检索结果-南通市图书馆

天津师范大学学报（自然科学版） 2003年第1期23卷 59-62页

作者：刘谦祥郭希铭赵杰天津师范大学物理与电子信息学院天津300074

为解决麦瓦(mevva)离子源束流的径向分布均匀性问题,采取了加入会切磁场的方法.会切磁场的安放位置不同得到束流分布均匀性的程度不同.另外,如安放一纵向磁场对分布的均匀性也有改善,但不如在合适位置安放会切磁场的效果好.

关键词： mevva源电荷密度会切磁场

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

mevva离子源凸形引出电极的研制

Mevva离子源凸形引出电极的研制

2004全国荷电粒子源、粒子束学术会议

作者：吴先映张孝吉李强张胜基张荟星刘安东北京师范大学低能核物理研究所射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京市辐射中心北京师范大学低能核物理研究所射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京市辐射中心北京师范大学低能核物理研究所射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京市辐射中心北京师范大学低能核物理研究所射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京市辐射中心北京师范大学低能核物理研究所射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京市辐射中心北京师范大学低能核物理研究所射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京市辐射中心

介绍了mevva离子源的凸形引出电极的研制。研究表明凸形引出电极可以完成离子束的强制发散功能,从而在较短的引出距离和较小的引出电极面积的条件下得到大的束斑和均匀可应用的束流分布。

关键词： mevva源引出电极束流分布

来源： cnki会议评论

在线全文

cnki会议

学校读者我要写书评

暂无评论

基于载能离子束技术制备超薄无胶挠性覆铜板

表面技术 2023年第9期52卷 313-321页

作者：张一凡闫维卿李倩袁恒沈永清陈琳庞盼欧阳潇廖斌北京师范大学核科学与技术学院北京100875 北京市科学技术研究院北京100083

目的开发超薄的无胶二层挠性覆铜板(2L-FCCL)。方法融合mevva离子注入、磁过滤阴极真空弧和化学电镀技术在柔性聚酰亚胺表面构筑梯度金属化结构,并为超薄无胶二层挠性覆铜板的制备提供解决方案。结果通过XPS、ATR-FTIR光谱及反应分子动... 详细信息

目的开发超薄的无胶二层挠性覆铜板(2L-FCCL)。方法融合mevva离子注入、磁过滤阴极真空弧和化学电镀技术在柔性聚酰亚胺表面构筑梯度金属化结构,并为超薄无胶二层挠性覆铜板的制备提供解决方案。结果通过XPS、ATR-FTIR光谱及反应分子动力学(ReaxFF-MD)模拟证明了Ni+注入过程中聚酰亚胺亚表层互键连网络的形成,这种离子螯合反应带来的机械互锁效应能够极大提高界面附着强度。此外,磁过滤阴极真空弧技术制备的γ(Ni-Cr)合金过渡层具有良好的柔韧性和延展性,有助于Cu膜的后续生长,并增强协同变形能力。通过45°剥离试验测得NiCr合金层与聚酰亚胺基底之间的附着强度为(1.75±0.16)N/mm,而精细化挠性覆铜线路经历1000次弯折试验后在其高变形区域未观察到裂纹萌生或线路剥落现象。结论通过mevva离子注入与磁过滤阴极真空弧技术的耦合可以显著提升挠性覆铜板的机械稳定性,有望应用于高端挠性覆铜板的工业化制备。

关键词：挠性覆铜板离子注入 mevva源磁过滤阴极真空弧分子动力学界面

维普期刊数据库博看期刊

mevva离子注入技术制备DLC:Ni多层厚膜

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

核技术 2008年第11期31卷 806-810页

作者：覃礼钊吴正龙张旭刘安东廖斌北京师范大学低能核物理研究所北京100875 遵义师范学院物理系遵义563000 北京师范大学分析测试中心北京100875

采用金属蒸汽真空弧(Metal Vapor Vacuum Arc,mevva)离子源注入技术,将Ni离子注入到类金刚石(Diamond-like Carbon,DLC)膜中,并重复沉积和注入过程,制备出2个层数分别为10层和15层、厚度达1.0μm和1.5μm、注入剂量不同的DLC:Ni膜样品... 详细信息

采用金属蒸汽真空弧(Metal Vapor Vacuum Arc,mevva)离子源注入技术,将Ni离子注入到类金刚石(Diamond-like Carbon,DLC)膜中,并重复沉积和注入过程,制备出2个层数分别为10层和15层、厚度达1.0μm和1.5μm、注入剂量不同的DLC:Ni膜样品。性能测试结果显示,膜内应力得到有效释放,膜基结合紧密,仍保持较高sp3含量以及较高硬度和弹性模量,是一种制备DLC厚膜的有效方法。

关键词： mevva源类金刚石膜多层膜厚膜

C、Co及C+Co双注入对高速钢机械性能影响的研究

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

核技术 1999年第2期22卷 84-88页

作者：马芙蓉张通和梁宏北京师范大学低能核物理研究所北京100875

采用ＭＥＶＶＡ源离子注入机对高速工具钢（ＨＳＳ）进行了Ｃ、Ｃｏ及Ｃ＋Ｃｏ双注入，并做了硬度、摩擦系数测量和磨损实验。Ｃ离子注入剂量３×１０１７ｃｍ－２，能量６０ｋｅＶ；Ｃｏ离子注入剂量为２×１０１７、４×１０１７... 详细信息

采用ＭＥＶＶＡ源离子注入机对高速工具钢（ＨＳＳ）进行了Ｃ、Ｃｏ及Ｃ＋Ｃｏ双注入，并做了硬度、摩擦系数测量和磨损实验。Ｃ离子注入剂量３×１０１７ｃｍ－２，能量６０ｋｅＶ；Ｃｏ离子注入剂量为２×１０１７、４×１０１７、６×１０１７ｃｍ－２，能量１０２ｋｅＶ。结果表明，不同元素、不同剂量的离子注入均能有效地改善ＨＳＳ的硬度和摩擦磨损特性，从而极大延长ＨＳＳ的工作寿命，且随着注入剂量的增加，改善的效果有所增强。另外，Ｃｏ离子注入有较好的润滑作用，能提高ＨＳＳ表面的韧性和弹性，使其具有良好的自修复能力。

关键词：离子注入高速工具钢 mevva源硬度摩擦钢碳

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

碳、钨离子共注入H13钢表面改性的研究

北京师范大学学报（自然科学版） 2002年第1期38卷 45-47页

作者：马芙蓉张通和梁宏张荟星张孝吉北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室低能核物理研究所北京市辐射中心北京100875

将不同单质机械混合，在不增加注入机离子源数目的基础上实现了不同离子的共注入.发现C+W离子共注入使H13钢表面强化，硬度和抗磨损能力提高，且注量的增大加强了这种强化效果.共注入增强了H13钢的抗均匀腐蚀能力，且比双注入效果好.在... 详细信息

将不同单质机械混合，在不增加注入机离子源数目的基础上实现了不同离子的共注入.发现C+W离子共注入使H13钢表面强化，硬度和抗磨损能力提高，且注量的增大加强了这种强化效果.共注入增强了H13钢的抗均匀腐蚀能力，且比双注入效果好.在开始的15个周期致钝电流密度保持为零.C+W离子共注入提高了H13钢点蚀电位，大注量（4×1017 cm-2）注入时，点蚀电位升高了200mV，而双注入则使点蚀电位有所降低.

关键词： mevva源离子共注入 H13钢抗摩擦磨损抗均匀腐蚀抗点蚀表面改性碳钨

C+Mo离子共注入H13钢中抗腐蚀性能的研究

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

北京师范大学学报（自然科学版） 2002年第1期38卷 59-62页

作者：易仲珍张旭张通和李永良射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京师范大学低能核物理研究所北京市辐射中心北京100875 北京师范大学测试中心北京100875

采用改进了的mevva源阴极对H13钢进行了C+Mo共注入，并做了X射线衍射分析、电化学测量和表面形貌分析.实验结果表明，C+Mo共注入后H13钢表面的抗腐蚀性能得到了改善，表面的致钝电流密度显著降低，点蚀电位明显正移.X射线分析表明，C+M... 详细信息

采用改进了的mevva源阴极对H13钢进行了C+Mo共注入，并做了X射线衍射分析、电化学测量和表面形貌分析.实验结果表明，C+Mo共注入后H13钢表面的抗腐蚀性能得到了改善，表面的致钝电流密度显著降低，点蚀电位明显正移.X射线分析表明，C+Mo共注入后在H13钢表面形成了FeMo，Fe2MoC，Mo2C，γ-Mo2N,Fe7C3和Fe5C2等新相.这些新相在改善材料表面抗腐蚀性能方面起了重要作用.

关键词：抗腐蚀性能电化学测量 H13钢表面改性离子共注入碳钼 mevva源点蚀电位

V^+离子注入制备可见光灵敏TiO_2光催化薄膜

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

北京师范大学学报（自然科学版） 2005年第5期41卷 492-495页

作者：郝凤欢侯兴刚顾雪楠樊斌吴先映刘安东北京师范大学材料科学与工程系北京师范大学低能核物理研究所北京100875

利用金属蒸汽真空弧(mevva)源离子注入机在溶胶凝胶法制备的TiO2薄膜上注入V+.薄膜表面的形态和结构分别用扫描电子显微镜(SEM)和X光衍射仪(XRD)进行了研究.通过紫外可见光漫反射谱仪(UV-Vis)测量了注入和退火后薄膜吸收光谱的扩展.在... 详细信息

利用金属蒸汽真空弧(mevva)源离子注入机在溶胶凝胶法制备的TiO2薄膜上注入V+.薄膜表面的形态和结构分别用扫描电子显微镜(SEM)和X光衍射仪(XRD)进行了研究.通过紫外可见光漫反射谱仪(UV-Vis)测量了注入和退火后薄膜吸收光谱的扩展.在波长λ>400 nm辐照下,甲基橙(MO)水溶液中的光催化实验证明,这种薄膜具备可见光波段的催化能力.这种催化效果在V+注量为1×1016cm-2时最好.

关键词： TiO2光催化剂 mevva源 V^+注入可见光灵敏

Ni离子注入四面体非晶碳(ta-C)膜微观结构研究

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

真空 2008年第5期45卷 49-53页

作者：覃礼钊廖斌吴正龙张旭刘安东北京师范大学低能核物理研究所北京师范大学分析测试中心北京100875

高内应力是阻碍高性能超硬四面体非晶碳(tetrahedral amorphous carbon,ta-C)膜长厚和广泛应用的主要因素。为降低ta-C膜内应力,本文采用金属蒸汽真空弧(metal vapor vacuum arc,mevva)离子源注入技术,注入Ni离子到用磁过滤阴极真空弧(f... 详细信息

高内应力是阻碍高性能超硬四面体非晶碳(tetrahedral amorphous carbon,ta-C)膜长厚和广泛应用的主要因素。为降低ta-C膜内应力,本文采用金属蒸汽真空弧(metal vapor vacuum arc,mevva)离子源注入技术,注入Ni离子到用磁过滤阴极真空弧(filtered cathodic vacuumarc,FCVA)沉积的ta-C膜中,制备出掺Ni膜(ta-C:Ni膜)。用XPS、XRD、Raman谱和SEM表征膜的微观结构。结果显示,膜sp3含量减小,发生了石墨化,石墨颗粒细化;Ni在膜中以单质Ni的形式存在,并且有Ni纳米晶体析出;膜表面均匀分布约10nm颗粒。对膜在结构上的变化作了讨论。

关键词： Ni离子注入四面体非晶碳(ta—C)膜 mevva源微观结构

WC-Co合金表面离子注入法制备钇涂层及其摩擦学性能

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

材料保护 2019年第8期52卷 83-87页

作者：李聪宋俊王金凤湖北汽车工业学院材料科学与工程学院湖北十堰442002 湖北汽车工业学院机械工程学院湖北十堰442002

为了提高硬质合金的表面耐磨性能,在通入氮气和未通入氮气的2种情况下,利用金属蒸气真空弧(mevva)离子源采用离子注入法在YG8型WC-Co合金表面成功制备了钇涂层。结果发现:注入钇离子不仅可以'修复'基体表面的缺陷,而且还能使合金表面变... 详细信息

为了提高硬质合金的表面耐磨性能,在通入氮气和未通入氮气的2种情况下,利用金属蒸气真空弧(mevva)离子源采用离子注入法在YG8型WC-Co合金表面成功制备了钇涂层。结果发现:注入钇离子不仅可以'修复'基体表面的缺陷,而且还能使合金表面变得平整光滑;XRD显示在涂层表层发现Y2O3、YC2和W3N4 3种新相,这些新相化合物可以显著降低合金表面的摩擦系数,这是由于离子注入时离子的反冲碰撞生成了结构致密且容易缝合于金属表面的氧化物薄膜,以及由级联效应产生的无位错和晶界的非晶态结构,二者可以共同改善基体的表面粗糙度,降低材料表面的摩擦系数。通入氮气对钇离子注入YG8硬质合金后降低其表面摩擦系数起到了促进作用。

关键词： WC-Co硬质合金钆涂层 mevva源离子注入摩擦学性能