环境温度、电离辐射剂量率对NMOSFET器件特性参数的影响
Influence of Temperatures and Radiation Dose Rate on CMOS Device Characteristic Parameter作者机构：西北核技术研究所西安710024
出 版 物：《Journal of Semiconductors》 (半导体学报（英文版）)
年 卷 期：2001年第22卷第6期
页 面：779-783页
核心收录：
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
主 题：NMOSFET 场效应晶体管 环境温度 电离辐射剂量率
摘 要：研究了辐射环境温度、辐射剂量率、退火温度和退火偏置对 CC40 0 7NMOS器件阈值电压的影响 .研究发现 ,低温 (- 30℃ )辐照感生的氧化物陷阱电荷比室温 (2 5℃ )多 ,界面态电荷比室温要少 ;受不同 γ剂量率辐射时 ,阈值电压的漂移程度不一样 ,在总剂量相同情况下 ,辐射剂量率高时 ,阈值电压的漂移量也大 ;辐照后 ,NMOS器件 10 0℃退火速度要大于 2 5℃退火速度 ,+5 V栅偏压退火情况要大于浮空偏置情况 .
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