超声喷雾热解法制备SnO2:F薄膜及性能表征
作者单位：西安理工大学材料科学与工程学院
会议名称：《第七届中国功能材料及其应用学术会议》
会议日期：2010年
学科分类：07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0702[理学-物理学]
基 金：国家教育部博士点专项基金资助项目(20096118110002)
关 键 词：SnO2:F薄膜 超声喷雾热解 Haacke值 低辐射玻璃
摘 要：以五水四氯化锡为出发原料、甲醇为溶剂、氢氟酸为掺杂源,采用超声喷雾热解工艺在300mm×300mm的普通钠钙玻璃基板上制备了光电性能优良的F掺杂SnO薄膜,并对沉积薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性质以及电学性质进行了表征。结果表明,制备的SnO:F薄膜为四方相金红石结构的多晶膜,晶粒生长致密,薄膜表面光滑,薄膜电阻率为7.5×10Ω·cm,平均可见光透过率达到83%,薄膜低辐射系数为0.14。