检索结果-南通市图书馆

0.7微米i线投影曝光系统光刻物镜的设计与试制

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

光学技术 1998年第3期24卷 57-59页

作者：陈旭南姚汉民中国科学院光电技术研究所

介绍了微电子专用关键设备０．７μｍｉ线投影曝光系统光刻物镜的主要技术指标，及设计试制中解决的关键单元技术和试制结果。结果表明，数值孔径ＮＡ＝０．４２，光刻工作分辨力０．６μｍ，像场尺寸１４．６ｍｍ×１４．６ｍｍ，畸变... 详细信息

介绍了微电子专用关键设备０．７μｍｉ线投影曝光系统光刻物镜的主要技术指标，及设计试制中解决的关键单元技术和试制结果。结果表明，数值孔径ＮＡ＝０．４２，光刻工作分辨力０．６μｍ，像场尺寸１４．６ｍｍ×１４．６ｍｍ，畸变＜±０．１μｍ的５倍精缩投影光刻物镜已试制成功。物镜具有双远心和有温度气压控制补偿，在满足高精度成像的同时，又能同时满足暗场同轴对准的特点。

关键词：光学投影系统镜头紫外光刻微电子工艺物镜

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

亚稳态氦原子束在纳米结构制作中的应用

强激光与粒子束 2003年第9期15卷 919-922页

作者：陈献忠姚汉民陈旭南中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室四川成都610209

　介绍两种用亚稳态氦原子束制作纳米结构的新方法。亚稳态原子束从原子源喷出后首先对其进行横向激光冷却,准直后的原子束穿过与之垂直的激光驻波场时发生淬火过程,原子的密度分布出现沟道化效应,给出基于光掩模制作纳米图形的基本原... 详细信息

　介绍两种用亚稳态氦原子束制作纳米结构的新方法。亚稳态原子束从原子源喷出后首先对其进行横向激光冷却,准直后的原子束穿过与之垂直的激光驻波场时发生淬火过程,原子的密度分布出现沟道化效应,给出基于光掩模制作纳米图形的基本原理、理论分析及模拟结果。介绍基于物理掩模制作纳米图形的原理和SAM抗蚀剂,利用沉积在基底上的亚稳态原子破坏基底上的SAM膜,结合刻蚀技术可制作出纳米量级的图形。

关键词：亚稳态原子束纳米结构制作光掩模光驻波淬火自组装单分子膜抗蚀剂

二维介质圆柱型光子晶体完全禁带与结构参数的关系

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

光电子．激光 2004年第7期15卷 835-838页

作者：张晓玉姚汉民杜春雷张磊中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室成都610209

利用Bandsolve软件分别优化计算得到GaAs、Si、Ge三种材料的二维介质圆柱型光子晶体完全禁带与晶格结构、填充比、介电常数比三个主要影响因素之间的关系。研究发现,当填充比(r/a)介于0.1～0.5时,对于六边形晶格,三种材料都不存在完全禁... 详细信息

利用Bandsolve软件分别优化计算得到GaAs、Si、Ge三种材料的二维介质圆柱型光子晶体完全禁带与晶格结构、填充比、介电常数比三个主要影响因素之间的关系。研究发现,当填充比(r/a)介于0.1～0.5时,对于六边形晶格,三种材料都不存在完全禁带;四边形晶格,Ge存在较窄的完全禁带,GaAs和Si不存在完全禁带。对于蜂窝形晶格,当填充比介于0.18～0.5时,三种材料均存在较大的完全禁带,而且,介电常数比越大,完全禁带宽度越大。所得结果对二维介质圆柱型光子晶体的制作和进一步应用研究奠定了理论依据。

关键词：二维介质圆柱光子晶体完全禁带填充比晶格介电常数比

亚微米(i线和g线)投影光刻物镜的光学装校

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

光学技术 1998年第3期24卷 63-66页

作者：姚汉民魏全忠齐晓慧中国科学院光电技术研究所

本文列出了ｉ线和ｇ线大数值孔径亚微米投影光刻物镜的技术指标要求，讨论了这类超高精度光刻物镜的光学装校技术特点，报告了计算机辅助高精度复杂光学系统偏心校正仪器和方法，最后给出了ｉ线和ｇ线光刻物镜装校检测结果。

关键词：投影光刻物镜光学装校微电子学亚微米

用完全非共振光驻波聚焦原子制作纳米结构分析

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

物理学报 2005年第6期54卷 2645-2652页

作者：陈献忠姚汉民陈旭南中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室成都610209

用完全非共振激光驻波场对热原子束实现纳米量级的聚焦,可以降低原子光刻试验的难度.用蒙特卡罗算法和轨迹模拟法分析原子源对原子聚焦的影响,结果表明靶的有效尺寸对纳米图形线宽的影响远大于原子束的发散角和原子的纵向速度分布.提出... 详细信息

用完全非共振激光驻波场对热原子束实现纳米量级的聚焦,可以降低原子光刻试验的难度.用蒙特卡罗算法和轨迹模拟法分析原子源对原子聚焦的影响,结果表明靶的有效尺寸对纳米图形线宽的影响远大于原子束的发散角和原子的纵向速度分布.提出几种改进试验的方法.

关键词：完全非共振激光驻波场原子聚焦纳米结构制作原子光刻试验

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

一种基于惯性动量作用的微压电泵

压电与声光 2006年第1期28卷 43-45页

作者：王皓姚汉民杜春雷电子科技大学机电工程学院四川成都610054 中国科学院光电技术研究所四川成都610209

提出一种新的微压电泵工作机理,采用环形流道式泵腔与两个无运动件阀,形成双级惯性动量作用机制。通过减小腔内回流比例、增大正反方向流阻差,提高泵液效率与输出泵压、减小输出脉动。仿真结果表明该工作机理是可行的。

关键词：微压电泵压电陶瓷微机电系统

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

光学投影曝光微纳加工技术 4

丛书名：电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著

2006年

作者：姚汉民胡松邢廷文

国家科学技术学术著作出版基金资助:本书系统介绍主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、系统组成、应用和发展前景，详细介绍投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台、分辨力增强技术以及整机集成。

ISBN: (纸本)7563916695

关键词：光学投影系统电子束光刻

来源：汇雅图书（南通市图书馆... 评论

在线全文

汇雅图书（南通市图书馆）

学校读者我要写书评

暂无评论

用光梯度场控制原子制做纳米点阵研究

光电子．激光 2002年第10期13卷 1040-1043页

作者：陈献忠姚汉民陈旭南石建平中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室成都610209

提出制做纳米点阵的一种新方法。用波长为 4 2 5 .5 nm的光梯度场操纵铬原子可制做出阵列密度达 2 .2 1× 10 7per/ mm2、理论半高宽度 (FWH M)可达 10 nm的纳米点阵。介绍用光梯度场操纵原子制做纳米点阵的原理 ,对原子束的准直进行分... 详细信息

提出制做纳米点阵的一种新方法。用波长为 4 2 5 .5 nm的光梯度场操纵铬原子可制做出阵列密度达 2 .2 1× 10 7per/ mm2、理论半高宽度 (FWH M)可达 10 nm的纳米点阵。介绍用光梯度场操纵原子制做纳米点阵的原理 ,对原子束的准直进行分析 ,给出原子束在激光梯度场中聚焦的经典模型和量子模型并进行数值模拟。用光操纵原子制做纳米点阵使器件的阵列密度和尖端曲率得到大幅度提高 ,该器件作为发射极可以降低工作电压和提高发射电流。

关键词：光梯度场原子束操纵纳米点阵制做纳米技术

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

21世纪微电子光刻技术

半导体技术 2001年第10期26卷 47-51,73页

作者：姚汉民刘业异中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室四川成都610209

介绍了２４８ｎｍ，１９３ｎｍ。

关键词：准分子激光投影光刻 x射线光刻极紫外光刻电子束投影光刻离子束投影光刻微电子光刻技术