退火对CN_x薄膜光学性质的影响

作     者：郜小勇 张晋敏 凌浩 王松有 吴嘉达 杨月梅 陈良尧 

作者机构：复旦大学先进光子学器件和材料国家重点实验室上海200433 贵州大学物理系贵州贵阳550025 

出 版 物：《红外与毫米波学报》 (Journal of Infrared and Millimeter Waves)

年 卷 期：2003年第22卷第3期

页      面：213-216页

核心收录：

学科分类：08[工学] 0803[工学-光学工程] 

基　　金：国家自然科学基金 (批准号 698780 0 3)资助项目~~ 

主　　题：椭偏光谱 电子回旋共振 反常色散 拉曼散射 退火处理 X射线衍射 氮碳薄膜 洛伦兹色散理论 

摘      要：报道了退火对电子回旋共振 (ECR)辅助脉冲激光溅射方法制备的CNx 薄膜样品光学性质的影响 .X射线衍射(XRD)结果显示CNx 薄膜基本为无定形结构 ,但存在微量的多晶结构 .拉曼散射谱显示所制备的CNx 薄膜样品主要由CN、少量的C—C和微量的CN组成 .随着退火温度的升高 ,拉曼散射谱不但在 135 7cm-1附近出现了一个新峰 (新峰对应无序的CN键 ) ,而且CN和CN的相对含量比随着退火温度的提高大致呈先减小后增大再减小的趋势 ,从而证实在退火过程中部分N原子发生了迁移 .椭偏仪所测量的CNx 薄膜的光学常数表明退火温度对ε1、ε2 、n、k的大小和谱线的形状均产生了显著影响 .结合拉曼散射谱可断定其原因为退火改变了CNx 薄膜样品的内部结构和键结构 .实验中得到的ε1、ε2 、n、k随光子能量的变化关系可用洛伦兹色散理论得到很好解释 .