21世纪微电子光刻技术
Optical lithography application to the microfabrication of microelectronics in the 21st century作者机构：中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室四川成都610209
出 版 物：《半导体技术》 (Semiconductor Technology)
年 卷 期：2001年第26卷第10期
页 面：47-51,73页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学]
主 题：准分子激光投影光刻 x射线光刻 极紫外光刻 电子束投影光刻 离子束投影光刻 微电子 光刻技术
摘 要：介绍了２４８ｎｍ，１９３ｎｍ。
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