大,(222)方向择优取向先增强后减弱,沉积速率先减小后稳定,随着薄膜厚度逐渐增大,晶粒... 详细信息

采用旋转喷涂法低温沉积制备NiZn铁氧体薄膜,研究了沉积时间对薄膜相结构、显微形貌和磁性能的影响。结果表明,随着沉积时间延长,平均晶粒尺寸逐渐增大,(222)方向择优取向先增强后减弱,沉积速率先减小后稳定,随着薄膜厚度逐渐增大,晶粒的柱状结构也越发明显,结晶性能提高。NiZn铁氧体薄膜的饱和磁化强度M_(s)增高,矫顽力H_(c)降低,100 MHz的磁导率μ′增大,截止频率f_(r)从0.32 GHz降低至0.23 GHz。但是无论沉积时间长短,各薄膜均存在磁损耗角正切(μ"/μ′)过高的问题。

关键词： NiZn铁氧体薄膜旋转喷涂法低温沉积沉积时间磁性能

沉积时间对Sn-Mg共掺ZnO薄膜光电性能的影响

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光电子．激光 2019年第2期30卷 123-128页

作者：王玉新崔潇文臧谷丹赵帅李真王磊丛彩馨辽宁师范大学物理与电子技术学院辽宁大连116029

采用超声喷雾热解法在石英玻璃衬底上,在衬底温度为440℃,喷嘴到衬底距离为4 cm,掺杂原子(Zn∶Mg∶Sn)比例为97.6∶2∶0.4,载气流量为0.8 L/min的固定条件下,制备了不同薄膜沉积时间(5 min、7 min、9 min、11 min)的Sn-Mg共掺的ZnO薄膜... 详细信息

采用超声喷雾热解法在石英玻璃衬底上,在衬底温度为440℃,喷嘴到衬底距离为4 cm,掺杂原子(Zn∶Mg∶Sn)比例为97.6∶2∶0.4,载气流量为0.8 L/min的固定条件下,制备了不同薄膜沉积时间(5 min、7 min、9 min、11 min)的Sn-Mg共掺的ZnO薄膜。并用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光谱(PL)、紫外可见分光光度计(UV-VIS)、薄膜测厚仪(SCG-10)和伏安特性曲线(I-V)对薄膜的结构、表面形貌、发光性能、透过率、膜厚和电学性能进行了一系列表征。当沉积时间为7 min时,XRD表明,薄膜的(101)峰强度最大,择优取向明显。SEM图显示薄膜表面致密光滑,颗粒均匀,尺寸最大且形貌最佳。PL谱在372 nm处的发射峰强度最大,峰形最尖锐,所有薄膜的透过率在可见光区域都超过了80%,表现出了很好的光透过性能。从薄膜的I-V特性曲线可计算出此时的电阻最小,导电性能最佳。

关键词：超声喷雾热解法 Sn-Mg共掺 ZnO薄膜沉积时间光电特性

沉积时间对Zn(O,S)薄膜性能及Cu_2ZnSnSe_4薄膜电池的影响

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人工晶体学报 2017年第4期46卷 578-583页

作者：刘晓茹李建军刘玮刘芳芳敖建平孙云周志强张毅南开大学光电子薄膜器件与技术研究所天津300071

无镉材料Zn(O,S)因其带隙宽且可调节、无毒无害等优点被作为缓冲层材料重点研究,通过化学水浴法制备Zn(O,S)薄膜,研究了沉积时间的不同(20~35 min)对Zn(O,S)薄膜的成分、结构特性、光学性能及形貌的影响。通过XRD测试可知,水浴法制备的Z... 详细信息

无镉材料Zn(O,S)因其带隙宽且可调节、无毒无害等优点被作为缓冲层材料重点研究,通过化学水浴法制备Zn(O,S)薄膜,研究了沉积时间的不同(20~35 min)对Zn(O,S)薄膜的成分、结构特性、光学性能及形貌的影响。通过XRD测试可知,水浴法制备的Zn(O,S)薄膜为非晶态。通过透反射谱测试可知,薄膜的光学透过率较高(>80%)。通过表面形貌测试可知,30 min时Zn(O,S)薄膜为致密均匀的小颗粒。将Zn(O,S)薄膜应用在CZTSe电池中,在30 min时获得较高器件转换效率5.37%。

关键词：无镉缓冲层化学水浴法 Zn(O,S) CZTSe薄膜电池沉积时间

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沉积时间对镁合金化学镀镍的影响

电镀与精饰 2019年第12期41卷 1-4页

作者：贾启华许晓娟北京交通大学海滨学院化学工程系

为了优化镁合金直接化学镀镍工艺,把沉积时间作为变量参数,采用SEM,XRD和NSS等方法对不同沉积时间下获得的镍磷镀层进行了检测,并分析了沉积时间对沉积速率、沉积过程、相结构、硬度、耐蚀性等方面的影响规律。结果表明:施镀时间为40 mi... 详细信息

为了优化镁合金直接化学镀镍工艺,把沉积时间作为变量参数,采用SEM,XRD和NSS等方法对不同沉积时间下获得的镍磷镀层进行了检测,并分析了沉积时间对沉积速率、沉积过程、相结构、硬度、耐蚀性等方面的影响规律。结果表明:施镀时间为40 min时,所获得的Ni-P镀层的综合性能最佳。镀层由非晶态和少量微晶组成,具有优良的耐蚀性和较高的硬度。

关键词：镁合金化学镀沉积时间耐蚀性硬度

沉积时间对ZrTiN涂层微观结构及性能的影响

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材料工程 2012年第5期40卷 30-34,38页

作者：颜培邓建新连云崧赵军陈振山东大学机械工程学院济南250061

采用多弧离子镀膜法,在YT15及YG8硬质合金基体上沉积ZrTiN硬质涂层,并分析涂层微观形貌、物相组成、涂层的厚度、硬度及结合力等性能参数随沉积时间的变化。结果表明:沉积时间不会影响ZrTiN涂层的晶面指数,涂层中只有单一面心立方结构... 详细信息

采用多弧离子镀膜法,在YT15及YG8硬质合金基体上沉积ZrTiN硬质涂层,并分析涂层微观形貌、物相组成、涂层的厚度、硬度及结合力等性能参数随沉积时间的变化。结果表明:沉积时间不会影响ZrTiN涂层的晶面指数,涂层中只有单一面心立方结构相形成,且晶面指数始终为(111);涂层的晶粒尺寸约为10nm且随沉积时间变化不大。沉积时间为120min时,涂层的显微硬度和结合力明显下降。

关键词： ZrTiN涂层多弧离子镀沉积时间微观结构性能

沉积时间对机械瓣膜上沉积的类金刚石薄膜的影响

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应用激光 2015年第2期35卷 260-263页

作者：罗乐蒋大鹏赵读亮严中亚程光存方晓东合肥工业大学电子科学与应用物理学院安徽合肥230009 安徽省立医院胸心外科安徽合肥230001 中国科学院安徽光学精密机械研究所安徽合肥230031

用脉冲激光在机械瓣膜上沉积类金刚石薄膜的实验中,保持其它实验参数不变,沉积时间分别取40min和50min来沉积类金刚石薄膜。用Raman光谱仪对机械瓣膜衬底和薄膜的微观结构进行检测;用原子力显微镜对薄膜的表面形貌进行检测。结果表明:... 详细信息

用脉冲激光在机械瓣膜上沉积类金刚石薄膜的实验中,保持其它实验参数不变,沉积时间分别取40min和50min来沉积类金刚石薄膜。用Raman光谱仪对机械瓣膜衬底和薄膜的微观结构进行检测;用原子力显微镜对薄膜的表面形貌进行检测。结果表明:机械瓣膜和薄膜的微观结构明显不同,并且在其它实验参数不变的条件下,沉积时间从40 min增加到50min时,薄膜中sp3/sp2的比值略微升高,薄膜的密度略微增大,薄膜中石墨晶粒的数量或体积几乎不变,薄膜的表面形貌和粗糙度几乎不变。用脉冲激光沉积法在机械瓣膜上沉积出的类金刚石薄膜和机械瓣膜之间具有很好的黏附性。

关键词：脉冲激光沉积法类金刚石薄膜机械瓣膜沉积时间微观结构表面形貌

沉积时间对磁控反应溅射制备TiO_2薄膜性能的影响

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功能材料 2008年第11期39卷 1785-1788页

作者：张文杰朱圣龙李瑛王福会何红波沈阳理工大学环境与化学工程学院辽宁沈阳110168 中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室辽宁沈阳110016 中国科学院沈阳应用生态研究所辽宁沈阳110016

应用直流磁控反应溅射法，在玻璃基体上制备了具有光催化活性的TiO2薄膜。TiO2薄膜的厚度随沉积时间的增加而均匀增长。基体温度则在溅射的最初1h裉快上升到110℃，溅射7h基体温度不超过130℃。溅射2h得到的是非晶态TiO2薄膜，而溅射3... 详细信息

应用直流磁控反应溅射法，在玻璃基体上制备了具有光催化活性的TiO2薄膜。TiO2薄膜的厚度随沉积时间的增加而均匀增长。基体温度则在溅射的最初1h裉快上升到110℃，溅射7h基体温度不超过130℃。溅射2h得到的是非晶态TiO2薄膜，而溅射3～7h制备的薄膜为锐钛矿型结构。非晶态和小晶粒TiO2薄膜的紫外-可见透射光谱谱带边沿与结晶较好的TiO2薄膜相比有明显的蓝移，薄膜的透射率随沉积时间的增加而下降。钛以四价钛的形式存在于TiO2薄膜中。TiO2薄膜的光催化活性随沉积时间和薄膜厚度的增加而有较大提高。

关键词：磁控反应溅射 TiO2薄膜光催化沉积时间