X射线荧光光谱检测多层薄膜样品的增强效应研究

作     者：韩小元 卓尚军 王佩玲 HAN Xiao-yuan;ZHUO Shang-jun;WANG Pei-ling

作者机构：中国科学院上海硅酸盐研究所上海200050 

出 版 物：《光谱学与光谱分析》 (Spectroscopy and Spectral Analysis)

年 卷 期：2006年第26卷第2期

页      面：353-357页

核心收录：

学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070302[理学-分析化学] 0703[理学-化学] 

基　　金：中国科学院上海硅酸盐研究所创新项目基金资助 

主　　题：X射线荧光光谱 薄膜 增强效应 理论强度计算 

摘      要：研究了X射线荧光光谱检测多层薄膜样品的增强效应。根据多层膜中的X荧光强度理论计算公式编写了计算机程序,并计算了Zn/Fe和Fe/Zn双层膜样品中不同薄膜厚度时FeKα的一次荧光强度、二次荧光强度、二次荧光与一次荧光强度比以及二次荧光在总荧光强度中比例。研究发现,在多层膜样品的X射线荧光分析中,激发条件不变的情况下,元素谱线的一次荧光相对强度、二次荧光相对强度和二次荧光在总荧光强度中所占比例都随薄膜厚度及位置的变化而变化。当Fe和Zn层厚度相同时,随厚度的变化,对于Fe/Zn样品,FeKα二次荧光强度占总荧光强度最高为9%,而对于Zn/Fe样品这一比例最高可达35%。