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    • 1 篇 教育学
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作者

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语言

  • 97 篇 中文
检索条件"主题词=椭偏光谱"
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基于不同色散模型的TiO2薄膜的椭偏光谱分析
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光电子·激光 2024年 第8期35卷 822-827页
作者: 王梦茹 管悦 杨至营 孙晓娟 韩培高 曲阜师范大学物理工程学院 中国石油大学(华东)地球科学与技术学院
为了研究不同色散模型对含孔隙TiO2薄膜的椭偏光谱分析的影响,分别采用5种色散模型对溶胶-凝胶法制备的TiO2薄膜在1.55—4 eV波长范围内的椭偏光谱进行拟合分析,并利用斜反射谱对各模型的拟合结果进行验证。结果表明:不同色散模型的... 详细信息
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基于椭偏光谱和光杠杆法的薄膜厚度及曲率测量系统设计
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光通信技术 2024年
作者: 孙伟 金尚忠 张殷 孙紫娟 徐胜 中国计量大学光学与电子科技学院 苏州岚创科技有限公司
DWDM技术中被广泛使用的窄带滤光片在工艺调试中,需要对单层薄膜的膜厚、厚度分布及薄膜残余应力等表征薄膜制备是否满足设计要求的参数进行测量,针对目前需采用多个系统测量的复杂性及重复定位引入系统误差的问题。本文在偏的基础... 详细信息
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CsPbIxBr(3-x)钙钛矿电池中薄膜的椭偏光谱研究
CsPbIxBr(3-x)钙钛矿电池中薄膜的椭偏光谱研究
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作者: 王梦茹 曲阜师范大学
学位级别:硕士
全无机铯铅卤钙钛矿CsPbIBr因其较好的热稳定性和光电性能在太阳能电池、发光二极管、光电探测器等其他光电器件领域具有潜在的应用价值。但是当前关于CsPbIBr薄膜的研究热点主要集中在制备方法、制备参数的优化等方面,对其光学性质的... 详细信息
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Ba_xSr_((1-x))TiO_3多层膜椭偏光谱研究
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红外与毫米波学报 2003年 第1期22卷 13-17页
作者: 张曰理 莫党 S.U.Adikary C.L.Mak H.L.W.Chen C.L.Choy 中山大学光电材料与技术国家重点实验室 物理系广东广州510275 香港理工大学
用溶胶 凝胶技术在Si(10 0 )衬底上制备了单层和渐变型多层的BaxSr(1-x) TiO3 薄膜 ,其膜层组分分别为 :Ba0 .7Sr0 .3TiO3,Ba0 .8Sr0 .2 TiO3,Ba0 .9Sr0 .1TiO3,BaTiO3.对生长制备出的多层BaxSr(1-x) TiO3 薄膜进行了变角度椭偏光谱测... 详细信息
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铌酸锶钡薄膜制备及椭偏光谱研究
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功能材料 2004年 第z1期35卷 178-180页
作者: 王正 张曰理 郭扬铭 莫党 中山大学 光电材料与技术国家重点实验室物理系广东广州510275 中山大学光电材料与技术国家重点实验室物理系广东广州510275 中山大学光电材料与技术国家重点实验室物理系广东广州510275 中山大学光电材料与技术国家重点实验室物理系广东广州510275
用溶胶-凝胶法成功地制备出了退火温度分别为500、600、700、800、900℃的铌酸锶钡(SBN)薄膜;对制备出SBN薄膜分别进行了椭偏光谱测量研究,得到了不同退火SBN薄膜椭偏光谱参数曲线;并对测得的椭偏光谱进行了数值反演计算,得到了不同退... 详细信息
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各向异性择优取向薄膜的椭偏光谱术理论
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中山大学学报(自然科学版) 2004年 第6期43卷 85-88页
作者: 刘毅 莫党 张曰理 何振辉 中山大学光电材料与技术国家重点实验室
推导出一组具有特殊择优取向的各向异性薄膜的偏公式,并以光轴沿着薄膜表面及光轴垂直薄膜表面的各向异性薄膜为例,分别在透明和吸收波段进行模拟计算,得到了偏谱的基本特征。
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ZnSe/SiO_2薄膜光学常数的椭偏光谱测量
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压电与声光 2006年 第3期28卷 353-356页
作者: 姜海青 姚熹 车俊 汪敏强 西安交通大学电子材料研究所教育部重点实验室 陕西西安710049
采用溶胶-凝胶工艺与原位生长技术,制备了ZnSe/SiO2复合薄膜。X-射线衍射(XRD)分析表明,ZnSe/SiO2复合薄膜中ZnSe晶体为闪锌矿(立方ZnS)。利用椭偏光谱仪测量了不同ZnSe含量的ZnSe/SiO2复合薄膜的偏参数Δ与波长λ的色散关系,采用Maxw... 详细信息
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Ba_(0.9)Sr_(0.1)TiO_3薄膜的椭偏光谱研究
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无机材料学报 2001年 第2期16卷 305-310页
作者: 阳生红 李辉遒 张曰理 莫党 田虎永 罗维根 蒲兴华 丁爱丽 中山大学物理系 广州510275 中国科学院上海硅酸盐研究所无机功能开放实验室 上海200050
椭偏光谱仪首次在光子能量为2.1~5.2eV的范围内,测量了不同热处理温度下Ba0.9Sr0.1TiO3(BST)薄膜的椭偏光谱,建立适当的拟合模型,并用Cauchy色散模型描述BST薄膜的光学性质,用最优化法获得... 详细信息
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不同制备工艺下氧化硅和氧化铪薄膜的椭偏光谱
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红外与激光工程 2012年 第3期41卷 765-769页
作者: 吴倩 陈松林 马平 成都精密光学工程研究中心 四川成都610000
偏技术是一种分析表面的光学方法,通过测量被测对象(样品)反射出的光线的偏振状态的变化情况来研究被测物质的性质。结合XRD和原子力显微镜等方法,利用圆偏振光谱仪测试了单层SiO2薄膜(K9基片)和单层HfO2薄膜(K9基片)的偏参数,并... 详细信息
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功能碳薄膜化学键成分的椭偏光谱研究
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功能材料 2003年 第5期34卷 582-584页
作者: 莫党 李芳 陈第虎 郭扬铭 魏爱香 中山大学理工学院光电材料与技术国家重点实验室 广东广州510275 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室
 用磁过滤真空离子溅射系统,改变加在单晶Si(100)衬底上的衬底偏压,制备不同sp3C键与sp2C键比例的碳薄膜样品。测量了2.0~5.0eV光子能量范围内各个碳薄膜样品的椭偏光谱。发现该谱与碳薄膜中的sp键比例有明显的关系。我们提出一种较... 详细信息
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