沉积时间对旋转喷涂法制备的NiZn铁氧体薄膜的影响
Effect of Zn deposition time on NiZn ferrite films prepared by spin-spray deposition作者机构：江西尚朋电子科技有限公司江西宜春336202 电子科技大学材料与能源学院四川成都610054
出 版 物：《磁性材料及器件》 (Journal of Magnetic Materials and Devices)
年 卷 期：2022年第53卷第1期
页 面：1-6页
学科分类：07[理学] 08[工学] 070205[理学-凝聚态物理] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0702[理学-物理学]
主 题：NiZn铁氧体薄膜 旋转喷涂法 低温沉积 沉积时间 磁性能
摘 要：采用旋转喷涂法低温沉积制备NiZn铁氧体薄膜,研究了沉积时间对薄膜相结构、显微形貌和磁性能的影响。结果表明,随着沉积时间延长,平均晶粒尺寸逐渐增大,(222)方向择优取向先增强后减弱,沉积速率先减小后稳定,随着薄膜厚度逐渐增大,晶粒的柱状结构也越发明显,结晶性能提高。NiZn铁氧体薄膜的饱和磁化强度M_(s)增高,矫顽力H_(c)降低,100 MHz的磁导率μ′增大,截止频率f_(r)从0.32 GHz降低至0.23 GHz。但是无论沉积时间长短,各薄膜均存在磁损耗角正切(μ/μ′)过高的问题。
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