四羟丙基乙二胺和EDTA·2Na盐化学镀铜体系研究
Electroless Copper Plating in the Presence of THPED and EDTA·2Na as the Dual-Chelating Agent作者机构:中南大学冶金科学与工程学院湖南长沙410083 中南大学材料科学与工程学院湖南长沙410083
出 版 物:《材料保护》 (Materials Protection)
年 卷 期:2006年第39卷第2期
页 面:20-24页
核心收录:
学科分类:080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)]
主 题:化学镀铜 配体 镀速 四羟丙基Cz-2Na EDTA·2Na 工艺优化
摘 要:为了降低成本、提高镀层质量和镀液的稳定性,以混合配位体(EDTA-2Na)代替THPED(四羟丙基乙二胺),系统研究了THPED和EDTA·2Na盐双配住体化学镀铜体系。对镀速、镀液稳定性及镀层附着力的研究结果表明,镀速随EDTA·2Na盐、硫酸铜和甲醛浓度的增加先升高后降低;随THPED浓度的增加先降低后升高;随溶液pH值和镀液温度增加而升高;添加剂亚铁氰化钾、α,α′-联吡啶和2-MBT虽均使镀速减慢,但能使镀层外观变好;聚乙二醇-1000(PEG-1000)对镀速影响较小,但能使镀层质量变好。其化学镀铜最佳条件为THPED 10.0g/L,EDTA·2Na 8.7g/L,CuS04-5H2O 12.0g/L,甲醛(37%-40%)16.0mL/L,α,α′-联吡啶10.0mg/L,亚铁氰化钾40.0mg/L,PEG-1000 1.0g/L,2-MBT(二巯基苯骈噻唑)0.5mg/L,pH值13.2及镀液温度50℃。在最佳条件下获得的镀层外观红亮、表面平整,镀液稳定,镀速达到4.05μm/h。由SEM分析可知,镀层表面平整、光滑、晶粒细致。