PLD法制备高介电调谐率的纳米晶BZT薄膜
High dielectric tunability of nanocrystalline Ba(Zr_xTi_(1-x))O_3 thin films prepared by pulsed laser deposition作者机构:广西民族大学物理与电子工程学院广西南宁530006 广东工业大学物理与光电工程学院广东广州510006 香港理工大学应用物理系
出 版 物:《电子元件与材料》 (Electronic Components And Materials)
年 卷 期:2007年第26卷第1期
页 面:46-48,51页
学科分类:08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学]
基 金:广东省自然科学基金资助项目(No.05001825)
主 题:无机非金属材料 锆钛酸钡薄膜 脉冲激光沉积 柱状晶粒 介电调谐特性 探测优值
摘 要:用脉冲激光沉积工艺制备了Ba(ZrxTi1-x)O3(x=0.25,0.30简称BZT25和BZT30)介电薄膜。在650℃原位退火10 min,薄膜为(111)取向柱状生长的晶粒,取向度分别为0.45和0.75。BZT25和BZT30薄膜的平均晶粒尺寸分别为50 nm和60 nm。在室温、1 MHz和3×105 V/cm条件下,BZT25的最大εr和调谐率分别达到563和65%,BZT30的最大εr和调谐率分别达到441和57%。薄膜为(111)取向生长,主要是基于薄膜与底电极Pt界面层立方相结构Pt3Ti的诱导,即(111)Pt3Ti和(111)BZT的晶格匹配。