溅射气压对TbFeCo磁光薄膜的光学常数的影响
Effects of sputtering Ar pressure on the optical constants of TbFeCo/Si作者机构：贵州大学电子科学与信息技术学院贵州贵阳550025
出 版 物：《功能材料》 (Journal of Functional Materials)
年 卷 期：2007年第38卷第A03期
页 面：1074-1076页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：贵州省教育厅大学生创业基金资助项目(701059101) 贵州省科技厅自然科学基金资助项目(20033059) 贵州省教育厅自然科学基金资助项目(2003315)
摘 要：利用直流磁控溅射制备了TbFeCo/Si薄膜，采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪，测量了用磁控溅射法制备的TbFeCo/Si薄膜的光学常数，测量能量范围为1．5～4．5eV。分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的TbFeCo/Si磁光薄膜的光学常数的影响。实验结果表明，在低能区域，样品的所有光学常数均随压强增加而增加，受制备工艺影响较大。但在高能区域，光学常数随压强的变化相对说来不再明显．
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