Si亚微米MESFET的Monte Carlo法模拟
The Monte Carlo Particle Simulation for Submicron Si MESFET作者机构:天津大学电子工程系
出 版 物:《电子学报》 (Acta Electronica Sinica)
年 卷 期:1994年第22卷第2期
页 面:1-7页
核心收录:
学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学]
基 金:国家自然科学基金
摘 要:本文是继用MonteCarlo法模拟GaAs亚微米器件后,进一步用该法模拟Si亚微米MESFET。文中除了处理Si和GaAs散射机制不同外,在模拟方法上有重要进步:用FFT(FastFourierTransformation)代替迭代法,加速解Poisson方程过程;用快速自散射代替常规自散射,压缩计算无用自散射时间。这些进步相当程度地克服MonteCarlo微粒模拟法费机时的固有缺点。模拟得到的形象且合理的结果,给出亚微米栅长时SiMESFET的性能。