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光致发光测定6H-SiC中的氮掺杂浓度

作     者:付士萍 

出 版 物:《半导体情报》 (Semiconductor Information)

年 卷 期:1995年第32卷第5期

页      面:40-42页

学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学] 

主  题:碳化硅  掺杂浓度 光致发光 测定 

摘      要:杂质和本征发光强度可反映出掺杂浓度。本文介绍了一种测量6H-SiC中氮杂质的校准方法。该方法对于10 ̄(14)~10 ̄(16)cm ̄(-3)浓度范围内的n型掺杂都是有效的。并对光致发光实验过程中激励强度、温度的影响以及与受主有关光谱的观测进行了研究。

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