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氢稀释对多晶硅薄膜结构特性和光学特性的影响
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物理学报 2006年 第5期55卷 2523-2528页
作者: 黄锐 林璇英 余云鹏 林揆训 祝祖送 魏俊红 汕头大学物理
以SiCl4和H2为气源,用等离子体增强化学气相沉积技术,在250℃的低温下,研究氢稀释度对多晶硅薄膜结构特性的影响.实验结果表明,对于以SiCl4和H2组成的反应源气体,氢对薄膜生长特性的影响有异于SiH4/H2,在一定功率下,薄膜的晶化率随氢稀... 详细信息
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光照和偏压对微晶硅薄膜室温电导的影响
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物理学报 2006年 第4期55卷 2038-2043页
作者: 余云鹏 林璇英 林舜辉 黄锐 汕头大学物理 汕头515063
报道了SiCl4/H2等离子体化学气相沉积方法制备的未掺杂微晶硅薄膜,在短时间光照或加上直流偏压后其室温暗电导随时间缓慢变化的行为.Raman散射谱结果表明,薄膜的晶态体积比大于70%.暗电阻的实验结果显示:材料具有弱的持久光电导效应;薄... 详细信息
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小直径CBN砂轮的磨削特性研究
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机械工程学报 2000年 第5期36卷 103-106页
作者: 阎秋生 田中宪司 庄司克雄 汕头大学机电系 汕头515063 日本东北大学
理论分析了小直径CBN砂轮平面磨削的特征,弄清了小直径CBN砂轮平面磨削时发生CBN磨粒早期脱落,是由于磨削过程中单个磨粒最大吃刀量增大,磨粒磨削弧长减小,使磨粒磨削力过大所致。采用减小单个磨粒最大吃刀量和增大磨粒磨... 详细信息
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Langmuir单探针诊断射频辉光放电等离子体及其数据处理
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物理学报 2001年 第7期50卷 1313-1317页
作者: 池凌飞 林揆训 姚若河 林璇英 余楚迎 余云鹏 汕头大学物理 汕头515063
Langmuir探针是诊断等离子体参数的重要手段 .报道了在氩气射顿 (13 5 6MHz)辉光放电等离子体中使用调谐单探针进行诊断 ,对探针I V特性曲线的统计噪声进行了数字滤波的光滑化处理 ,而后求二次微商 .在相同的放电条件下 ,使用自行设计... 详细信息
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铝诱导非晶硅薄膜的场致低温快速晶化及其结构表征
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物理学报 2004年 第2期53卷 582-586页
作者: 陈一匡 林揆训 罗志 梁锐生 周甫方 汕头大学物理 汕头515063
铝诱导非晶硅薄膜晶化可以降低退火温度、缩短退火时间 ,是制备多晶硅薄膜的一种重要方法 .在此基础上 ,通过在退火过程中加入电场加速了界面处硅、铝原子间的互扩散 ,实现了非晶硅薄膜的快速低温晶化 .实验结果表明 ,外加电场 ,退火温... 详细信息
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PPQ通过清除活性氧修复子宫内膜细胞增殖能力的作用研究
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东南大学学报(医学版) 2024年 第3期43卷 422-430页
作者: 彭佳欣 冯文翔 李奕霖 龚熊美玉 曾聚涛 李伟 南华大学附属第二医院 湖南衡阳421001 汕头大学第二附属医院 广东汕头515041 南方医科大学南方医院第二临床医学院 广东广州510515
目的:设计并合成聚乙二醇修饰负载槲皮素的聚多巴胺(PDA)类黑色素纳米粒子(PPQ),检测其物化表征及活性氧(ROS)清除能力,并进一步探究其改善子宫内膜异位症能力。方法:采用透射电子显微镜(TEM)、水合粒径(DLS)、Zeta电位分析PPQ的形貌、... 详细信息
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间歇运行下地埋管周围土壤热湿特性实验研究
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太阳能学报 2024年 第6期45卷 44-50页
作者: 徐昭 何伟 王义天 贾臻 邾茂盛 庾汉成 合肥工业大学建筑环境与技术工程 合肥230009 青海建筑职业技术学院市政机电 西宁810012
搭建地源热泵地埋管周围土壤热湿传递的试验台,对初始含水率、防水层、保温层以及相变回填材料等因素对土壤热量和水分传递的影响进行探究。沙箱实验结果表明:竖直埋管的热量会引起周围土壤的温度传递和水分迁移,土壤初始含水率的提高... 详细信息
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Sr_2CeO_4电荷迁移发光的光谱结构规律研究
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物理学报 2005年 第5期54卷 2369-2373页
作者: 符史流 戴军 丁球科 赵韦人 汕头大学物理 汕头515063
利用高温固相反应法分别合成了不同物相形成机理的Sr2 CeO4 ,Sr2 CeO4 ∶Ca2 + 和Sr2 CeO4 ∶Ba2 + 样品 ,并对其光谱特性进行了研究 .结果发现 ,对于由SrO和CeO2 直接反应生成的Sr2 CeO4 (Ⅰ ) ,激发主峰位于 2 5 6nm左右 ;而对于SrCeO... 详细信息
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用紧束缚方法描述光子晶体缺陷耦合的共振频率移动
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物理学报 2007年 第5期56卷 2742-2746页
作者: 蔡旭红 林旭升 石全 赵年顺 汕头大学物理 汕头515063
通常采用含两个耦合参数的紧束缚近似,就能很好地描述光子晶体缺陷因耦合而导致的共振频率分裂.然而,缺陷耦合造成的共振频率移动,即包含奇数个缺陷的耦合统的中央共振频率位置与原来单缺陷时的共振频率位置存在差异,则只有采用含三... 详细信息
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氧含量对a-SiO_xN_y薄膜荧光特性的影响
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光谱学与光谱分析 2000年 第4期20卷 569-571页
作者: 黄翀 石旺舟 汕头大学物理 汕头515063
采用PECVD方法制备了a SiOxNy 薄膜 ,观察到强荧光发射现象 ,荧光光谱由波段范围为 2 60~3 5 0nm和 5 0 0~ 70 0nm的宽谱带和位置分别为 3 65、 3 75、 3 80、 73 5和 74 5nm的荧光发射峰组成。通过改变沉积过程中氢分压研究了氧含量... 详细信息
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