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scanning and Splicing atom lithography for Self-traceable Nanograting Fabrication

Nanomanufacturing and Metrology 2022年第2期5卷 179-187页

作者： Xiao Deng Wen Tan Zhaohui Tang Zichao Lin Xinbin Cheng Tongbao Li MOE Key Laboratory of Advanced Micro-Structured Materials Tongji UniversityShanghai200092China Institute of Precision Optical Engineering School of Physics Science and EngineeringTongji UniversityShanghai200092China

atom lithography is a unique method to fabricate self-traceable pitch standards and angle standards,but extending its structure area to millimeter-level for application is *** this paper,on the one hand,we put forward a new approach to fabricate a full-covered self-traceable Cr nanograting by inserting and scanning a Dove prism in the Gaussian beam direction of atom *** the other hand,we extend the structure area along the standing-wave direction by splicing two-step atom *** nanostructures manufactured via scanning atom lithography and splicing atom lithography demonstrate good pitch accuracy,parallelism,continuity,and homogeneity,which opens a new way to fabricate centimeter-level full-covered self-traceable nanograting and lays the basis for the application of square ruler and optical encoders at the nanoscale.

关键词： scanning atom lithography Splicing atom lithography Nanograting Self-traceability Dove prism

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