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Design and fabrication of broadband ultralow reflectivity black Si surfaces by laser micro/nanoprocessing

Light(Science & Applications) 2014年第1期3卷 147-154页

作者： Jing Yang Fangfang Luo Tsung Sheng Kao Xiong Li Ghim Wei Ho Jinghua Teng Xiangang Luo Minghui Hong Department of Electrical and Computer Engineering National University of SingaporeSingapore 117576Singapore Institute of Materials Research and Engineering Agency for ScienceTechnology and ResearchSingapore 117602Singapore NUS Environmental Research Institute National University of SingaporeSingapore 117411Singapore State Key Laboratory of Optical Technologies for microfabrication Institute of Optics and ElectronicsChinese Academy of SciencesChengdu 610209China

Light collection efficiency is an important factor that affects the performance of many optical and optoelectronic *** these devices,the high reflectivity of interfaces can hinder efficient light *** minimize unwanted reflection,anti-reflection surfaces can be fabricated by micro/*** this paper,we investigate the fabrication of broadband anti-reflection Si surfaces by laser micro/*** direct writing is applied to create microstructures on Si surfaces that reduce light reflection by light *** addition,laser interference lithography and metal assisted chemical etching are adopted to fabricate the Si nanowire *** anti-reflection performance is greatly improved by the high aspect ratio subwavelength structures,which create gradients of refractive index from the ambient air to the ***,by decoration of the Si nanowires with metallic nanoparticles,surface plasmon resonance can be used to further control the broadband reflections,reducing the reflection to below 1.0%across from 300 to 1200 *** average reflection of 0.8%is achieved.

关键词： anti-reflection broadband laser micro/nanoprocessing surface plasmons

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