磁控溅射和它的应用
MAGNETRON SPUTTERING AND ITS APPLICATIONS作者机构：核工业西南物理研究院
出 版 物：《核聚变与等离子体物理》 (Nuclear Fusion and Plasma Physics)
年 卷 期：1989年第9卷第2期
页 面：125-128页
核心收录：
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
基 金：国家自然科学基金
摘 要：近年来,磁控溅射已成为重要的薄膜沉积技术之一。我国于1982年研制成功第一台磁控溅射镀膜机,比国外只晚几年。随后生产出各种中、小型磁控溅射镀膜机,主要用于制镜和美术陶瓷工艺品装饰性镀膜。 目前,国外发达国家已由装饰性镀膜过渡到功能膜,诸如电磁、光学、机械。
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