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超声热解法制备sno2:f薄膜加热管及其性能研究

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功能材料 2004年第Z1期35卷 1160-1164,1168页

作者：施卫侯磊西安理工大学理学院应用物理系陕西西安710048 西安理工大学理学院应用物理系陕西西安710048

采用超声喷涂热解淀积方法将sno2:f透明导电薄膜制备于耐高温的硼硅玻璃管内壁.XRD物相分析及SEM、STM形貌分析表明,sno2:f薄膜为多晶结构,平均粒径50nm.分析了薄膜中f取代sno2中O的形成过程和薄膜电导率增强的机理,解释了不同的工艺条... 详细信息

采用超声喷涂热解淀积方法将sno2:f透明导电薄膜制备于耐高温的硼硅玻璃管内壁.XRD物相分析及SEM、STM形貌分析表明,sno2:f薄膜为多晶结构,平均粒径50nm.分析了薄膜中f取代sno2中O的形成过程和薄膜电导率增强的机理,解释了不同的工艺条件对薄膜的结构、光电特性的影响,确定了制备sno2:f薄膜加热管的最佳工艺条件.该条件下制备的薄膜的电阻率达4×10-4Ω·cm,可见光透过率高于90%,功率密度平均可达35 W/cm2.

关键词：薄膜技术 sno2:f薄膜光电特性超声喷涂热解法

超声喷雾热解法制备sno2:f薄膜及性能表征

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超声喷雾热解法制备SnO2:F薄膜及性能表征

第七届中国功能材料及其应用学术会议

作者：任洋赵高扬沈洁西安理工大学材料科学与工程学院

以五水四氯化锡为出发原料、甲醇为溶剂、氢氟酸为掺杂源,采用超声喷雾热解工艺在300mm×300mm的普通钠钙玻璃基板上制备了光电性能优良的f掺杂sno薄膜,并对沉积薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性质以及电学性质进行了表征。结果表明,... 详细信息

以五水四氯化锡为出发原料、甲醇为溶剂、氢氟酸为掺杂源,采用超声喷雾热解工艺在300mm×300mm的普通钠钙玻璃基板上制备了光电性能优良的f掺杂sno薄膜,并对沉积薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性质以及电学性质进行了表征。结果表明,制备的sno:f薄膜为四方相金红石结构的多晶膜,晶粒生长致密,薄膜表面光滑,薄膜电阻率为7.5×10Ω·cm,平均可见光透过率达到83%,薄膜低辐射系数为0.14。

关键词： sno2:f薄膜超声喷雾热解 Haacke值低辐射玻璃

超声热解法制备sno2:f薄膜加热管及其性能研究

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超声热解法制备SnO2:F薄膜加热管及其性能研究

第五届中国功能材料及其应用学术会议

作者：施卫侯磊西安理工大学理学院应用物理系

关键词：薄膜技术 sno2:f薄膜光电特性超声喷涂热解法

SiCxOy阻挡层对sno2:f薄膜结构和性能的影响

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SiCxOy阻挡层对SnO2:F薄膜结构和性能的影响

2013全国玻璃科学技术年会

作者：高倩李铭韩高荣浙江大学材料科学与工程学系硅材料重点实验室

sno:f薄膜具有较好的光电特性,是低辐射镀膜玻璃、透明导电薄膜等的理想膜层材料。利用常压化学气相沉积法,在移动玻璃的表面浮法在线连续镀制了SiCxOy过渡层和sno:f薄膜。通过XRD、SEM、TEM等测试手段,分析了SiCxOy过渡层的微结构以及... 详细信息

sno:f薄膜具有较好的光电特性,是低辐射镀膜玻璃、透明导电薄膜等的理想膜层材料。利用常压化学气相沉积法,在移动玻璃的表面浮法在线连续镀制了SiCxOy过渡层和sno:f薄膜。通过XRD、SEM、TEM等测试手段,分析了SiCxOy过渡层的微结构以及其对sno:f膜层结构与性能的影响。结果表明,SiCxOy过渡层为一种纳米Si颗粒镶嵌在非晶Si-C-O网络中的结构,它的引入,有利于sno:f薄膜(200)方向上的取向生长以及柱状生长,与sno:f有较好的界面结合,同时提高了镀膜玻璃的光电性能和低辐射性能,是一种理想的阻挡层材料。

关键词：过渡层 SiCxOy薄膜 sno2:f薄膜常压化学气相沉积

SiCxOy阻挡层对sno2:f薄膜结构和性能的影响

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SiCxOy阻挡层对SnO2:F薄膜结构和性能的影响

TfC'13全国薄膜技术学术研讨会

作者：高倩李铭韩高荣硅材料重点实验室浙江大学材料科学与工程学系

sno:f薄膜具有较好的光电特性,是低辐射镀膜玻璃、透明导电薄膜等的理想膜层材料。利用常压化学气相沉积法,在移动玻璃的表面浮法在线连续镀制了SiCO过渡层和sno:f薄膜。通过XRD、SEM、TEM等测试手段,分析了SiCO过渡层的微结构以及其对S... 详细信息

sno:f薄膜具有较好的光电特性,是低辐射镀膜玻璃、透明导电薄膜等的理想膜层材料。利用常压化学气相沉积法,在移动玻璃的表面浮法在线连续镀制了SiCO过渡层和sno:f薄膜。通过XRD、SEM、TEM等测试手段,分析了SiCO过渡层的微结构以及其对sno:f膜层结构与性能的影响。结果表明,SiCO过渡层为一种纳米Si颗粒镶嵌在非晶Si-C-O网络中的结构,它的引入,有利于sno:f薄膜(200)方向上的取向生长以及柱状生长,与sno:f有较好的界面结合,同时提高了镀膜玻璃的光电性能和低辐射性能,是一种理想的阻挡层材料。

关键词：过渡层 SiCxOy薄膜 sno2:f薄膜常压化学气相沉积

超声喷雾热解法制备sno2：f薄膜及性能分析

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超声喷雾热解法制备SnO2：F薄膜及性能分析

作者：王东丽西安理工大学

学位级别：硕士

sno2是一种宽带隙氧化物半导体材料,禁带宽度Eg=3.6-4.0eV。sno2薄膜由于具有对可见光透过性好、紫外吸收系数大、电阻率低、化学性能稳定以及室温下抗酸碱能力强等优点,已被广泛的应用在太阳能电池、电热材料、透明电极材料以及气敏材... 详细信息

sno2是一种宽带隙氧化物半导体材料,禁带宽度Eg=3.6-4.0eV。sno2薄膜由于具有对可见光透过性好、紫外吸收系数大、电阻率低、化学性能稳定以及室温下抗酸碱能力强等优点,已被广泛的应用在太阳能电池、电热材料、透明电极材料以及气敏材料等方面。喷雾热解法以其设备简单、成本低、制备样品快等优点成为一种很有应用潜力的制备sno2薄膜的方法,另外喷雾热解法在镀膜玻璃的工业化生产中有着广阔的应用领域。以SnCl4·5H20和NH4f为原料,本文采用超声喷雾热解法在石英玻璃管内壁制备掺f的二氧化锡薄膜。运用正交方法设计实验,研究了制备sno2：f薄膜过程中的五种影响因素,如：f浓度(f% mol)、Sn浓度(Sn% mol)、酒精浓度、喷涂时间以及基底温度,对薄膜方阻和在可见光范围内的平均透过率的影响,得出最佳工艺组合为基底温度为500℃,f的浓度为2%(mol)、Sn的浓度为15%(mo1)、酒精浓度为30%(m1)、喷涂时间为15s。最后利用回归分析,建立了光透过率、方阻与f%、Sn%、酒精浓度、基底温度以及喷涂时间这五个影响因素之间的线性关系。通过实验分析了sno2：f透明导电薄膜方阻随温度变化的实验规律,用SPSS软件拟合,得到的二次拟合曲线很好的反映了薄膜的温度随方阻变化的特性。拟合优度R2=0.883,二次拟合回归方程R=87.688+0.10t+4.25×10-5t2。

关键词：超声喷雾热解法 sno2:f薄膜正交实验回归分析 SPSS软件

衬底温度对超声喷雾法制备大面积绒面sno_2：f薄膜特性影响的研究

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光电子．激光 2009年第6期20卷 758-761页

作者：赵庚申梁凯郭天勇王庆章南开大学光电子研究所光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室天津300071

详细研究了衬底温度对超声喷雾热分解工艺制备的大面积绒面sno2:f薄膜的影响和薄膜微结构与薄膜电学、光学性能之间的关系。试验曲线和SEM图的研究结果表明,将衬底温度从370℃提高到470℃以上薄膜结晶程度大大提高,晶粒尺寸明显增大;温... 详细信息

详细研究了衬底温度对超声喷雾热分解工艺制备的大面积绒面sno2:f薄膜的影响和薄膜微结构与薄膜电学、光学性能之间的关系。试验曲线和SEM图的研究结果表明,将衬底温度从370℃提高到470℃以上薄膜结晶程度大大提高,晶粒尺寸明显增大;温度在470℃左右绒度达到13%。文章同时对超声喷雾热分解工艺制备大面积绒面sno2:f薄膜做了工艺探索,并将实验制得的薄膜用于制备非晶硅薄膜电池,其效率达到了6.46%。

关键词：太阳电池绒面 sno2:f薄膜超声喷雾热分解

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用超声喷雾热分解法制备sno_2:f薄膜

电源技术 2004年第2期28卷 97-100页

作者：陈全崔容强徐东 Wolden COLIN 奚建平上海交通大学物理系太阳能研究所上海200030 上海交通大学薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030 科罗拉多矿冶学院太阳能及其材料中心

采用超声喷雾热分解法沉积高性能掺氟二氧化锡(sno2:f)透明导电膜(TCO),其最小方块电阻为9 Ω(400 nm厚),可见光透过率大于80%。X射线衍射(XRD)分析表明,sno2:f薄膜为多晶结构;原子力显微镜(AfM)观察表明,sno2:f薄膜平均粒径约为100 nm... 详细信息

采用超声喷雾热分解法沉积高性能掺氟二氧化锡(sno2:f)透明导电膜(TCO),其最小方块电阻为9 Ω(400 nm厚),可见光透过率大于80%。X射线衍射(XRD)分析表明,sno2:f薄膜为多晶结构;原子力显微镜(AfM)观察表明,sno2:f薄膜平均粒径约为100 nm。此外对石墨导热体和置于其上的玻璃基片两者之间的温度差别做了初步研究。

关键词：超声喷雾热分解法制备 sno2:f薄膜金属氧化物薄膜半导体材料

sno2:f和TiO2:Nb薄膜的制备、结构与性能研究

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SnO2:F和TiO2:Nb薄膜的制备、结构与性能研究

作者：高兴婷吉林大学

学位级别：硕士

透明导电薄膜是薄膜材料科学研究中最为重要的领域之一,现今它已经成为人们生产和生活中不可缺少的组成部分,也是未来高科技领域发展的必备材料。其中的金属氧化物薄膜,由于具有高导电性和可见光范围内的高透射率两个基本特性,在太阳能... 详细信息

透明导电薄膜是薄膜材料科学研究中最为重要的领域之一,现今它已经成为人们生产和生活中不可缺少的组成部分,也是未来高科技领域发展的必备材料。其中的金属氧化物薄膜,由于具有高导电性和可见光范围内的高透射率两个基本特性,在太阳能电池、防护涂层、透光电极和气体敏感器等方面都得到了广泛的应用。虽然,ITO金属氧化物导电薄膜具有优良的性能,而且制备技术也非常成熟,并且已经在实践中得到了广泛的应用,但是金属铟在自然界中非常稀缺。因此,研究开发可以替代ITO的新型透明导电薄膜将会对未来的应用产生更深远的意义。本论文通过溶胶凝胶法,以二氯化锡(SnCl·2HO)、氟化铵(NHf)、钛酸丁酯(Ti[O(CH)CH])和五氯化铌(NbCl)为主要原料,无水乙醇作为溶剂制备出了sno:f溶胶和TiO:Nb溶胶。然后,再通过浸涂提拉的方法和热处理过程,在玻璃基板上得到了fTO薄膜和在sno/玻璃基板上得到了TiO:Nb薄膜。并利用X-射线粉末衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、紫外可见光谱仪(UV-Vis)和四探针测试仪等对薄膜的结构及光学和电学性能进行了研究。主要的研究成果如下:1、在sno:f(fTO)薄膜中,f的掺杂浓度及热处理温度对薄膜的导电性能会产生很大的影响。适量的f掺杂浓度不仅可以明显地提高薄膜的导电性能而且仍然能够使透光率达到70%;但是,过多的f掺杂不仅使导电性能降低而且也会使透光率大幅度降低。此外,热处理温度对薄膜的导电性能也有一定的影响,但它对薄膜的透光率的影响不大。最后我们得到,当f的掺杂浓度为20%,热处理温度为500℃时,fTO薄膜的导电性能最优,其电阻和电阻率值分别为15Ω/□和6.11×10-4Ω·cm,其在可见光范围内的透光率可达到70%。2、在制备TiO:Nb(TNO)薄膜时,我们采用sno/玻璃作为基板,目的是要解决TiO直接涂在玻璃基板上为无定形晶体结构问题。研究发现,Nb的掺杂浓度、热处理温度、热处理时间及薄膜的厚度都会对TNO薄膜的光学和电学性能产生一定的影响。最后我们得到,当Nb的掺杂浓度为6%,薄膜厚度为5C(5层TNO膜),在温度为500℃时煅烧60min后,TNO薄膜的导电性能最优,其电阻和电阻率值分别为1.40×103Ω/□和3.36×10-2Ω·cm,其在可见光范围内的透光率可达到70%-75%。

关键词： sno2:f薄膜 TiO2:Nb薄膜溶胶凝胶法光学和电学性能