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    • 1 篇 教育学
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主题

  • 98 篇 椭偏光谱
  • 23 篇 光学常数
  • 12 篇 光学性质
  • 9 篇 磁控溅射
  • 9 篇 薄膜
  • 5 篇 折射率
  • 4 篇 溅射气压
  • 4 篇 tbfeco薄膜
  • 4 篇 光学常数谱
  • 4 篇 光谱学
  • 4 篇 铁电薄膜
  • 3 篇 离子注入
  • 3 篇 微结构
  • 3 篇 磁光薄膜
  • 3 篇 磁光kerr效应
  • 3 篇 测量
  • 3 篇 x射线衍射
  • 3 篇 bst薄膜
  • 3 篇 溶剂蒸汽辅助退火
  • 3 篇 光学参数

机构

  • 21 篇 中山大学
  • 14 篇 贵州大学
  • 7 篇 山东大学
  • 6 篇 复旦大学
  • 4 篇 安徽大学
  • 4 篇 中国科学院上海光...
  • 4 篇 江南大学
  • 3 篇 中国科学院上海技...
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  • 3 篇 中国科学院上海技...
  • 2 篇 中国科学院长春光...
  • 2 篇 上海交通大学
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  • 2 篇 广东工业大学
  • 2 篇 加州大学
  • 2 篇 曲阜师范大学
  • 1 篇 香港理工大学
  • 1 篇 国防科技大学
  • 1 篇 中国科学院上海光...

作者

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  • 12 篇 张曰理
  • 12 篇 张晋敏
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  • 7 篇 阳生红
  • 6 篇 陈良尧
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  • 5 篇 干福熹
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  • 4 篇 孙兆奇
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语言

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溅射气压对TbFeCo磁光薄膜的光学常数的影响
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功能材料 2007年 第A3期38卷 1074-1076页
作者： 张勇 张晋敏 余平 田华 贵州大学电子科学与信息技术学院 贵州贵阳550025
利用直流磁控溅射制备了TbFeCo/Si薄膜，采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪，测量了用磁控溅射法制备的TbFeCo/Si薄膜的光学常数，测量能量范围为1．5～4．5eV。分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的TbFeCo/Si磁光薄膜的光学常数的影... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 评论
不同溅射气压对β-FeSi2形成的影响木
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功能材料 2007年 第A1期38卷 367-369页
作者： 曾武贤 谢泉 梁艳 张晋敏 肖清泉 杨吟野 任学勇 贵州大学电子科学与信息技术学院 贵州贵阳550025
采用磁控溅射方法，在不同的溅射气压（Ar气0．5-3．0Pa）条件下沉积纯金属Fe到Si（100）衬底上，通过真空退火炉在800℃对样品进行保温2h，直接形成了正交的β-FeSi2薄膜，利用X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、椭偏光谱仪，对不同... 详细信息
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光谱学与光谱技术
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中国光学 2001年 第3期15卷 16-16页
O433.4 2001031602椭偏光谱及在离子注入硅损伤研究中的应用=Spectroscopicellipsometry and its applications tostudy of radiation damage formed by ion implantationinto Si[刊,中]/阳生红,莫党(中山大学物理系.广东,广州(510275)... 详细信息
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光电子材料光学参数的无损检测
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光学技术 2001年 第5期27卷 466-468页
作者： 连洁 魏爱俭 李桂秋 王青圃 张淑芝 张晓阳 山东大学 济南250100
利用消光式椭圆偏振光谱法 ,在室温下可见光区对光电子材料镓铟磷的光学参数进行了测量 ,得到该材料的折射率和吸收系数随光子能量的变化关系曲线 ,并对结果进行了分析和讨论 。
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Al_xGa_(0.51-x)In_(0.49)P中Al的组分研究
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光电子．激光 1999年 第5期10卷 415-418页
作者： 张淑芝 连洁 魏爱俭 黄伯标 崔德良 秦晓燕 王海涛 山东大学光电系 济南250100 山东大学晶体材料所 济南250100 山东大学环境工程系 济南250100
本文利用椭圆偏振光谱法测量了用ＭＯＣＶＤ方法在ＧａＡｓ衬底上生长的ＡｌＧａＩｎＰ及ＡｌＧａＩｎＰ掺Ｓｉ两个样品，在可见光区室温下的光学常数，求得吸收系数、介电函数随光子能量的变化关系。用有效介质近似理论（ＥＭＡ）和线... 详细信息
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不同溅射气压对β-FeSi2形成的影响
不同溅射气压对β-FeSi2形成的影响
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第六届中国功能材料及其应用学术会议
作者： 曾武贤 谢泉 梁艳 张晋敏 肖清泉 杨吟野 任学勇 贵州大学电子科学与信息技术学院
采用磁控溅射方法,在不同的溅射气压(Ar 气0．5～3．0Pa)条件下沉积纯金属 Fe 到 Si(100)衬底上, 通过真空退火炉在800℃对样品进行保温2h,直接形成了正交的β-FeSi薄膜,利用 X 射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、椭偏光谱仪,对不同溅射气... 详细信息
来源： cnki会议 评论
溅射气压对TbFeCo磁光薄膜的光学常数的影响
溅射气压对TbFeCo磁光薄膜的光学常数的影响
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第六届中国功能材料及其应用学术会议
作者： 张勇 张晋敏 余平 田华 贵州大学电子科学与信息技术学院
利用直流磁控溅射制备了 TbFeCo/Si 薄膜, 采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪,测量了用磁控溅射法制备的 TbFeCo/Si 薄膜的光学常数,测量能量范围为1．5～4．5eV．分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的 TbFeCo/Si 磁光薄膜的光学常数... 详细信息
来源： cnki会议 评论
磁控溅射制备TbFeCo薄膜及其光学和磁光性质研究
磁控溅射制备TbFeCo薄膜及其光学和磁光性质研究
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第五届中国功能材料及其应用学术会议
作者： 张晋敏 郜小勇 李晶 周鹏 郑玉祥 王松有 张冬青 陈良尧 复旦大学光科学与工程系 贵州大学电子科学系
采用放电等离子烧结(SPS)TbFeCo合金靶,分别在Si衬底和K9玻璃衬底上磁控溅射制备了磁光薄膜TbFeCo/Si和TbFeCo/K9;利用扫描型可变入射角全自动椭偏仪,室温下测量了复介电常数谱,测量结果表明两样品介电函数值有较大差异,说明衬底对薄膜... 详细信息
来源： cnki会议 评论
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