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天祝藏族自治县扶贫开发效果调查及对策研究

天祝藏族自治县扶贫开发效果调查及对策研究

作者：张晋敏西北民族大学

学位级别：硕士

脱离贫困,实现富裕是每一个人的理想,而贫困却是几千年来都客观存在的,无论是社会服务机制健全富裕的国家,还是生产落后贫穷的国家,贫困依然存在,所以摆脱贫困是一个长期的问题。本文通过对“贫困”“贫困文化”“扶贫开发”等定义的阐... 详细信息

脱离贫困,实现富裕是每一个人的理想,而贫困却是几千年来都客观存在的,无论是社会服务机制健全富裕的国家,还是生产落后贫穷的国家,贫困依然存在,所以摆脱贫困是一个长期的问题。本文通过对“贫困”“贫困文化”“扶贫开发”等定义的阐述贫困,了解贫困人口为什么贫困、扶贫开发的项目为什么在部分区域有良好的效益,在部分地区却相形见绌的困惑。天祝藏族自治县作为全省、全市唯一的藏族自治县,在全省、全市不论是经济社会发展、还是民族团结稳定,不论是区域协作共赢、还是民族文化交流,都具有一定的代表性。因此笔者将天祝作为本次论文的调研点,深入走访调研,通过案例和问卷的具体分析了扶贫对象对扶贫政策的认知,了解他们的贫困文化;从民族学的角度理解贫困人口和扶贫开发,对天祝藏族自治县贫困状况及扶贫开发模式做出详细介绍;以扶贫对象为主线,研究分析调查地区的扶贫成效、扶贫对象对相关扶贫政策的满意度;通过实地调研发现贫困个体的消费方式、生活环境、思想观点对扶贫政策的影响,以及政府对于贫困个体发展的影响因素。最后笔者对文章进行了思考,表述本论文的研究结果,并对此提出相关政策以期改善扶贫开发的成效。

关键词：贫困扶贫开发影响因素天祝藏族自治县

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Fe／Si薄膜中硅化物的形成和氧化

材料研究学报 2008年第3期22卷 297-302页

作者：张晋敏谢泉梁艳曾武贤贵州大学新型光电子材料与技术研究所贵州大学电子科学与信息技术学院贵阳550025

用磁控溅射方法制备Fe/Si薄膜,采用卢瑟福背散射(RBS)技术研究了退火过程中的相变过程和氧化.结果表明:未退火的Fe/Si薄膜界面清晰,873 K退火后,界面附近Fe、Si原子开始相互扩散,973 K退火后富金属相Fe_(1+x)Si形成,而1073 K退火后形成... 详细信息

用磁控溅射方法制备Fe/Si薄膜,采用卢瑟福背散射(RBS)技术研究了退火过程中的相变过程和氧化.结果表明:未退火的Fe/Si薄膜界面清晰,873 K退火后,界面附近Fe、Si原子开始相互扩散,973 K退火后富金属相Fe_(1+x)Si形成,而1073 K退火后形成中间相FeSi,当温度增加至1273 K后所有硅化物完全转变为富硅相FeSi_2,即随退火温度的升高,Fe,Si原子间扩散增强,从而形成不同化学计量比的Fe-Si化合物,且薄膜中易迁移原子种类由Fe变为Si.同时,质子束RBS和XRD测量结果显示,在未退火及低温退火的样品中,薄膜有氧化现象,随退火温度增加,由于高温下金属氧化物被还原并逐渐挥发,样品中氧的含量逐渐减少最后完全消失.

关键词：无机非金属材料半导体材料原子扩散卢瑟福背散射 Fe-Si化合物

溅射气压对Si/Ge多层膜结构光学常数的影响

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红外与毫米波学报 2003年第1期22卷 77-79页

作者：张晋敏郜小勇杨宇陈良尧复旦大学光科系云南大学材料系云南昆明650091

采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪 ,测量了用磁控溅射法制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数 ,测量能量范围为 1.5～ 4.5eV .分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数的影响 .实验结果表明 ,在低能区域 ,... 详细信息

采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪 ,测量了用磁控溅射法制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数 ,测量能量范围为 1.5～ 4.5eV .分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数的影响 .实验结果表明 ,在低能区域 ,随压强的增加 ,多层膜结构的所有光学常数均有不同程度的增加 ,但在高能区域 ,溅射气压对光学常数的影响不再明显 .多层膜结构的复介电常数的实部和虚部及折射率n的峰位随压强增大而向低能方向位移 ;多层膜结构的消光系数k的峰位随压强的变化很小 ,但其峰值随压强的增加而增加 .

关键词：溅射气压 Si/Ge多层膜结构椭偏光谱光学常数磁控溅射硅硅衬底大规模集成电路

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CZ天然气高压管道工程项目进度管理研究

CZ天然气高压管道工程项目进度管理研究

作者：张晋敏华南理工大学

学位级别：硕士

近年来,全球天然气能源快速发展,尽管受到全球经济持续低迷和国际油价长期低位运行的影响,天然气的需求依然处于上升态势,可以预期未来十至二十年,天然气在我国及世界能源发展中更加重要。管输是天然气利用的主要运输方式,作为长输干支... 详细信息

近年来,全球天然气能源快速发展,尽管受到全球经济持续低迷和国际油价长期低位运行的影响,天然气的需求依然处于上升态势,可以预期未来十至二十年,天然气在我国及世界能源发展中更加重要。管输是天然气利用的主要运输方式,作为长输干支线区域延伸的城市天然气高压管道,其工程项目建设也是蓬勃发展。随之,建设过程中的问题也日益突出,尤其是工程的进度计划和控制问题。CZ天然气高压管道工程项目是CZ市人民政府推行的管道燃气供应“一张网”项目中的上游高压管道部分,按照“全市一张管网、多路气源互补、同网同质同价”的原则,实现与上游气源项目的对接,积极培育拓展用气市场,建设统一规划、建设、调度、管理和安全可靠的燃气供应新格局,充分发挥燃气在经济社会发展的重要作用。本文以CZ天然气高压管道项目进度管理作为研究背景,从建设单位项目的全寿命周期管理角度探讨现代项目进度管理在燃气行业的应用状况,主要问题在于计划不周全、未进行控制、计划资源配置不合理等,本文重点关注项目进度管理中组织模式、科学合理的进度计划、进度风险、进度计划优化及效果。采用理论结合项目实际的方式,研究讨论CZ天然气高压管道项目进度管理知识和应用。在对CZ天然气高压管道工程项目全寿命周期内所有工作进行调查研究的基础上,参考对比国内外项目管理的现状和理论研究,找出项目实施过程中与进度计划和控制相关的所有问题,并分析问题产生的原因。计划运用调整资源制约项目规划,CPM/PERT网络计划技术工期优化、结合资源与进度相关的关键链项目管理(CCPM)、考虑工期风险计算等管理思想和技术,通过文献研究、实证研究、案例研究等方法,提出优化进度管理思路和对策,并且对改进实施后的效果做出的合理预测和证实。同时期望以本项目为例,对今后的燃气行业的城市高压管道及长输管线项目进度管理有所帮助和借鉴作用。

关键词：天然气高压管道进度管理控制

溅射气压对TbFeCo磁光薄膜的光学常数的影响

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功能材料 2007年第A3期38卷 1074-1076页

作者：张勇张晋敏余平田华贵州大学电子科学与信息技术学院贵州贵阳550025

利用直流磁控溅射制备了TbFeCo/Si薄膜，采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪，测量了用磁控溅射法制备的TbFeCo/Si薄膜的光学常数，测量能量范围为1．5～4．5eV。分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的TbFeCo/Si磁光薄膜的光学常数的影... 详细信息

利用直流磁控溅射制备了TbFeCo/Si薄膜，采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪，测量了用磁控溅射法制备的TbFeCo/Si薄膜的光学常数，测量能量范围为1．5～4．5eV。分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的TbFeCo/Si磁光薄膜的光学常数的影响。实验结果表明，在低能区域，样品的所有光学常数均随压强增加而增加，受制备工艺影响较大。但在高能区域，光学常数随压强的变化相对说来不再明显．

关键词：磁控溅射 TbFeCo薄膜椭偏光谱光学常数

β-FeSi_2/Si异质结的制备及性质研究

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功能材料 2012年第11期43卷 1469-1471页

作者：郑旭张晋敏熊锡成张立敏赵清壮谢泉贵州大学理学院新型光电子材料与技术研究所贵州贵阳550025

采用直流磁控溅射和真空退火方法制备β-FeSi2/Si异质结,首先在n型Si(100)衬底上沉积Fe膜,经真空退火形成β-FeSi2/Si异质结,Fe膜厚度约238nm,退火后形成的β-FeSi2薄膜厚度约为720nm。利用XRD、SEM和红外光谱仪分别研究了β-FeSi2薄膜... 详细信息

采用直流磁控溅射和真空退火方法制备β-FeSi2/Si异质结,首先在n型Si(100)衬底上沉积Fe膜,经真空退火形成β-FeSi2/Si异质结,Fe膜厚度约238nm,退火后形成的β-FeSi2薄膜厚度约为720nm。利用XRD、SEM和红外光谱仪分别研究了β-FeSi2薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性质。霍尔效应结果表明,制备的β-FeSi2薄膜为n型导电,载流子浓度为9.51×1015cm-3,电子迁移率为380cm2/(V.s)。

关键词：磁控溅射 β-FeSi2/Si异质结输运性质

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退火对CN_x薄膜光学性质的影响

红外与毫米波学报 2003年第3期22卷 213-216页

作者：郜小勇张晋敏凌浩王松有吴嘉达杨月梅陈良尧复旦大学先进光子学器件和材料国家重点实验室上海200433 贵州大学物理系贵州贵阳550025

报道了退火对电子回旋共振 (ECR)辅助脉冲激光溅射方法制备的CNx 薄膜样品光学性质的影响 .X射线衍射(XRD)结果显示CNx 薄膜基本为无定形结构 ,但存在微量的多晶结构 .拉曼散射谱显示所制备的CNx 薄膜样品主要由CN、少量的C—C和微量的C... 详细信息

报道了退火对电子回旋共振 (ECR)辅助脉冲激光溅射方法制备的CNx 薄膜样品光学性质的影响 .X射线衍射(XRD)结果显示CNx 薄膜基本为无定形结构 ,但存在微量的多晶结构 .拉曼散射谱显示所制备的CNx 薄膜样品主要由CN、少量的C—C和微量的CN组成 .随着退火温度的升高 ,拉曼散射谱不但在 135 7cm-1附近出现了一个新峰 (新峰对应无序的CN键 ) ,而且CN和CN的相对含量比随着退火温度的提高大致呈先减小后增大再减小的趋势 ,从而证实在退火过程中部分N原子发生了迁移 .椭偏仪所测量的CNx 薄膜的光学常数表明退火温度对ε1、ε2 、n、k的大小和谱线的形状均产生了显著影响 .结合拉曼散射谱可断定其原因为退火改变了CNx 薄膜样品的内部结构和键结构 .实验中得到的ε1、ε2 、n、k随光子能量的变化关系可用洛伦兹色散理论得到很好解释 .

关键词：椭偏光谱电子回旋共振反常色散拉曼散射退火处理 X射线衍射氮碳薄膜洛伦兹色散理论

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溅射功率对金属锰膜光学性质的影响

物理学报 2013年第24期62卷 318-323页

作者：唐华杰张晋敏金浩邵飞胡维前谢泉贵州大学电子信息学院贵州大学新型光电子材料与技术研究所贵阳550025

采用磁控溅射方法在Si(111)基片上制备金属锰膜,用椭圆偏振光谱在入射光子能量为2.0—4.0 eV范围内研究了溅射功率对薄膜光学性质的影响.利用德鲁得-洛伦兹色散模型对椭偏数据进行拟合,结果表明在测量范围内随溅射功率增加薄膜的折射率... 详细信息

采用磁控溅射方法在Si(111)基片上制备金属锰膜,用椭圆偏振光谱在入射光子能量为2.0—4.0 eV范围内研究了溅射功率对薄膜光学性质的影响.利用德鲁得-洛伦兹色散模型对椭偏数据进行拟合,结果表明在测量范围内随溅射功率增加薄膜的折射率减小;消光系数随入射光子能量增加先增加后减小,在3.0 eV附近处出现极大值,并且极大值所处的位置随溅射功率增加而向低能方向移动,这主要与溅射沉积的锰薄膜的质量有关,且随溅射功率的增加薄膜的消光系数逐渐趋近于金属锰的数值.研究结果还表明溅射功率的增加减少了薄膜中的空隙,有利于薄膜的生长.

关键词：磁控溅射金属锰膜椭圆偏振光谱德鲁得-洛伦兹色散模型

机械合金化-热压烧结制备金属间化合物Fe_3Si

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材料科学与工程学报 2012年第3期30卷 442-448,482页

作者：陈站张晋敏赵清壮朱培强郑旭谢泉贵州大学理学院新型光电子材料与技术研究所贵州贵阳550025

采用机械合金化(MA)和真空热压烧结(HP)法制备金属间化合物Fe3Si。X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、差热分析(DTA)和振动样品磁强计(VSM)分别用于分析化合物的物相、显微形貌、致密度和磁学性质。研究表明球磨55h可达到完全合金化,Si溶... 详细信息

采用机械合金化(MA)和真空热压烧结(HP)法制备金属间化合物Fe3Si。X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、差热分析(DTA)和振动样品磁强计(VSM)分别用于分析化合物的物相、显微形貌、致密度和磁学性质。研究表明球磨55h可达到完全合金化,Si溶入Fe中形成饱和固溶体α-Fe(Si),晶粒尺寸约7～8nm。热压烧结后,α-Fe(Si)固溶体发生有序转变生成Fe3Si。磁性能测量表明:样品的矫顽力随烧结温度的升高而减小;随烧结时间的延长而减小;饱和磁化强度随烧结时间的延长而增大。

关键词：金属间化合物Fe3Si 机械合金化热压烧结