检索结果-南通市图书馆

不同沉积温度下非晶硅光学薄膜的光学特性研究

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

光学学报 2014年第4期34卷 286-288页

作者：罗海瀚蔡清元李耀鹏刘定权中国科学院上海技术物理研究所上海200083

光学薄膜的光学特性是薄膜设计与制备的基础。硅材料是红外光学薄膜中一种重要的高折射率材料。研究了在不同沉积温度下非晶硅光学薄膜的折射率和消光系数的变化。结果表明,在200℃时,硅薄膜折射率最大,消光系数随温度升高而减小。

关键词：薄膜非晶硅光学特性沉积温度

不同沉积温度下单纯蒸镀二氧化硅薄膜的光学特性研究

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

光学学报 2014年第B12期34卷 429-433页

作者：罗海瀚蔡清元李耀鹏刘定权中国科学院上海技术物理研究所上海200083

二氧化硅（SiO2）是一种重要的光学薄膜材料，通常采用电子束蒸发辅以离子束轰击的方式沉积，但在某些情况下，不能借用氧离子束的轰击。着重研究了不同沉积温度下无离子源辅助制备的二氧化硅薄膜的光学特性。通过直接在线的光学监控方... 详细信息

二氧化硅（SiO2）是一种重要的光学薄膜材料，通常采用电子束蒸发辅以离子束轰击的方式沉积，但在某些情况下，不能借用氧离子束的轰击。着重研究了不同沉积温度下无离子源辅助制备的二氧化硅薄膜的光学特性。通过直接在线的光学监控方式，获得薄膜生长过程的透射率曲线，并得到薄膜在真空中的折射率。采用真空在线光谱扫描和大气中离线的光谱扫描，结合光度法拟合得到薄膜折射率。结果表明由于基片温度的变化，二氧化硅薄膜的折射率会随着薄膜的厚度而改变，随着沉积温度的升高而变大，折射率值在1.34～1.41之间。

关键词：薄膜二氧化硅光学监控光学特性沉积温度

胶体Cu_2CdSnS_4纳米晶的合成与其性质研究(英文)

维普期刊数据库评论

在线全文

维普期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

红外与毫米波学报 2012年第1期31卷 1-4页

作者：刘玉峰葛美英罗海瀚孙艳吴杰戴宁中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室上海200083

用简易的溶液化学方法合成了胶体Cu2CdSnS4纳米晶.透射电子显微镜(TEM),扫描电子显微镜(SEM),能谱(EDS),X射线衍射(XRD),X射线光电子谱(XPS)和UV-vis-NIR吸收光谱测试表明Cu2CdSnS4胶体纳米晶具有均一的尺寸分布和良好的结晶性,并具有... 详细信息

用简易的溶液化学方法合成了胶体Cu2CdSnS4纳米晶.透射电子显微镜(TEM),扫描电子显微镜(SEM),能谱(EDS),X射线衍射(XRD),X射线光电子谱(XPS)和UV-vis-NIR吸收光谱测试表明Cu2CdSnS4胶体纳米晶具有均一的尺寸分布和良好的结晶性,并具有四面体结构.纳米晶中Cu/Cd/Sn/S的化学计量比约为2.07:0.75:1.26:3.92,Cu、Cd、Sn和S四种元素的化学态分别为+1、+2、+4和-2价,与Cu2 CdSnS4分子式中的化学态一致.通过外推法估算Cu2CdSnS4纳米晶的禁带宽度为～1.3 eV.

关键词：胶体纳米晶 Cu2CdSnS4 光伏材料太阳能电池

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

PbS量子点的化学制备及其太阳能光伏特性

红外与毫米波学报 2013年第5期32卷 385-388页

作者：葛美英刘玉峰罗海瀚黄婵燕孙艳戴宁中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室上海200083

通过化学溶液体系中反应温度与原料配比的控制合成了第一吸收峰在833 ～ 1700 nm范围内可调的PbS量子点.利用X射线衍射（XRD）、透射电子显微镜（TEM）和高分辨透射电子显微镜（HRTEM）、吸收光谱等手段研究了化学溶液法制备的PbS量子... 详细信息

通过化学溶液体系中反应温度与原料配比的控制合成了第一吸收峰在833 ～ 1700 nm范围内可调的PbS量子点.利用X射线衍射（XRD）、透射电子显微镜（TEM）和高分辨透射电子显微镜（HRTEM）、吸收光谱等手段研究了化学溶液法制备的PbS量子点形貌、尺寸分布以及近红外吸收等特性.所获得的量子点尺寸分布均匀,直径在2.6～7.0 nm范围内可调.基于PbS量子点的红外吸收特性,通过表面修饰方法在原子层沉积技术（ALD）生长的TiO2薄膜上构筑了FTO/TiO2/PbS/Au光伏器件结构,并初步研究了光电流与量子点特征吸收的关系等光电转换特性.

关键词： PbS 量子点耗尽层异质结太阳能电池

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

基于全内反射的偏振相位差快速测量

光学学报 2013年第B12期33卷 225-229页

作者：蔡清元罗海瀚陈刚刘定权中国科学院上海技术物理研究所上海200083

采用琼斯矩阵进行系统偏振分析，提出了一种基于全内反射的偏振相位差快速测量方法。采用光学薄膜特征矩阵理论对薄膜进行光学特性分析，导出了通过测量全内反射偏振相位差以获取体材料折射率以及膜层厚度的关系式。实验采用该方法获得... 详细信息

采用琼斯矩阵进行系统偏振分析，提出了一种基于全内反射的偏振相位差快速测量方法。采用光学薄膜特征矩阵理论对薄膜进行光学特性分析，导出了通过测量全内反射偏振相位差以获取体材料折射率以及膜层厚度的关系式。实验采用该方法获得了K9玻璃的色散曲线，分析了其膜层厚度的监控灵敏度，并与透射率监控方式进行比较。研究结果表明：采用该方法获得的K9玻璃色散曲线与标准曲线非常吻合；该方法相较于透射率监控具有更高的厚度监控灵敏度和折射率测量精度。

关键词：薄膜光学监控偏振相位差全内反射快速测量

锗(Ge)光学薄膜在不同沉积温度下的聚集密度研究

维普期刊数据库评论

在线全文

维普期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

光电工程 2011年第12期38卷 90-93页

作者：罗海瀚刘定权尹欣张莉中国科学院上海技术物理研究所上海200083 中国科学院研究生院北京100049

锗（Ge）薄膜是中长波红外区最常用的光学薄膜之一,高的聚集密度对于提升光谱稳定性和光学薄膜元件的品质非常重要。选用纯度为99.99%的Ge材料,在5×10-4Pa左右的真空压力下用电子束蒸发沉积,石英晶振仪将沉积速率控制在0.8~1.0nm/s范围... 详细信息

锗（Ge）薄膜是中长波红外区最常用的光学薄膜之一,高的聚集密度对于提升光谱稳定性和光学薄膜元件的品质非常重要。选用纯度为99.99%的Ge材料,在5×10-4Pa左右的真空压力下用电子束蒸发沉积,石英晶振仪将沉积速率控制在0.8~1.0nm/s范围,宝石片基片上的膜层厚度约为0.8~1.0μm,在不同沉积温度下制备样品。用傅里叶红外光谱仪测量吸潮前后薄膜的光谱曲线,根据波长漂移理论,计算出薄膜的聚集密度。结果表明：聚集密度随沉积温度的升高而增加,从常温沉积的约0.74上升到250℃沉积的0.99以上。

关键词：光学薄膜聚集密度锗沉积温度

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

硅基片上的中波红外铝线栅偏振器设计

微纳电子技术 2018年第7期55卷 461-467页

作者：孔园园罗海瀚刘定权中国科学院上海技术物理研究所上海200083 中国科学院大学北京100049

设计了一种Si基片上的Al线栅偏振器,在Al线栅和Si基片间引入一层低折射率SiO介质层,适用于3.0-5.0μm的中波红外波段。采用有限时域差分（FDTD）方法,对SiO介质层和金属线栅材料（Al,Au,Ag,Cu和Rh）分别进行了优化。SiO介质层的引入削弱... 详细信息

设计了一种Si基片上的Al线栅偏振器,在Al线栅和Si基片间引入一层低折射率SiO介质层,适用于3.0-5.0μm的中波红外波段。采用有限时域差分（FDTD）方法,对SiO介质层和金属线栅材料（Al,Au,Ag,Cu和Rh）分别进行了优化。SiO介质层的引入削弱了Al线栅和Si基片之间界面上激发的表面等离子体激元,横磁（TM）偏振光的透过率提高,横电（TE）偏振光的反射增强,消光比上升。对Al,Au,Ag,Cu和Rh五种金属线栅材料分析表明,Al是最合适的材料。当SiO介质层厚度为300 nm、线栅周期为400 nm和占空比为0.5时,Al线栅偏振器在4.0μm波长处的TM偏振光的透过率达到94.8%,消光比为28.3 dB,在3.0-5.0μm波段具有良好的偏振性能。

关键词：线栅偏振器硅(Si)基片介质层铝(Al)线栅消光比

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

沉积温度对一氧化硅薄膜聚集密度的影响

光子学报 2012年第2期41卷 170-172页

作者：罗海瀚刘定权尹欣蔡渊张莉中国科学院上海技术物理研究所上海200083 中国科学院研究生院北京100049

一氧化硅(SiO)薄膜是中短波红外区最常用的光学薄膜之一,高的聚集密度对于提升光谱稳定性和光学薄膜元件的品质非常重要.选用纯度为99.99%的SiO块状材料,在5×10-4 Pa背景真空中用钼舟蒸发沉积,石英晶振仪将沉积速率控制在1.2～1.5nm/s... 详细信息

一氧化硅(SiO)薄膜是中短波红外区最常用的光学薄膜之一,高的聚集密度对于提升光谱稳定性和光学薄膜元件的品质非常重要.选用纯度为99.99%的SiO块状材料,在5×10-4 Pa背景真空中用钼舟蒸发沉积,石英晶振仪将沉积速率控制在1.2～1.5nm/s范围,硅基片上的膜层厚度约为2.2～2.4μm,在不同沉积温度下制备样品.用傅里叶红外光谱仪分别测试新鲜薄膜和充分浸湿薄膜的光谱曲线,根据波长漂移理论,计算出薄膜的聚集密度.结果表明:聚集密度随沉积温度的升高而增加,从常温沉积的约0.91上升到250℃沉积的0.99以上.

关键词：光学薄膜聚集密度一氧化硅沉积温度

引入表面微结构的3.7～4.8μm红外折衍混合物镜设计

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

红外技术 2019年第10期41卷 918-923页

作者：刘敏刘定权周晟罗海瀚张秋玉中国科学院上海技术物理研究所上海200083 中国科学院大学北京100049

折衍混合透镜具有重量轻和结构紧凑的特点,在空间光学仪器等方面有一定的优势。结合物镜设计要求的工作波段3.7~4.8μm、焦距64 mm和F数1.6等参数,采用了含有平面衍射微结构的3片式分离镜片,物镜总长度和重量得以明显减少,减少约40%。... 详细信息

折衍混合透镜具有重量轻和结构紧凑的特点,在空间光学仪器等方面有一定的优势。结合物镜设计要求的工作波段3.7~4.8μm、焦距64 mm和F数1.6等参数,采用了含有平面衍射微结构的3片式分离镜片,物镜总长度和重量得以明显减少,减少约40%。镜片选用了常用的红外光学材料硅和锗,设计对公差的要求较为宽松,得到的弥散斑半径小于9.5μm,各个视场的MTF值在17毫米线对处均达到0.8。硅平面镜表面的衍射微结构可以用4次套镀薄膜的方法来实现16个台阶,分析了衍射微结构可接受的加工误差范围。选用SiO和ZnS膜层来减少镜片表面反射损失,波段内物镜的光学效率达到93%。

关键词：折衍混合物镜衍射微结构光学设计薄膜