直流等离子体CVD法合成的金刚石膜的断裂强度研究
FRACTURE STRENGTH STUDIES OF POLYCRYSTALLINE DIAMOND FILMS PRODUCED BY DC PLASMA CVD作者机构：兰州大学物理系
出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)
年 卷 期：1994年第43卷第9期
页 面：1559-1563页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：研究了直流等离子体激光化学汽相沉积（ＣＶＤ）法合成金刚石膜的断裂强度。利用压力爆破技术测量了圆形金刚石膜的断裂强度。实验结果表明，断裂强度与金刚石颗粒大小、膜厚度、圆半径、甲烷浓度及衬底温度有密切的依赖关系，并对这些结果进行了讨论。
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