高纯碲中杂质的辉光放电质谱分析

作     者：唐利斌 荣百炼 姬荣斌 

作者机构：昆明物理研究所红外材料研发中心，云南昆明650223 

出 版 物：《质谱学报》 (Journal of Chinese Mass Spectrometry Society)

年 卷 期：2004年第25卷第B10期

页      面：17-18页

核心收录：

学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 081704[工学-应用化学] 07[理学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 0703[理学-化学] 070301[理学-无机化学] 

基　　金：云南省自然科学基金(2003E0012Z) 

主　　题：高纯碲 杂质分析 辉光放电质谱 Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体 

摘      要：The trace impurities in high purity Te were measured by use of VG9000 glow discharge mass spectrometer (GDMS). Results showed that the stability of analytical performance and the accuracy of analytical results can be assured by means of optimizing the glow discharge conditions and effective eliminating interference. The test results are based on the average value of the three-time tests. The reproducibility and accuracy of the test data indicated that GDMS is a useful tool for elemental analysis of high purity solid samples.