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INVESTIGATION ON DEPOSITIONS AND hARDNESS ChARACTERISTICS OF a-sic:h filmS

Acta Metallurgica Sinica(English Letters) 1999年第5期12卷 761-764页

作者： X.F.Rong and Z.Y.Qin College of Mechanical Engineering,Taiyuan University of Technology, Taiyuan 030024, China Taiyuan Univ of Technology Taiyuan China

In this paper, a deposition feature of a sic:h films deposited by a RF sputtering system and a effect on the hardness of the films with various deposition conditions are investigated, and the effects of the silicon on a C:h are studied. It follows from the results that the properties of hardness can be changed with the depositing conditions. An increase of silane in the gas phase allows to deposit a sic:h having tetrahedral structure. The sets of deposition conditions by which the different types of a sic:h films can be deposited are obtained.

关键词： a sic:h film sputtering hardness

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