沉积时间对Sn-Mg共掺ZnO薄膜光电性能的影响

作     者：王玉新 崔潇文 臧谷丹 赵帅 李真 王磊 丛彩馨 WVNG Yu-xin;CUI Xiacrwen;ZANG Gu-dan;ZHAO Shuai;LI Zhen;WANG Lei;CONG Cai-xin

作者机构：辽宁师范大学物理与电子技术学院辽宁大连116029 

出 版 物：《光电子．激光》 (Journal of Optoelectronics·Laser)

年 卷 期：2019年第30卷第2期

页      面：123-128页

核心收录：

学科分类：0808[工学-电气工程] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：辽宁省教育厅科学研究一般项目"基于低成本溶液生长n-ZnO纳米棒/p-聚芴复合结构的有机无机异质结白光LED研究"(L2015292)资助项目 

主　　题：超声喷雾热解法 Sn-Mg共掺 ZnO薄膜 沉积时间 光电特性 

摘      要：采用超声喷雾热解法在石英玻璃衬底上,在衬底温度为440℃,喷嘴到衬底距离为4 cm,掺杂原子(Zn∶Mg∶Sn)比例为97.6∶2∶0.4,载气流量为0.8 L/min的固定条件下,制备了不同薄膜沉积时间(5 min、7 min、9 min、11 min)的Sn-Mg共掺的ZnO薄膜。并用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光谱(PL)、紫外可见分光光度计(UV-VIS)、薄膜测厚仪(SCG-10)和伏安特性曲线(I-V)对薄膜的结构、表面形貌、发光性能、透过率、膜厚和电学性能进行了一系列表征。当沉积时间为7 min时,XRD表明,薄膜的(101)峰强度最大,择优取向明显。SEM图显示薄膜表面致密光滑,颗粒均匀,尺寸最大且形貌最佳。PL谱在372 nm处的发射峰强度最大,峰形最尖锐,所有薄膜的透过率在可见光区域都超过了80%,表现出了很好的光透过性能。从薄膜的I-V特性曲线可计算出此时的电阻最小,导电性能最佳。