空间反射镜基底材料碳化硅表面改性研究

作     者：高劲松 申振峰 王笑夷 王彤彤 陈红 郑宣鸣 Gao Jinsong;Shen Zhenfeng;Wang Xiaoyi;Wang Tongtong;Chen Hong;Zheng Xuanming

作者机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室吉林长春1300332 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2009年第29卷第9期

页      面：2624-2629页

核心收录：

学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 

基　　金：国家自然科学基金(60478035)资助项目 

主　　题：薄膜 表面改性 离子辅助 Si薄膜 SiC薄膜 SiC反射镜 

摘      要：直接抛光后的SiC反射镜表面光学散射仍较大,无法满足高质量空间光学系统的应用需求。为此必须对SiC反射镜进行表面改性,以获得高质量的光学表面。目前国际上较为流行的是制备Si或SiC改性层进行表面改性。分别采用离子辅助电子束蒸发方法制备Si和SiC改性层进行改性,相关测试结果表明:Si改性层结构为立方相,改性后基底表面粗糙度(rms)降到0.620 nm,散射系数减小到1.52%;SiC改性层结构为非晶相,改性后基底表面粗糙度(rms)降到0.743 nm,散射系数减小到2.79%。两种改性层均与基底结合牢固,温度稳定性较高。从可靠性方面考虑,目前在国内第一种方法更适于实际工程应用。该工艺改性后SiC基底表面散射损耗大大降低,表面质量得到明显改善,镀Λg后表面反射率接近于抛光良好的微晶玻璃的水平,已能够满足高质量空间光学系统的应用需要。