不同溅射气压对β-FeSi2形成的影响木

作     者：曾武贤 谢泉 梁艳 张晋敏 肖清泉 杨吟野 任学勇 

作者机构：贵州大学电子科学与信息技术学院贵州贵阳550025 

出 版 物：《功能材料》 (Journal of Functional Materials)

年 卷 期：2007年第38卷第A1期

页      面：367-369页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：基金项目:国家自然科学基金资助项目(60566001) 教育部博士点专项科研基金资助项目(20050657003) 教育部留学回国科研基金资助项目(教外司 2005)383 贵州省优秀青年科技人才培养计划资助项目(黔科合人:20050528)贵州省科技厅国际合作资助项目(黔科合G(2005)400102) 贵州省教育厅重点基金资助项目(05JJ002) 

主　　题：β-FeSi2 溅射气压 XRD SEM 椭偏光谱 

摘      要：采用磁控溅射方法，在不同的溅射气压（Ar气0．5-3．0Pa）条件下沉积纯金属Fe到Si（100）衬底上，通过真空退火炉在800℃对样品进行保温2h，直接形成了正交的β-FeSi2薄膜，利用X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、椭偏光谱仪，对不同溅射气压下合成的β-FeSi2薄膜的结晶特性、表面形貌及光学性能进行表征，研究了不同溅射气压对制备β-FeSi2薄膜的影响。结果表明：在1．5Pa时能形成较好的β-FeSi2薄膜，临界溅射气压在2．0Pa附近，当溅射气压低与临界值时，β-FeSi2薄膜的成核密度较高，且成核密度随溅射气压的增大而降低；当溅射气压超过临界值以后，β-FeSi2薄膜的成核密度基本不变；薄膜的折射率n随压强的增大而增大，消光系数k随压强的增大而减小。