连续面形微光学元件的深刻蚀工艺
Fabrication of Continuous Surface Micro-Optical Elements Using Deep Etching Technology作者机构：中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室四川成都610209
出 版 物：《光电工程》 (Opto-Electronic Engineering)
年 卷 期：2003年第30卷第3期
页 面：13-16页
核心收录：
学科分类：070207[理学-光学] 07[理学] 0702[理学-物理学]
摘 要：利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀技术,在石英上刻蚀深连续面形微光学元件。分析了影响 深刻蚀工艺的烘焙条件、气体组分、自偏压和刻蚀温度等主要工艺参数,并对影响深刻蚀稳定性、均匀性、刻蚀污染与损伤等因素进行了探讨。通过实验,在石英上制作出深达55微米的浮雕微柱透镜,其面形峰值误差小于3%。
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