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Monte Carlo Simulations of Elastic Scattering with Applications to DC and High Power Pulsed Magnetron Sputtering for Ti3_(S)iC_(2)

引用

Communications in Computational Physics 2012年第5期11卷 1618-1642页

作者： Jurgen Geiser Sven Blankenburg Department of Mathematics Humboldt-Universitat zu BerlinD-10099 BerlinGermany Department of Physics Humboldt-Universitat zu BerlinD-10099 BerlinGermany.

We simulate the particle transport in a thin film deposition process made by PVD(physical vapor deposition)and present several models for projectile and target collisions in order to compute the mean free path and the differential cross section(angular distribution of scattered projectiles)of the scattering process.A detailed description of collision models is of the highest importance in Monte Carlo simulations of high power impulse magnetron sputtering and DC *** derive an equation for the mean free path for arbitrary interactions(cross sections)that includes the relative velocity between the *** apply our results to two major interaction models:hard sphere interaction&screened Coulomb *** types of interaction separate DC sputtering from HIPIMS.

关键词： DC sputtering max-phases mean free path particle in cell Monte Carlo collisions Monte Carlo Markov chain

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