检索结果-南通市图书馆

不同基底上sio2薄膜的显微结构和力学性能

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无机材料学报 2013年第6期28卷 653-658页

作者：王河贺洪波张伟丽中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院强激光材料重点实验室上海201800 中国科学院大学北京100039

用电子束蒸发技术在K9玻璃及两种不同取向的钇铝石榴石(Y3Al5O12,简称YAG)晶体上沉积了sio2薄膜,采用X射线衍射仪和纳米划痕仪对薄膜显微结构和力学性能进行了研究。实验结果表明:薄膜在K9、YAG(100)和YAG(111)基底上分别呈现非晶态和... 详细信息

用电子束蒸发技术在K9玻璃及两种不同取向的钇铝石榴石(Y3Al5O12,简称YAG)晶体上沉积了sio2薄膜,采用X射线衍射仪和纳米划痕仪对薄膜显微结构和力学性能进行了研究。实验结果表明:薄膜在K9、YAG(100)和YAG(111)基底上分别呈现非晶态和多晶态;沉积在不同基底上的薄膜的弹性模量并无明显差异;sio2薄膜在K9和YAG基底上呈现不同的划痕破坏模式,并且YAG晶体上薄膜的粘附失效临界附着力远远小于sio2薄膜与K9基底的附着力。本文从薄膜的结构和弹性模量两方面分析解释了不同基底上薄膜的力学行为。

关键词： sio2薄膜显微结构弹性模量附着力 K9 YAG

疏水性对溶胶-凝胶sio2薄膜抗真空污染及抗激光损伤能力的影响

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无机化学学报 2013年第7期29卷 1339-1344页

作者：刘源沈军李晓光周斌张志华同济大学物理科学与工程学院上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室上海200092 上海理工大学理学院上海2000931

以正硅酸乙酯作为前驱体,利用碱催化方式制备了sio2溶胶,通过在溶胶中添加含疏水基团(-CH3)的六甲基二硅氮烷(HMDS)对溶胶进行改性,使用添加不同物质的量比HMDS改性后的溶胶用提拉法在K9基片上镀膜,获得了具有疏水性能的sio2薄膜。采用... 详细信息

以正硅酸乙酯作为前驱体,利用碱催化方式制备了sio2溶胶,通过在溶胶中添加含疏水基团(-CH3)的六甲基二硅氮烷(HMDS)对溶胶进行改性,使用添加不同物质的量比HMDS改性后的溶胶用提拉法在K9基片上镀膜,获得了具有疏水性能的sio2薄膜。采用自制接触角测量仪、紫外-可见-近红外分光光度计研究了薄膜的水接触角和透过率。测试了薄膜的激光损伤阈值,并观察了激光辐照后薄膜的损伤形貌。通过真空污染实验对薄膜的抗污染能力及抗激光损伤能力进行了研究。实验结果表明:经疏水改性的溶胶所镀制的薄膜激光损伤阈值由未改性样品的24.3 J·cm-2增加到37 J·cm-2(1 064 nm,10 ns),且抗真空污染能力大大加强:在真空环境下保存168 h后,未改性样品的峰值透过率下降了2%,而疏水改性后的样品峰值透过率仅下降了0.25%,并保持了较高的激光损伤阈值(30.8 J·cm-2)。

关键词：溶胶-凝胶 sio2薄膜疏水处理激光损伤

1.064μm脉冲激光作用下sio2薄膜纹波损伤的模拟

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强激光与粒子束 2008年第3期20卷 509-512页

作者：袁晓东李绪平郑万国祖小涛向霞蒋晓东尹烨徐世珍郭袁俊田东斌王毕艺中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900 电子科技大学物理电子学院成都610054

用1.064μm波长的单脉冲(6 ns)激光对K9玻璃基底上电子束沉积的单层sio2薄膜进行了辐照损伤实验。以扫描电镜对K9基底的断面进行分析,并采用表面热透镜装置对膜层中的缺陷进行了检测,最后采用Matlab偏微分工具箱对缺陷的散射光光场进行... 详细信息

用1.064μm波长的单脉冲(6 ns)激光对K9玻璃基底上电子束沉积的单层sio2薄膜进行了辐照损伤实验。以扫描电镜对K9基底的断面进行分析,并采用表面热透镜装置对膜层中的缺陷进行了检测,最后采用Matlab偏微分工具箱对缺陷的散射光光场进行了有限元模拟。实验研究表明:膜层中存在缺陷,基底中也存在大量缺陷。模拟研究表明:缺陷的位置越深,形成的条纹间距也越宽;当缺陷的形状不规则时,在局部出现近似平行的纹波结构;当缺陷的数目增加时,这些缺陷的散射光的叠加就形成相互叠加的条纹。

关键词：激光诱导损伤 sio2薄膜电子束蒸发纹波损伤

sio2薄膜涂覆层数对304不锈钢抗高温氧化性能的影响

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河北科技大学学报 2021年第1期42卷 75-81页

作者：马静王瑞阳温宁河北科技大学材料科学与工程学院河北石家庄050018 河北省材料近净成形技术重点实验室河北石家庄050018 河北省高温合金熔模铸造技术创新中心河北黄骅061100 河北省球磨钢球工程技术研究中心河北邯郸056000

为提高304不锈钢的抗高温氧化性能,以正硅酸乙酯(TEOS)为原料,采用溶胶-凝胶法,在不锈钢表面制备了sio2薄膜,通过氧化动力学,XRD,SEM和EDS分析,研究了涂覆层数对不锈钢900℃抗高温氧化性能的影响。结果表明,sio2薄膜与不锈钢基体的附着... 详细信息

为提高304不锈钢的抗高温氧化性能,以正硅酸乙酯(TEOS)为原料,采用溶胶-凝胶法,在不锈钢表面制备了sio2薄膜,通过氧化动力学,XRD,SEM和EDS分析,研究了涂覆层数对不锈钢900℃抗高温氧化性能的影响。结果表明,sio2薄膜与不锈钢基体的附着性良好,促进了不锈钢表面发生选择性氧化,生成保护作用的Cr2O3和NiCr2O4氧化层,不锈钢的抗高温氧化性能显著提高,其中涂覆3层sio2薄膜试样的抗高温氧化性能最佳,经900℃循环氧化100 h后氧化增重与氧化剥落仅为未涂覆试样的58.1%和41.4%。sio2薄膜涂覆有效提高了不锈钢的抗高温氧化性能,是表面处理方法应用于高温环境的又一尝试,为溶胶-凝胶法制备其他薄膜提供了借鉴和参考。

关键词：材料失效与保护溶胶-凝胶法 sio2薄膜涂覆层数高温氧化选择氧化

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sio2薄膜热应力模拟计算

华南师范大学学报（自然科学版） 2009年第1期41卷 52-55页

作者：吴靓臻唐吉玉马远新孔蕴婷文于华陈俊芳华南师范大学物电学院广东广州510631 新疆医科大学物理教研室新疆乌鲁木齐830054

薄膜内应力严重影响薄膜在实际中的应用.该文采用有限元模型对S iO2薄膜热应力进行模拟计算,验证了模型的准确性.计算了薄膜热应力的大小和分布,分析了不同镀膜温度、不同膜厚和不同基底厚度生长环境下热应力的大小,得到了相应的变化趋... 详细信息

薄膜内应力严重影响薄膜在实际中的应用.该文采用有限元模型对S iO2薄膜热应力进行模拟计算,验证了模型的准确性.计算了薄膜热应力的大小和分布,分析了不同镀膜温度、不同膜厚和不同基底厚度生长环境下热应力的大小,得到了相应的变化趋势图,对薄膜现实生长具有一定的指导意义.

关键词：热应力 sio2薄膜有限元模拟

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sio2薄膜改善45#钢抗氧化性能的研究

SiO2薄膜改善45#钢抗氧化性能的研究

作者：王欣欣北京交通大学

学位级别：硕士

本文针对sio耐酸、耐碱、耐有机溶剂,以及耐高温、化学稳定性好、机械强度大且易于制成致密化薄膜等优点,研究了用溶胶-凝胶法在45钢表面制备出致密完整的sio薄膜以改善其抗氧化性,从而延长其应用。本文以正硅酸乙酯为前驱物、无水乙... 详细信息

本文针对sio耐酸、耐碱、耐有机溶剂,以及耐高温、化学稳定性好、机械强度大且易于制成致密化薄膜等优点,研究了用溶胶-凝胶法在45钢表面制备出致密完整的sio薄膜以改善其抗氧化性,从而延长其应用。本文以正硅酸乙酯为前驱物、无水乙醇为溶剂、氨水或盐酸为催化剂的条件下制备sio溶胶,采用浸渍提拉法在45钢表面获得了均匀、完整致密、附着性能好的sio薄膜。以获得完整致密、附着性能好的sio薄膜为前提,采用“划格试验”测定了不同镀膜参数下得到的sio薄膜的附着性能,从而确定了镀膜的各个参数,分别为:最佳镀膜层数为3层,最佳提拉速度为3mm/s,焙烧温度为600℃。为了提高钢表面sio薄膜的附着性能,确定在45钢表面与sio之间生成一层中间层FeO膜层,并根据其性质确定了先在钢表面涂覆在氨水催化条件下制备的sio溶胶,然后涂覆在盐酸催化条件下制备的sio溶胶。实验结果发现:镀制一层氨水催化条件下制备的sio薄膜和两次盐酸催化条件下制备的sio薄膜(即“1+2”层sio薄膜)对45钢抗氧化性能的改善作用明显优于镀制三层氨水催化条件下制备的sio薄膜(“3+0”层sio薄膜)。本文将镀制“1+2”层sio薄膜的45钢试样分别在650℃、700℃、750℃、800℃下焙烧1.5h后,得到其氧化动力学曲线,发现sio薄膜在650℃、700℃、750℃下对45钢抗氧化性能都有明显的改善作用,而在800℃焙烧1.5h后,出现开裂、脱落现象致使sio薄膜的改善作用降低。本文制备的薄膜附着性能好、致密,具有较长的寿命,并可在不同金属材料上制备,为sio薄膜的实际应用开拓更加广泛的空间。

关键词：溶胶-凝胶法 45#钢 sio2薄膜抗氧化性能附着性能

退火对sol-gel法生长的sio2薄膜特性的影响

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功能材料 2004年第z1期35卷 3171-3174页

作者：郭嘉龚明许小亮张慰萍郭海王燎原陈滢滢刘佩尧刘洪图中国科学技术大学物理系安徽合肥230026 中国科学技术大学化学物理系安徽合肥230026中国科学技术大学物理系安徽合肥230026中国科学技术大学物理系安徽合肥230026中国科学技术大学物理系安徽合肥230026中国科学技术大学物理系安徽合肥230026中国科学技术大学物理系安徽合肥230026中国科学技术大学物理系安徽合肥230026中国科学技术大学物理系安徽合肥230026中国科学技术大学物理系安徽合肥230026

用正硅酸乙酯(ETOS),乙醇(EtOH),水以及盐酸以一定的比例混合配制溶胶(其中盐酸为催化剂).以普通浮法玻璃为衬底,用浸渍提拉法制备了厚度为100nm左右的sio2薄膜.对其进行等温和等时退火,用台阶仪测定其厚度变化,给出经验拟合公式.研究... 详细信息

用正硅酸乙酯(ETOS),乙醇(EtOH),水以及盐酸以一定的比例混合配制溶胶(其中盐酸为催化剂).以普通浮法玻璃为衬底,用浸渍提拉法制备了厚度为100nm左右的sio2薄膜.对其进行等温和等时退火,用台阶仪测定其厚度变化,给出经验拟合公式.研究了退火对透过率、折射率以及气孔率的影响,并做出比较详细的理论解释.

关键词：退火 sol-gel sio2薄膜膜厚折射率

Ar/SiCl4大气压等离子体射流沉积sio2薄膜

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西北师范大学学报（自然科学版） 2016年第2期52卷 38-42页

作者：袁强华常小伟李娇娇殷桂琴西北师范大学物理与电子工程学院甘肃省原子分子物理与功能材料重点实验室甘肃兰州730070

以氩气为携带气体,SiCl4为源材料,使用双频(50kHz/33 MHz)组合功率源大气压等离子体射流(APPJ)装置,以空气中的氧气作为氧化物质沉积sio2薄膜.用发射光谱检测等离子体组成物种,并研究了随源材料(SiCl4)含量的不同,体系内各主要物种的变... 详细信息

以氩气为携带气体,SiCl4为源材料,使用双频(50kHz/33 MHz)组合功率源大气压等离子体射流(APPJ)装置,以空气中的氧气作为氧化物质沉积sio2薄膜.用发射光谱检测等离子体组成物种,并研究了随源材料(SiCl4)含量的不同,体系内各主要物种的变化情况并以此得到较优的沉积条件.分别用扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)以及傅里叶红外光谱(FT-IR)对所沉积薄膜的形貌、化学成分和化学结构进行检测.XPS表明薄膜主要组成元素为Si、O以及少量的***-IR显示薄膜化学结构主要为Si-O-Si和Si-OH键.

关键词：大气压等离子体射流双频激发 sio2薄膜

硅基深宽比结构与sio2薄膜的干法刻蚀方法研究

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仪表技术与传感器 2015年第11期 1-3,14页

作者：颜改革韩敬宁殷志富邹赫麟大连理工大学机械工程学院辽宁省微纳米技术及系统重点实验室辽宁大连116023

文中研究了贯穿刻蚀硅基直壁沟槽及沟槽底部sio_2薄膜过刻蚀的深反应离子刻蚀(DRIE)工艺过程。首先,研究了DRIE刻蚀钝化时间比(T_(SF6)∶T_(C4F8))对硅刻蚀形貌的影响。通过工艺参数优化,采用刻蚀钝化时间比分别为9 s/2 s、11 s/2 s(C_4... 详细信息

文中研究了贯穿刻蚀硅基直壁沟槽及沟槽底部sio_2薄膜过刻蚀的深反应离子刻蚀(DRIE)工艺过程。首先,研究了DRIE刻蚀钝化时间比(T_(SF6)∶T_(C4F8))对硅刻蚀形貌的影响。通过工艺参数优化,采用刻蚀钝化时间比分别为9 s/2 s、11 s/2 s(C_4F_8)下电极射频功率为40 W)和11 s/2 s(C_4F_8下电极射频功率为0 W)的三步刻蚀工艺,贯穿刻蚀了宽度为150μm,深度为300μm的直壁沟槽。其次,研究了C_4F_8(八氟环丁烷)钝化气体对sio_2薄膜过刻蚀的现象,采用降低C4F8下电极射频功率方法,减小了C4F8对sio_2薄膜过刻蚀。

关键词：深反应离子刻蚀刻蚀钝化时间比射频功率黑硅 sio2薄膜