PC控制技术在ALD系统中的应用研究

作     者：徐硕 张轩雄 明帅强 XU Shuo;ZHANG Xuanxiong;MING Shuaiqiang

作者机构：上海理工大学上海200093 嘉兴科民电子设备技术有限公司浙江嘉兴314006 中国科学院微电子研究所仪器设备研发中心北京100029 

出 版 物：《计算技术与自动化》 (Computing Technology and Automation)

年 卷 期：2023年第42卷第4期

页      面：9-13页

学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0835[工学-软件工程] 0802[工学-机械工程] 080201[工学-机械制造及其自动化] 

基　　金：重大科学仪器设备开发资助项目(2018YFF01012703) 

主　　题：原子层沉积 PC控制 EtherCAT TwinCAT 

摘      要：针对当前国内原子层沉积(ALD)控制系统中存在硬件结构兼容性较差、数据交换及数据处理能力较弱等问题。通过分析ALD薄膜生长工艺特点,选定系统硬件配件,确定系统控制结构,设计出基于PC控制的ALD系统。系统采用Beckhoff工业PC作为主控制器,运用EtherCAT现场总线技术进行控制器与I/O模块之间的数据传输与交换,利用TwinCAT控制软件控制整个系统的运行。新系统在现场运行结果表明:该系统功能完善,实时性强,运行稳定,工艺结果能够达到半导体薄膜工艺标准。基于PC控制的ALD系统,对于实现薄膜生长的自动化具有重要意义,为PC控制应用于薄膜生长提供了指导。