LIGA技术基础研究
The study of LIGA technology作者机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所吉林长春130021
出 版 物:《光学精密工程》 (Optics and Precision Engineering)
年 卷 期:2000年第8卷第1期
页 面:38-41页
核心收录:
学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学]
基 金:国家攀登计划 北京正负电子对撞机国家实验室和合肥国家同步辐射实验室资助
摘 要:阐述了 LIGA技术的组成及特点。对 L IGA工艺掩膜、X射线光刻、电铸及塑铸等进行了工艺原理分析。用一次成型法制作了以聚酰亚胺为衬基、以 Au为吸收体的 X射线光刻掩膜。简单介绍了这种掩膜的制作工艺过程 ,并用这种掩膜在北京电子对撞机国家实验室进行了同步辐射 X射线光刻 ,得到了深度为 5 0 0μm ,深宽比达 8.3的 PMMA材料的微型电磁马达联轴器结构。给出掩膜和 X射线光刻照片。同时 ,对 Au。